Nova Patents
PL199170B1

Photocatalytically activated self-cleaning product and method of manufacturing same

Abstract

This record has no abstract on file.

PL199170B1, drawing sheet 1
Sheet 1 of 2

Term

Term ended

Expired 12 March 2018, 8.5 years ago.

  1. Priority
  2. Filed
  3. Granted
  4. Expired
  5. Today

14 claims: 1 independent, 13 dependent

  1. 1
    Sposób wywarzania aktywowanego fotokatalitycznie wyrobu samooczyszczającego się, znamienny tym, że wytwarza się wyrób szklany mający co najmniej jedną powierzchnię w procesie wytwarzania szkła float, osadza się aktywowaną fotokatalitycznie samooczyszczającą się powłokę o grubości co najmniej 20 nm, zawierającą tlenek metalu wybrany z grupy obejmującej tlenki tytanu, tlenki żelaza, tlenki srebra, tlenki miedzi, tlenki wolframu, tlenki glinu, tlenki krzemu, cyniany cynku, tlenki molibdenu, tlenki cynku, tytanian strontu i ich mieszaniny na powierzchni tego wyrobu w procesie wybranym z grupy obejmującej chemiczne osadzanie z fazy gazowej i pirolizę natryskową podczas procesu wytwarzania szkła gdy wstęga szkła float przemieszcza się przez kąpiel z cyny, przy czym wykorzystuje się część całkowitej grubości aktywowanej fotokatalitycznie samooczyszczącej się powłoki jako warstwę zapobiegającą zatruciu jonami sodu, osadzając aktywowaną fotokatalitycznie samooczyszczającą się powłokę o grubości przewyższającej grubość minimalną umożliwiając jonom sodu migrację tylko przez część całkowitej grubości aktywowanej fotokatalitycznie powłoki w czasie, w którym temperatura podłoża przewyższa temperaturę umożliwiają migrację jonów sodu i zachowując aktywowaną fotokatalitycznie samooczyszczającą się powłokę przeciwległą do powierzchni podłoża albo przed osadzeniem aktywowanej fotokatalitycznie samooczyszczającej się powłoki osadza się na powierzchni wyrobu szklanego warstwę barierową dla dyfuzji jonów sodu o grubości co najmniej 10 nm sposobem wybranym z grupy obejmującej chemiczne osadzanie z fazy gazowej i pirolizę natryskową, która to warstwa barierowa dla dyfuzji jonów sodu jest wybrana z grupy składającej się z krystalicznego tlenku metalu, bezpostaciowego tlenku metalu i ich mieszanin i stanowi warstwę zapobiegającą zatruciu jonami sodu oraz migracji jonów sodu.
  2. 2
    Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że ponadto wygrzewa się aktywowaną fotokatalitycznie samooczyszczającą się powłokę zwiększając szybkość reakcji fotokatalitycznej aktywowanej fotokatalitycznie samooczyszczającej się powłoki.
  3. 3
    Sposób według zastrz. 2, znamienny tym, że wygrzewanie obejmuje ogrzewanie aktywowanej fotokatalitycznie samooczyszczającej się powłoki do temperatury 500°C przez okres co najmniej 3 minut i kontrolowane chłodzenie aktywowanej fotokatalitycznie samooczyszczającej się powłoki.
  4. 4
    Sposób według zastrz. 3, znamienny tym, że aktywowana fotokatalitycznie samooczyszczającą się powłoka wykazuje szybkość reakcji fotokatalitycznej co najmniej 2 x 10 -3 cm -1 min -1 , przy czym szybkość reakcji fotokatalitycznej określa się jako natężenie usuwania testowej warstwy kwasu stearynowego o grubości w zakresie od 10 do 20 nm odłożonej na aktywowanej fotokatalitycznie samooczyszczającej się powłoce, gdzie szybkość reakcji fotokatalitycznej określa się ilościowo jako nachylenie krzywej utworzonej przez wykreślenie wielu pomiarów spektrofotometrem w podczerwieni z transformatą Fouriera scałkowanego natężenia pasm absorpcji drgań rozciągających węgiel-wodór dla testowej warstwy kwasu stearynowego względem łącznego czasu wystawienia aktywowanej fotokatalitycznie samooczyszczającej się powłoki na promieniowanie nadfioletowe o częstotliwości w zakresie od około 300 do 400 nanometrów dostarczane przez źródło promieniowania nadfioletowego umieszczone nad aktywowaną fotokatalitycznie samooczyszczającą się powłoką i mające natężenie PL 199 170 B1 około 20 Watów na metr kwadratowy mierzone na powierzchni aktywowanej fotokatalitycznie samooczyszczającej się powłoki.
