EP1417158B1

Photoactive coating, coated article, and method of making same

Abstract

A method of forming a photocatalytic coating includes depositing a precursor composition over at least a portion of a substrate surface by a coating device. The precursor composition includes a titania precursor material and at least one other precursor material having a metal selected from boron, strontium, zirconium, lead, barium, calcium, hafnium, lanthanum, and mixtures thereof. Sufficient other precursor material is added to the composition such that a molar ratio of the selected metal to titanium in the applied photocatalytic coating is in the range of about 0.001 to about 0.05.

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Expired 12 July 2022, 4.2 years ago.

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44 claims: 44 independent, 0 dependent

  1. 1
    A method of forming a photoactive coating, comprising the step of:depositing a precursor composition over at least a portion of a substrate surface, the precursor composition comprising: a photoactive coating precursor material;andat least one other precursor material comprising a dopant that increases photoactivity of the photoactive coating over that of the photoactive coating without the dopant. Procédé de formation d'un revêtement photoactif, comprenant l'étape de dépôt d'une composition de précurseur sur au moins une partie d'une surface de substrat, la composition de précurseur comprenant : une matière de précurseur de revêtement photoactive;et au moins une autre matière de précurseur comprenant un dopant qui augmente la photoactivité du revêtement photoactif par rapport à celle du revêtement photoactif sans le dopant. Verfahren zur Herstellung einer photoaktiven Beschichtung, umfassend die Schritte: Abscheiden einer Vorläuferzusammensetzung auf wenigstens einem Teil einer Substratoberfläche, wobei die Vorläuferzusammensetzung enthält: ein Vorläufermaterial für eine photoaktive Beschichtung undwenigstens ein anderes Vorläufermaterial, das ein Dotierungsmaterial enthält, das die Photoaktivität der photoaktiven Beschichtung gegenüber der einer photoaktiven Beschichtung ohne das Dotierungsmaterial erhöht.
  2. 2
    Procédé suivant la revendication 1, comprenant le dépôt du revêtement photoactif par un procédé choisi parmi un dépôt chimique en phase vapeur, un dépôt sous vide à pulvérisation du type à magnétron et une pyrolyse par pulvérisation. The method of claim 1, including depositing the photoactive coating by a process selected from chemical vapor deposition. magnetron sputtered vacuum deposition, and spray pyrolysis. Verfahren nach Anspruch 1, das das Abscheiden der photoaktiven Beschichtung durch ein Verfahren, ausgewählt aus chemischer Dampfphasenabscheidung, Magnetron-Sputter-Vakuumabscheidung und Spray-Pyrolyse, beinhaltet.
  3. 3
    Procédé suivant la revendication 1, dans lequel la composition de précurseur est déposée par dépôt chimique en phase vapeur sur au moins une partie d'un ruban de verre flotté dans un bain de métal fondu. The method of claim 1, wherein the precursor composition is deposited by chemical vapor deposition over at least a portion of a float glass ribbon in a molten metal bath. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Vorläuferzusammensetzung durch chemische Dampfphasenabscheidung auf wenigstens einem Teil eines Floatglasbandes in einem geschmolzenen Metallbad abgeschieden wird.
  4. 4
    Procédé suivant l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel la matière de précurseur de revêtement photoactive comprend une matière de précurseur d'oxyde de titane. The method of any of the preceding claims, wherein the photoactive coating precursor material comprises a titania precursor material. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei das Vorläufermaterial für die photoaktive Beschichtung ein Titandioxidvorläufermaterial enthält.
  5. 5
    Procédé suivant la revendication 4, dans lequel la matière de précurseur d'oxyde de titane est choisie parmi un alcoxyde de titane, le tétrachlorure de titane et leurs mélanges. The method of claim 4, wherein the titania precursor material is selected from titanium alkoxide, titanium tetrachloride, and mixtures thereof. Verfahren nach Anspruch 4, wobei das Titandioxidvorläufermaterial ausgewählt ist aus Titanalkoxid, Titantetrachlorid und Mischungen davon.
