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CN1541196A

Visible-light-responsive photoactive coating, coated article, and method of making same

Abstract

The present invention provides a photoactive coating for forming a light absorption band in the visible region of the electromagnetic spectrum. The method includes depositing the precursor composition onto at least a portion of the float glass ribbon in the molten metal bath through a CVD coating device. The precursor composition includes a titanium dioxide precursor material and at least one selected from chromium (Cr), vanadium (V), manganese (Mn), copper (Cu), iron (Fe), magnesium (Mg), scandium (Sc), Yttrium (Y), niobium (Nb), molybdenum (Mo), ruthenium (Ru), tungsten (W), silver (Ag), lead (Pb), nickel (Ni), rhenium (Re), and other mixtures thereof Precursor material.

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Term ended

Projected expiry passed 12 July 2022, 4.2 years ago.

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42 claims: 4 independent, 38 dependent

  1. 1
    一种形成涂层的方法，包括步骤：将前体组合物通过CVD涂覆设备沉积到至少一部分基材表面上，所述前体组合物包含：(a)金属氧化物前体材料；和(b)光吸收带改变前体材料。
  2. 2
    权利要求1的方法，其中金属氧化物前体材料是二氧化钛前体材料。
  3. 3
    权利要求2的方法，其中二氧化钛前体材料选自四氯化钛，钛醇盐，和其混合物。
  4. 4
    权利要求3的方法，其中二氧化钛前体材料选自异丙醇钛和四乙醇钛。
  5. 5
    权利要求1的方法，其中所述材料(b)包括选自铬(Cr)，钒(V)，锰(Mn)，铜(Cu)，铁(Fe)，镁(Mg)，钪(Sc)，钇(Y)，铌(Nb)，钼(Mo)，钌(Ru)，钨(W)，银(Ag)，铅(Pb)，镍(Ni)，铼(Re)，和其混合物或组合的至少一种金属。
  6. 6
    权利要求1的方法，其中所述材料(b)设计成改变涂层的光吸收带以包括不在没有材料(b)的涂层的光吸收带中的至少一部分可见电磁波谱。
  7. 7
    权利要求1的方法，其中所述材料(b)设计成改变涂层的光吸收带以包括至少一个在400nm-800nm范围内的波长。
  8. 8
    权利要求1的方法，其中所述材料(b)至少部分可溶于材料(a)。
  9. 9
    权利要求1的方法，其中所述基材是浮法玻璃带和所述方法包括将前体材料沉积到浮法玻璃带上。
  10. 10
    权利要求1的方法，其中所述基材是在熔融金属浴中的浮法玻璃带和所述方法包括将前体材料沉积到金属浴中的浮法玻璃带上。
  11. 11
    权利要求9的方法，其中浮法玻璃带位于熔融金属浴和退火炉之间。
  12. 12
    权利要求1的方法，其中涂层在暴露于在400nm-800nm范围内的电磁能量时是光催化的。
  13. 13
    权利要求1的方法，其中涂层在暴露于在400nm-800nm范围内的电磁能量时是光活性亲水的。