  5. 5
    Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że aktywowana fotokatalitycznie samooczyszczającą się powłoka zawiera ditlenek tytanu wybrany z grupy obejmującej anatazowy ditlenek tytanu, rutylowy ditlenek tytanu, brukitowy ditlenek tytanu i ich mieszaniny oraz kombinacje faz anatazowej i/lub rutylowej z fazami brukitową i/lub bezpostaciową.
  6. 6
    Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że osadza się aktywowaną fotokatalitycznie samooczyszczającą się powłokę, umieszczając aparat powlekający metodą chemicznego osadzania z fazy gazowej nad powierzchnią wstęgi szkła float w chwili wytwarzania, gdy wstęga szkła float przemieszcza się przez kąpiel z cyny i skierowuje się prekursor tlenku metalu wybrany z grupy obejmującej tetrachlorek tytanu, tetraizopropanolan tytanu i tetraetanolan tytanu w strumieniu gazu nośnego przez aparat do chemicznego osadzania z fazy gazowej na powierzchnię wstęgi szkła float i wygrzewa się wstęgę szkła float wytwarzając aktywowaną fotokatalitycznie samooczyszczającą się powłokę z ditlenku tytanu.
  7. 7
    Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że osadza się aktywowaną fotokatalitycznie samooczyszczającą się powłokę umieszczając aparat powlekający metodą pirolizy natryskowej nad powierzchnią wstęgi szkła float, gdy wstęga szkła float przemieszcza się przez kąpiel z cyny, przy czym piroliza natryskowa obejmuje skierowanie wodnej zawiesiny prekursora tlenku metalu acetyloacetonianu tytanylu i środka zwilżającego w środowisku wodnym, przez aparat powlekający metodą pirolizy natryskowej na powierzchnię wstęgi szkła float i wygrzewa się wstęgę szkła float na powietrzu wytwarzając aktywowaną fotokatalitycznie samooczyszczającą się powłokę z ditlenku tytanu na wstędze szkła float.
  8. 8
    Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że aktywowana fotokatalitycznie samooczyszczającą się powłoka ma grubość co najmniej 20 nm.
  9. 9
    Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że aktywowana fotokatalitycznie samooczyszczającą się powłoka ma grubość co najmniej 40 nm.
  10. 10
    Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że aktywowana fotokatalitycznie samooczyszczającą się powłoka ma grubość co najmniej 50 nm.
  11. 11
    Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że warstwa barierowa dla dyfuzji jonów sodu jest wybrana z grupy składającej się z tlenków cyny, tlenków krzemu, tlenków tytanu, tlenków cyrkonu, tlenków cyny domieszkowych fluorem, tlenków glinu, tlenków magnezu, tlenków cynku, tlenków kobaltu, tlenków chromu, tlenków żelaza i ich mieszanin.
  12. 12
    Sposób według zastrz. 11, znamienny tym, że grubość warstwy barierowej dla dyfuzji jonów sodu wynosi co najmniej 25 nm.
  13. 13
    Sposób według zastrz. 11, znamienny tym, że grubość warstwy barierowej dla dyfuzji jonów sodu wynosi co najmniej 40 nm.
  14. 14
    Sposób według zastrz. 11, znamienny tym, że grubość warstwy barierowej dla dyfuzji jonów sodu wynosi co najmniej 50 nm.
Independent claims14