  6. 6
    Procédé suivant la revendication 5, dans lequel l'alcoxyde de titane est choisi parmi le méthoxyde de titane, l'éthoxyde de titane, le tétraéthoxyde de titane, le propoxyde de titane, le butoxyde de titane, leurs isomères et leurs mélanges. The method of claim 5, wherein the titanium alkoxide is selected from titanium methoxide, titanium ethoxide, titanium tetraethoxide, titanium propoxide, titanium butoxide, isomers thereof, and mixtures thereof. Verfahren nach Anspruch 5, wobei das Titanalkoxid ausgewählt ist aus Titanmethoxid, Titanethoxid, Titantetraethoxid, Titanpropoxid, Titanbutoxid, Isomeren davon und Mischungen davon.
  7. 7
    Procédé suivant la revendication 1, dans lequel au moins l'autre matière de précurseur comprend un alcoxyde organométallique. The method of claim 1, wherein the at least one other precursor material comprises an organometallic alkoxide. Verfahren nach Anspruch 1, wobei das wenigstens eine andere Vorläufermaterial ein organometallisches Alkoxid enthält.
  8. 8
    Procédé suivant la revendication 7, dans lequel au moins l'autre matière de précurseur comprend au moins un alcoxyde de métal de transition ayant un point d'ébullition inférieur à 200°C. The method of claim 7, wherein the at least one other precursor material comprises at least one transition metal alkoxide having a boiling point less than 200°C. Verfahren nach Anspruch 7, wobei das wenigstens eine andere Vorläufermaterial wenigstens ein Übergangsmetallalkoxid mit einem Siedepunkt von weniger als 200°C umfasst.
  9. 9
    Procédé suivant l'une ou l'autre des revendications 7 et 8, dans lequel l'alcoxyde organométallique est choisi dans le groupe comprenant les alcoxydes de bore, strontium, zirconium, plomb, baryum, calcium, hafnium, lanthane et leurs mélanges. The method of claim 7 or 8, wherein the organometallic alkoxide is selected from the group consisting of alkoxides of boron, strontium, zirconium, lead, barium, calcium, hafnium, lanthanum, and mixtures thereof. Verfahren nach Anspruch 7 oder 8, wobei das organometallische Alkoxid ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus Alkoxiden von Bor, Strontium, Zirconium, Blei, Barium, Calcium, Hafnium, Lanthan und Mischungen davon.
  10. 10
    Procédé suivant la revendication 1, dans lequel au moins l'autre matière de précurseur est choisie parmi les trialkyl borates, les alcoxydes de strontium, les alkylplombs, les alkylalcoxydes de zirconium, les alcoxydes de lanthane, l'éthoxyde de strontium, le 2-éthylhexanoate de strontium, l'hexafluoroacétylacétonate de strontium, l'isopropoxyde de strontium, le méthoxyde de strontium, l'éthoxyde de strontium-tantale, l'isopropoxyde de strontium-titane, le triéthyl borate, le plomb tétra-n-butyle, le 2-méthyl-2-butoxyde de zirconium, l'isopropoxyde de lanthane et leurs mélanges. The method of claim 1, wherein the at least one other precursor material is selected from trialkyl borate, strontium alkoxide, alkyllead, zirconium alkylalkoxide, lanthanum alkoxide, strontium ethoxide, strontium-2-ethylhexanoate, strontium hexafluoroacetylacetonate, strontium isopropoxide, strontium methoxide, strontium tantalum ethoxide, strontium titanium isopropoxide, triethyl borate, tetra-n-butyl lead, zirconium-2-methyl-2-butoxide, lanthanum isopropoxide, and mixtures thereof. Verfahren nach Anspruch 1, wobei das wenigstens eine andere Vorläufermaterial ausgewählt ist aus Trialkylborat, Strontiumalkoxid, Bleialkyl, Zirconiumalkylalkoxid, Lanthanalkoxid, Strontiumethoxid, Strontium-2-ethylhexanoat, Strontiumhexafluoracetylacetonat, Strontiumisopropoxid, Strontiummethoxid, Strontiumtantalethoxid, Strontiumtitanisopropoxid, Triethylborat, Tetra-n-butylblei, Zirconium-2-methyl-2-butoxid, Lanthanisopropoxid und Mischungen davon.
  11. 11
    Procédé suivant la revendication 4, comprenant l'addition de suffisamment d'autre matière de précurseur de telle sorte que le rapport molaire du dopant au titane dans le revêtement photoactif appliqué se situe dans la plage d'environ 0,001 à 0,05. The method of claim 4, including adding sufficient other precursor material such that a molar ratio of the dopant to titanium in the applied photoactive coating is in the range of about 0.001 to 0.05. Verfahren nach Anspruch 4, das Zugeben von ausreichend anderem Vorläufermaterial umfasst, so dass das molare Verhältnis des Dotierungsmittels zu Titan in der aufgebrachten photoaktiven Beschichtung im Bereich von etwa 0,001 bis 0,05 liegt.