  14. 14
    一种形成其光吸收带包括电磁波谱的至少一部分可见区域的光活性涂层的方法，包括步骤：通过CVD涂覆设备将前体组合物沉积到熔融金属浴中的至少一部分浮法玻璃带上，所述前体组合物包含：二氧化钛前体材料；和具有选自铬(Cr)，钒(V)，锰(Mn)，铜(Cu)，铁(Fe)，镁(Mg)，钪(Sc)，钇(Y)，铌(Nb)，钼(Mo)，钌(Ru)，钨(W)，银(Ag)，铅(Pb)，镍(Ni)，铼(Re)，和其混合物的金属的至少一种其它前体材料。
  15. 15
    权利要求12的方法，其中二氧化钛前体材料选自四氯化钛和钛醇盐。
  16. 16
    权利要求15的方法，其中二氧化钛前体材料选自异丙醇钛和四乙醇钛。
  17. 17
    权利要求14的方法，包括将基材加热至足以使二氧化钛前体材料和其它前体材料分解形成光活性涂层的温度。
  18. 18
    权利要求14的方法，其中光活性涂层在暴露于400nm-800nm的电磁能量时是光催化的。
  19. 19
    权利要求14的方法，其中光活性涂层在暴露于400nm-800nm的电磁能量时是光活性亲水的。
  20. 20
    权利要求14的方法，包括沉积足够的前体组合物使得光催化涂层具有厚度约50埃-约2000埃。
  21. 21
    权利要求14的方法，包括在所述带和光催化涂层之间沉积中间层。
  22. 22
    权利要求21的方法，其中中间层是抗反射层。
  23. 23
    权利要求22的方法，其中抗反射层包含氧化铝，氧化锡，氧化铟，氧化硅，氧碳化硅，和氧氮化硅中至少一种。
  24. 24
    权利要求21的方法，其中中间层是钠离子扩散阻挡层。
  25. 25
    权利要求24的方法，其中阻挡层包括氧化硅，氮化硅，氧氮化硅，氧碳化硅，氧化铝，氟掺杂氧化铝，氮化铝，和其混合物中至少一种。
  26. 26
    一种制品，包括：具有至少一个表面的基材；和沉积到至少一部分该基材表面上的涂层，其中该涂层包含二氧化钛和选自铬(Cr)，钒(V)，锰(Mn)，铜(Cu)，铁(Fe)，镁(Mg)，钪(Sc)，钇(Y)，铌(Nb)，钼(Mo)，钌(Ru)，钨(W)，银(Ag)，铅(Pb)，镍(Ni)，铼(Re)，和其混合物中至少一种的其它的材料，和其中涂层通过化学气相沉积沉积到基材上。
  27. 27
    权利要求26的制品，其中基材选自玻璃，塑料，和陶瓷。
  28. 28
    权利要求26的制品，其中制品是绝热玻璃单元和基材是绝热玻璃单元的至少一个窗格。
  29. 29
    权利要求26的制品，其中基材选自退火玻璃，回火玻璃，和热增强玻璃。
  30. 30
    权利要求26的制品，其中制品是建筑上的透明体。
  31. 31
    权利要求26的制品，其中涂层直接在基材表面上沉积。
  32. 32
    权利要求26的制品，其中涂层包含至少部分为锐钛矿相的二氧化钛。
  33. 33
    权利要求26的制品，其中涂层包含至少部分为金红石相的二氧化钛。
  34. 34
    权利要求26的制品，其中基材包括至少一个其中扩散有锡的表面。
  35. 35
    权利要求26的制品，其中涂层具有厚度约50埃-约2000埃。
  36. 36
    权利要求26的制品，其中基材是浮法玻璃带。
  37. 37
    权利要求26的制品，包括位于基材表面和涂层之间的至少一中间层。
  38. 38
    权利要求37的制品，其中中间层是抗反射层。
  39. 39
    权利要求37的制品，其中中间层是钠离子扩散阻挡层。
  40. 40
    权利要求38的制品，其中抗反射层包含氧化铝，氧化锡，氧化铟，氧化硅，氧碳化硅，氧氮化硅，和其混合物中至少一种。
  41. 41
    权利要求39的制品，其中阻挡层包含氧化锡，氧化硅，氧化钛，氧化锆，氟-掺杂氧化锡，氧化铝，氧化镁，氧化锌，氧化钴，氧化铬，氧化铁，和其混合物中至少一种。
  42. 42
    一种形成涂层的方法，包括步骤：将钠离子扩散阻挡层沉积到至少一部分基材上；将光活性涂层沉积到至少一部分阻挡层上；和通过离子注入将至少一种所选金属注入光活性涂层以形成吸收带包括至少一个在400nm-800nm范围内的波长的光活性涂层。
Independent claims42