JP2001089752A

Member capable of obtaining hydrophilic nature in accordance with photoexcitation of optical semiconductor and manufacturing method thereof

Abstract

[Task] Even when an optical semiconductor-containing layer is formed on the surface of the base material by the sol coating and firing method, it is hydrophilized to 10 ° or less in response to photoexcitation of the optical semiconductor by a light source commonly used in daily life such as sunlight and indoor lighting. To provide a member capable of improving hydrophilicity performance in response to photoexcitation when a photosemiconductor-containing layer is formed by another manufacturing method.

Solution.A member characterized in that a layer containing at least one of alkali metal, alkaline earth metal, zinc, aluminum, ruthenium, alumina, zirconia, ceria, and itria is formed on the surface of a base material in addition to an optical semiconductor.

Term

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Projected expiry passed 27 July 2020, 6.2 years ago.

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10 claims: 6 independent, 4 dependent

  1. 1
    【特許請求の範囲】 【請求項1】 基材表面に、光半導体と、それ以外にアルカリ金属、アルカリ土類金属、亜鉛、アルミニウム、ルテニウム、アルミナ、ジルコニア、セリア、イットリアの1群から選ばれた少なくとも1種を含む層が形成されており、前記光半導体の光励起に応じて部材表面が水との接触角が20度以下まで親水化され、水洗または降雨により表面付着堆積物が洗い流されるようになる防汚性部材。
  2. 2
    【請求項2】 前記防汚性部材が防汚性タイルである請求項1記載の防汚性部材。
  3. 3
    【請求項3】 光半導体と、それ以外にアルカリ金属、アルカリ土類金属、亜鉛、アルミニウム、ルテニウム、アルミナ、ジルコニア、セリア、イットリアの1群から選ばれた少なくとも1種を含む組成物であって、該組成物を基材表面に塗布し前記層を形成することにより、前記光半導体の光励起に応じて層の表面が水との接触角が20度以下まで親水化され、水洗または降雨により表面付着堆積物が洗い流されるようになる防汚性コーティング組成物。
  4. 4
    【請求項4】 光半導体ゾルと、それ以外にアルカリ金属、アルカリ土類金属、亜鉛、アルミニウム、ルテニウム、アルミナ、ジルコニア、セリア、イットリアの1群から選ばれた少なくとも1種を含む物質とを混合する工程、前記混合物を基材表面に塗布し焼成することにより基材上に層を形成する工程からなる、前記光半導体の光励起に応じて前記層の表面が水との接触角が20度以下まで親水化され、水洗または降雨により表面付着堆積物が洗い流されるようになる防汚性部材の製造方法。
  5. 5
    【請求項5】 前記防汚性部材が防汚性タイルである請求項4記載の防汚性部材の製造方法。
  6. 6
    【請求項6】 基材表面に、光半導体と、それ以外にアルカリ金属、アルカリ土類金属、亜鉛、アルミニウム、ルテニウム、アルミナ、ジルコニア、セリア、イットリアの1群から選ばれた少なくとも1種を含む層が形成されており、前記光半導体の光励起に応じて部材表面が水との接触角が20度以下まで親水化され、付着水が一様に広がって乾燥されやすくなる易乾燥性部材。
  7. 7
    【請求項7】 前記易乾燥性部材が易乾燥性タイルである請求項6記載の易乾燥性部材。
  8. 8
    【請求項8】 光半導体と、それ以外にアルカリ金属、アルカリ土類金属、亜鉛、アルミニウム、ルテニウム、アルミナ、ジルコニア、セリア、イットリアの1群から選ばれた少なくとも1種を含む組成物であって、該組成物を基材表面に塗布し前記層を形成することにより、前記光半導体の光励起に応じて層の表面が水との接触角が20度以下まで親水化され、付着水が一様に広がって乾燥されやすくなる易乾燥性コーティング組成物。
  9. 9
    【請求項9】 光半導体ゾルと、それ以外にアルカリ金属、アルカリ土類金属、亜鉛、アルミニウム、ルテニウム、アルミナ、ジルコニア、セリア、イットリアの1群から選ばれた少なくとも1種を含む物質とを混合する工程、前記混合物を基材表面に塗布し焼成することにより基材上に層を形成する工程からなる、前記光半導体の光励起に応じて前記層の表面が水との接触角が20度以下まで親水化され、付着水が一様に広がって乾燥されやすくなる易乾燥性部材の製造方法。
  10. 10
    【請求項10】 前記易乾燥性部材が易乾燥性タイルである請求項9記載の易乾燥性部材の製造方法。
Independent claims10