  12. 12
    Procédé suivant l'une quelconque des revendications 4 à 11, comprenant :le chauffage de la matière de précurseur d'oxyde de titane et de l'autre matière de précurseur à une température suffisante pour vaporiser les matières de précurseur;etl'introduction de la composition de précurseur vaporisée dans un gaz de support de telle sorte que le rapport des matières de précurseur vaporisées au gaz de support se situe dans la plage de 0,01 % en volume à 0,06 % en volume. The method of any of claims 4-11, including: heating the titania precursor material and the other precursor material to a temperature sufficient to vaporize the precursor materials: andintroducing the vaporized precursor composition into a carrier gas such that a ratio of the vaporized precursor materials to the carrier gas is in the range of 0.01 volume percent to 0.06 volume percent. Verfahren nach einem der Ansprüche 4-11 umfassend: Erwärmen des Titandioxidvorläufermaterials und des anderen Vorläufermaterials auf eine Temperatur, die ausreicht, um die Vorläufermaterialien zu verdampfen, undEinbringen der verdampften Vorläuferzusammensetzung in ein Trägergas, so dass das Verhältnis der verdampften Vorläufermaterialien zu dem Trägergas im Bereich von 0,01 Vol.-% bis 0,06 Vol.-% liegt.
  13. 13
    Procédé suivant la revendication 1, la composition de précurseur comprenant du tétrachlorure de titane, une source d'oxygène organique et une matière de précurseur contenant du bore. The method of claim 1, the precursor composition comprising titanium tetrachloride, a source of organic oxygen, and a boron containing precursor material. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Vorläuferzusammensetzung Titantetrachlorid, eine Quelle von organischem Sauerstoff und ein borhaltiges Vorläufermaterial enthält.
  14. 14
    Procédé suivant la revendication 13, dans lequel la source d'oxygène organique est un ester alkylique comportant un groupe alkyle en C2 à C10. The method of claim 13, wherein the source of organic oxygen is an alkyl ester having a C2 to C10 alkyl group. Verfahren nach Anspruch 13, wobei die Quelle von organischem Sauerstoff ein Alkylester mit einer C2- bis C10-Alkylgruppe ist.
  15. 15
    Procédé suivant la revendication 13, dans lequel la matière de précurseur comprend du triéthyl borate. The method of claim 13, wherein the precursor material comprises triethyl borate. Verfahren nach Anspruch 13, wobei das Vorläufermaterial Triethylborat enthält.
  16. 16
    Procédé suivant l'une quelconque des revendications précédentes, comprenant le dépôt de suffisamment de composition de précurseur de telle sorte que le revêtement photoactif ait une épaisseur dans la plage d'environ 50 Å à environ 2000 Å. The method of any of the preceding claims, including depositing sufficient precursor composition such that the photoactive coating has a thickness in the range of about 50Å to about 2000Å. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, umfassend Abscheiden von ausreichend Vorläuferzusammensetzung, so dass die photoaktive Beschichtung eine Dicke im Bereich von etwa 50 Å bis etwa 2000 Å aufweist.
  17. 17
    Procédé suivant l'une quelconque des revendications précédentes, comprenant le dépôt du revêtement photoactif directement sur la surface du substrat. The method of any of the preceding claims, including depositing the photoactive coating directly onto the substrate surface. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, umfassend Abscheiden der photoaktiven Beschichtung direkt auf die Substratoberfläche.
  18. 18
    Procédé suivant l'une quelconque des revendications 1 à 16, comprenant le dépôt d'un revêtement intermédiaire entre la surface du substrat et le revêtement photoactif. The method of any of claims 1-16, including depositing an intermediate coating between the substrate surface and the photoactive coating. Verfahren nach einem der Ansprüche 1-16, umfassend Abscheiden einer Zwischenbeschichtung zwischen der Substratoberfläche und der photoaktiven Beschichtung.
