JP2001524165A

Photocatalytically-activated self-cleaning oven

Abstract

(57) [Summary] Organic pollutants accumulated on one or more surfaces of the device are coated with a photocatalytic activation self-cleaning coating on the surface of the device to make the device self-clean. By exposing such a coating surface to radiation of a suitable wavelength for a sufficient period of time, at least a portion of the organic contaminants present on the photocatalytically activated self-cleaning coating is removed. Thereby, the coated surface is cleaned without the need for manual labor or high temperature. Radiation is generally chemical radiation, including ultraviolet light in particular.

JP2001524165A, drawing sheet 1
Sheet 1 of 3

Term

Term ended

Projected expiry passed 12 March 2018, 8.5 years ago.

  1. Priority
  2. Filed
  3. Published
  4. Projected expiry
  5. Today

24 claims: 24 independent, 0 dependent

  1. 1
    【特許請求の範囲】 1.有機汚染物が上に蓄積すると予想される少なくとも一つの表面及び前記表 面上の光触媒活性化自浄性被覆を有する機器からなる自浄式機器。
  2. 2
    光触媒活性化自浄性被覆が、酸化チタン、酸化鉄、酸化銀、酸化銅、酸化 タングステン、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化亜鉛、錫酸亜鉛、酸化モリブ デン、チタン酸ストロンチウム、及びそれらの混合物からなる群から選択された 金属酸化物である、請求項1記載の自浄式機器。
  3. 3
    金属酸化物が、アナターゼ二酸化チタン、ルチル二酸化チタン、ブルッカ イト二酸化チタン、及びそれらの混合物からなる群から選択された酸化チタンで ある、請求項2記載の自浄式機器。
  4. 4
    自浄性被覆が、約200~5000Åの範囲の厚さを有する、請求項3記 載の自浄式機器。
  5. 5
    自浄性被覆が、少なくとも約500Åの厚さを有する、請求項4記載の自 浄式機器。
  6. 6
    自浄式被覆が、少なくとも約2×10 -3 cm -1 分 -1 の光触媒活性化自浄性 活性反応速度を有する、請求項1記載の自浄式機器。
  7. 7
    表面と自浄性被覆との間に更に拡散障壁層を有する、請求項1記載の自浄 式機器。
  8. 8
    拡散障壁層が、ナトリウムイオン障壁層として働き、前記ナトリウムイオ ン拡散障壁層が、無定形金属酸化物、結晶金属酸化物、及びそれらの混合物から なる群から選択された金属酸化物である、請求項7記載の自浄式機器。
  9. 9
    ナトリウムイオン拡散障壁層が、酸化コバルト、酸化クロム、酸化鉄、酸 化錫、酸化珪素、酸化チタン、酸化ジルコニウム、フッ素ドープ酸化錫、酸化ア ルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、マグネシウム/アルミニウム酸化物 、亜鉛/錫酸化物、及びそれらの混合物からなる群から選択されている、請求項 8記載の自浄式機器。
  10. 10
    拡散障壁層が、少なくとも約100Åの厚さを有する、請求項7記載の 自浄式機器。
  11. 11
    自浄性被覆は、紫外線で照射され光触媒作用によって活性化されて、自 浄性になる、請求項1記載の自浄式機器。
  12. 12
    自浄性被覆を紫外線で照射するための手段を更に具えた、請求項11記 載の自浄式機器。
  13. 13
    紫外線照射手段が、機器と一体化されている、請求項12記載の自浄式 機器。
  14. 14
    複数の表面を有し、前記表面が、五つの一体的に接続された壁及び扉か ら形成された開閉可能な箱型容器の内側表面であり、それら表面上に自浄性被覆 が付着されている、請求項1記載の自浄式機器。
  15. 15
    機器がオーブンである、請求項14記載の自浄式機器。
  16. 16
    自浄性被覆は、紫外線で照射され光触媒作用によって活性化されて、自 浄性になっている、請求項15記載のオーブン。
  17. 17
    自浄性被覆を紫外線で照射するための手段を更に具えた、請求項16記 載のオーブン。
  18. 18
    紫外線照射手段が、機器と一体化されている、請求項17記載のオーブ ン。
  19. 19
    自浄式機器を製造する方法において、 前記機器の複数の構成部品を組立て、前記機器を形成し、 前記構成部品の、有機汚染物が蓄積すると予想される表面を確定し、 前記定められた表面の、光触媒作用によって自浄性にすべき少なくとも一部分 を選択し、 前記選択された表面上に、光触媒作用によって活性化された自浄性被覆を形成 する、 諸工程を含む上記方法。
  20. 20
    確定、選択及び形成工程を、組立工程の前に行う、請求項19記載の方 法。
  21. 21
    確定、選択及び形成工程を、組立工程の後に行う、請求項19記載の方 法。
  22. 22
    自浄性被覆を、化学蒸着、噴霧熱分解、及びマグネトロンスパッタリン グ真空蒸着からなる群から選択された方法により、選択した表面の上に形成する 、請求項19記載の方法。
  23. 23
    自浄性被覆が、酸化チタン、酸化鉄、酸化銀、酸化銅、酸化タングステ ン、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化亜鉛、錫酸亜鉛、酸化モリブデン、チタ ン酸ストロンチウム、及びそれらの混合物からなる群から選択された金属酸化物 である、請求項22記載の方法。
  24. 24
    金属酸化物が、アナターゼ二酸化チタン、ルチル二酸化チタン、ブルッ カイト二酸化チタン、及びそれらの混合物からなる群から選択された酸化チタン である、請求項23記載の自浄性機器。
Independent claims24