  19. 19
    Procédé suivant la revendication 18, dans lequel la couche intermédiaire est une couche antiréfléchissante. The method of claim 18, wherein the intermediate layer is an antireflective layer. Verfahren nach Anspruch 18, wobei die Zwischenschicht eine antireflektierende Schicht ist.
  20. 20
    Procédé suivant la revendication 19, dans lequel la couche antiréfléchissante comprend au moins un composé parmi l'oxyde d'aluminium, l'oxyde d'étain, l'oxyde d'indium, l'oxyde de silicium, l'oxycarbure de silicium et l'oxynitrure de silicium. The method of claim 19, wherein the antireflective layer comprises at least one of aluminum oxide, tin oxide, indium oxide, silicon oxide, silicon oxycarbide, and silicon oxynitride. Verfahren nach Anspruch 19, wobei die antireflektierende Schicht wenigstens eins aus Aluminiumoxid, Zinnoxid, Indiumoxid, Siliciumoxid, Siliciumoxycarbid und Siliciumoxynitrid enthält.
  21. 21
    Procédé suivant la revendication 18, dans lequel la couche intermédiaire est une couche formant barrière à la diffusion d'ions de sodium. The method of claim 18, wherein the intermediate layer is a sodium ion diffusion barrier layer. Verfahren nach Anspruch 18, wobei die Zwischenschicht eine Natriumionendiffusionssperrschicht ist.
  22. 22
    Procédé suivant la revendication 21, dans lequel la couche formant barrière comprend au moins un composé parmi l'oxyde de silicium, le nitrure de silicium, l'oxynitrure de silicium, l'oxycarbure de silicium, l'oxyde d'aluminium, l'oxyde d'aluminium dopé au fluor et le nitrure d'aluminium. The method of claim 21, wherein the barrier layer includes at least one of silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, silicon oxycarbide, aluminum oxide, fluorine doped aluminum oxide, and aluminum nitride. Verfahren nach Anspruch 21, wobei die Sperrschicht wenigstens eins aus Siliciumoxid, Siliciumnitrid, Siliciumoxynitrid, Siliciumoxycarbid, Aluminiumoxid, fluordotiertem Aluminumoxid und Aluminiumnitrid enthält.
  23. 23
    Procédé suivant la revendication 18, dans lequel le revêtement intermédiaire comprend au moins un composé parmi l'oxyde d'étain, l'oxyde d'aluminium et l'oxyde de zirconium. The method of claim 18, wherein the intermediate coating comprises at least one of tin oxide, aluminum oxide, and zirconium oxide. Verfahren nach Anspruch 18, wobei die Zwischenbeschichtung wenigstens eins aus Zinnoxid, Aluminiumoxid und Zirconiumoxid enthält.
  24. 24
    Procédé suivant l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le revêtement photoactif est photocatalytique. The method of any of the preceding claims, wherein the photoactive coating is photocatalytic. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die photoaktive Schicht photokatalytisch ist.
  25. 25
    Procédé suivant l'une quelconque des revendications 1 à 23, dans lequel le revêtement photoactif est photoactivement hydrophile. The method of any of claims 1-23, wherein the photoactive coating is photoactively hydrophilic. Verfahren nach einem der Ansprüche 1-23, wobei die photoaktive Schicht photoaktiv hydrophil ist.
  26. 26
    An article, comprising, a substrate having at least one surface; anda photocatalytic coating deposited over at least a portion of the substrate surface,wherein the photocatalytic coating comprises titania and at least one additional material comprising at least one metal selected from boron, strontium, zirconium, lead, barium, calcium, hafnium, and lanthanum, andwherein the additional material is present in the coating in an amount such that a molar ratio of the selected metal to titanium in the photocatalytic coating is in the range of about 0.001 to about 0.05. Article, comprenant :un substrat comportant au moins une surface;etun revêtement photocatalytique déposé sur au moins une partie de la surface du substrat,dans lequel le revêtement photocatalytique comprend de l'oxyde de titane et au moins une matière additionnelle comprenant au moins un métal choisi parmi le bore, le strontium, le zirconium, le plomb, le baryum, le calcium, l'hafnium et le lanthane, etdans lequel la matière additionnelle est présente dans le revêtement en une quantité telle que le rapport molaire du métal choisi au titane dans le revêtement photocatalytique se situe dans la plage d'environ 0,001 à environ 0,05. Gegenstand, enthaltend: ein Substrat mit wenigstens einer Oberfläche undeine photokatalytische Beschichtung, die auf wenigstens einem Teil der Substratoberfläche abgeschieden ist,wobei die photokatalytische Beschichtung Titandioxid und wenigstens ein zusätzliches Material enthält, das ein Metall enthält, ausgewählt aus Bor, Strontium, Zirconium, Blei, Barium, Calcium, Hafnium und Lanthan, undwobei das zusätzliche Material in der Beschichtung in einer Menge vorhanden ist, so dass das molare Verhältnis des ausgewählten Metalls zu Titan in der photokatalytischen Beschichtung im Bereich von etwa 0,001 bis etwa 0,05 liegt.
  27. 27
    Article suivant la revendication 26, dans lequel le substrat est choisi parmi le verre, le plastique et la céramique. Gegenstand nach Anspruch 26, wobei das Substrat ausgewählt ist aus Glas, Kunststoff und keramischen Materialien. The article of claim 26, wherein the substrate is selected from glass, plastic, and ceramic.
  28. 28
    Article suivant la revendication 26, dans lequel l'article est monolithe. Gegenstand nach Anspruch 26, wobei der Gegenstand monolithisch ist. The article of claim 26, wherein the article is monolithic.
  29. 29
    Article suivant la revendication 26, dans lequel l'article est stratifié. Gegenstand nach Anspruch 26, wobei der Gegenstand laminiert ist. The article of claim 26, wherein the article is laminated.
  30. 30
    Article suivant la revendication 26, dans lequel l'article est un élément de verre isolant et le substrat est au moins une des vitres de l'élément de verre isolant. Gegenstand nach Anspruch 26, wobei der Gegenstand eine Isolierglaseinheit ist und das Substrat wenigstens eine der Scheiben der Isolierglaseinheit ist. The article of claim 26, wherein the article is an insulating glass unit and the substrate is at least one of the panes of the insulating glass unit.
  31. 31
    Article suivant la revendication 26, dans lequel le substrat est choisi parmi du verre recuit, du verre trempé et du verre trempé thermiquement. Gegenstand nach Anspruch 26, wobei das Substrat ausgewählt ist aus spannungsfrei gemachtem Glas, getempertem Glas und wärmegehärtetem Glas. The article of claim 26, wherein the substrate is selected from annealed glass, tempered glass, and heat strengthened glass.
  32. 32
    Article suivant la revendication 26, dans lequel l'article est un élément transparent architectural. Gegenstand nach Anspruch 26, wobei der Gegenstand eine Bauverglasung ist. The article of claim 26, wherein the article is an architectural transparency.
  33. 33
    Article suivant la revendication 26, dans lequel le revêtement photocatalytique est déposé directement sur la surface du substrat. Gegenstand nach Anspruch 26, wobei die photokatalytische Beschichtung direkt auf der Substratoberfläche aufgebracht ist. The article of claim 26, wherein the photocatalytic coating is deposited directly on the substrate surface.
  34. 34
    Article suivant la revendication 26, dans lequel le revêtement photocatalytique comprend de l'oxyde de titane au moins partiellement dans la phase anatase. Gegenstand nach Anspruch 26, wobei die photokatalytische Beschichtung Titandioxid wenigstens teilweise in der Anatasphase enthält. The article of claim 26, wherein the photocatalytic coating comprises titania at least partly in the anatase phase.
  35. 35
    Article suivant la revendication 26, dans lequel le revêtement photocatalytique comprend de l'oxyde de titane au moins partiellement dans la phase rutile. Gegenstand nach Anspruch 26, wobei die photokatalytische Beschichtung Titandioxid wenigstens teilweise in der Rutilphase enthält. The article of claim 26, wherein the photocatalytic coating comprises titania at least partly in the rutile phase.
  36. 36
    Article suivant la revendication 26, dans lequel le revêtement photocatalytique est déposé par un procédé choisi parmi un dépôt chimique en phase vapeur, un dépôt sous vide à pulvérisation du type à magnétron et une pyrolyse par pulvérisation. Gegenstand nach Anspruch 26, wobei die photokatalytische Beschichtung durch ein Verfahren, ausgewählt aus chemischer Dampfphasenabscheidung, Magnetron-Sputter-Vacuumabscheidung und Spray-Pyrolyse, aufgebracht ist. The article of claim 26, wherein the photocatalytic coating is deposited by a process selected from chemical vapor deposition, magnetron sputtered vacuum deposition, and spray pyrolysis.
  37. 37
    Article suivant la revendication 26, dans lequel le substrat comprend au moins une surface dans laquelle y est diffusé de l'étain. Gegenstand nach Anspruch 26, wobei das Substrat wenigstens eine Oberfläche enthält, in die Zinn eindiffundiert ist. The article of claim 26, wherein the substrate includes at least one surface having tin diffused therein.
  38. 38
    Article suivant la revendication 26, dans lequel le revêtement photocatalytique a une épaisseur d'environ 50 Å à environ 2000 Å. Gegenstand nach Anspruch 26, wobei die photokatalytische Beschichtung eine Dicke von etwa 50 Å bis etwa 2000 Å aufweist. The article of claim 26, wherein the photocatalytic coating has a thickness of about 50Å to about 2000Å.
  39. 39
    Article suivant la revendication 26, dans lequel le substrat est un ruban de verre flotté et le procédé est choisi parmi le dépôt chimique en phase vapeur et la pyrolyse par pulvérisation. Gegenstand nach Anspruch 26, wobei das Substrat ein Floatglasband ist und das Verfahren ausgewählt ist aus chemischer Dampfphasenabscheidung und Spray-Pyrolyse. The article of claim 26, wherein the substrate is a float glass ribbon and the process is selected from chemical vapor deposition and spray pyrolysis.
  40. 40
    Article suivant la revendication 26, comprenant au moins une couche intermédiaire positionnée entre la surface du substrat et le revêtement photocatalytique. Gegenstand nach Anspruch 26, der wenigstens eine Zwischenschicht enthält, die zwischen der Substratoberfläche und der photokatalytischen Beschichtung angeordnet ist. The article of claim 26, including at least one intermediate layer located between the substrate surface and the photocatalytic coating.
  41. 41
    Article suivant la revendication 40, dans lequel la couche intermédiaire est une couche antiréfléchissante. Gegenstand nach Anspruch 40, wobei die Zwischenschicht eine antireflektierende Schicht ist. The article of claim 40, wherein the intermediate layer is an antireflective layer.
  42. 42
    Article suivant la revendication 40, dans lequel la couche intermédiaire est une couche formant barrière à la diffusion d'ions de sodium. Gegenstand nach Anspruch 40, wobei die Zwischenschicht eine Natriumionendiffusionssperrschicht ist. The article of claim 40, wherein the intermediate layer is a sodium ion diffusion barrier layer.
  43. 43
    Article suivant la revendication 41, dans lequel la couche antiréfléchissante comprend au moins un composé parmi l'oxyde d'aluminium, l'oxyde d'étain, l'oxyde d'indium, l'oxyde de silicium, l'oxycarbure de silicium et l'oxynitrure de silicium. Gegenstand nach Anspruch 41, wobei die antireflektierende Schicht wenigstens eins aus Aluminiumoxid, Zinnoxid, Indiumoxid, Siliciumoxid, Siliciumoxycarbid und Siliciumoxynitrid enthält. The article of claim 41, wherein the antireflective layer comprises at least one of aluminum oxide, tin oxide, indium oxide, silicon oxide, silicon oxycarbide, and silicon oxynitride.
  44. 44
    Article suivant la revendication 42, dans lequel la couche formant barrière comprend au moins un composé parmi l'oxyde d'étain, l'oxyde de silicium, l'oxyde de titane, l'oxyde de zirconium, l'oxyde d'étain dopé au fluor, l'oxyde d'aluminium, l'oxyde de magnésium, l'oxyde de zinc, l'oxyde de cobalt, l'oxyde de chrome, l'oxyde de fer et leurs mélanges. Gegenstand nach Anspruch 42, wobei die Sperrschicht wenigstens eins aus Zinnoxid, Siliciumoxid, Titanoxid, Zirconiumoxid, fluordotiertem Zinnoxid, Aluminumoxid, Magnesiumoxid, Zinkoxid, Cobaltoxid, Chromoxid, Eisenoxid und Mischungen davon enthält. The article of claim 42, wherein the barrier layer comprises at least one of tin oxide, silicon oxide, titanium oxide, zirconium oxide, fluorine-doped tin oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, zinc oxide, cobalt oxide, chromium oxide, iron oxide, and mixtures thereof.
Independent claims44