JPH09226042A

Hydrophilic film, manufacture thereof, and using method thereof

Abstract

[Task] Provided is a film capable of giving a high degree of hydrophilicity to the surface of a base material in response to photoexcitation of a photocatalyst simply by attaching it to the surface of the base material.

Solution.A film provided with a surface layer containing photocatalytic titanium oxide particles on the surface of a film substrate.

Term

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Projected expiry passed 19 September 2016, 10 years ago.

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18 claims: 10 independent, 8 dependent

  1. 1
    【特許請求の範囲】 【請求項1】 フィルム基体表面に、光触媒粒子を含有する表面層を備えてなり、基材表面に貼着すると、表面が前記光触媒の光励起に応じて親水性を呈することを特徴とする親水性フィルム。
  2. 2
    【請求項2】 フィルム基体表面に、実質的に透明な、光触媒粒子を含有する表面層を備えてなり、基材表面に貼着すると、表面が前記光触媒の光励起に応じて親水性を呈し、以て付着した湿分の凝縮水及び/又は水滴が前記層の表面に一様に広がり、湿分凝縮水及び/又は水滴によって曇り若しくは翳るのが防止されるようになることを特徴とする親水性フィルム。
  3. 3
    【請求項3】 フィルム基体表面に、光触媒粒子を含有する表面層を備えてなり、基材表面に貼着すると、表面が前記光触媒の光励起に応じて親水性を呈し、以て表面が降雨にさらされた時に、付着堆積物及び/又は汚染物が雨滴により洗い流させるのを可能にするセルフクリーニング性を有する親水性フィルム。
  4. 4
    【請求項4】 フィルム基体表面に、光触媒粒子を含有する表面層を備えてなり、基材表面に貼着すると、表面が前記光触媒の光励起に応じて親水性を呈し、以て表面が水で洗浄するのが容易になる親水性フィルム。
  5. 5
    【請求項5】 前記表面層には、さらに無定型シリカが含有されていることを特徴とする請求項1~4に記載の親水性フィルム。
  6. 6
    【請求項6】 前記表面層には、さらにシリコーンが含有されていることを特徴とする請求項1~4に記載の親水性フィルム。
  7. 7
    【請求項7】 前記表面層の膜厚は0.4μm以下であることを特徴とする請求項1~6に記載の親水性フィルム。
  8. 8
    【請求項8】 前記表面層の膜厚は0.2μm以下であることを特徴とする請求項1~6に記載の親水性フィルム。
  9. 9
    【請求項9】 前記表面層の表面に、さらに親水化可能な保護層が設けられていることを特徴とする請求項1~6に記載の親水性フィルム。
  10. 10
    【請求項10】 前記表面層の屈折率は2以下であることを特徴とする請求項1~6に記載の親水性フィルム。
  11. 11
    【請求項11】前記光触媒の光励起に応じて呈する親水性は、水との接触角に換算して10°以下であることを特徴とする請求項1~10に記載の親水性フィルム。
  12. 12
    【請求項12】 前記光触媒の光励起に応じて呈する親水性は、水との接触角に換算して5 ゚以下であることを特徴とする請求項1~10に記載の親水性フィルム。
  13. 13
    【請求項13】 フィルム基体を準備する工程、その上を光触媒粒子と無定型シリカの前駆体で被覆する工程、無定型シリカの前駆体を硬化反応により無定型シリカに変換する工程;を含む光励起に応じて親水性を呈するフィルムの製造方法。
  14. 14
    【請求項14】 フィルム基体を準備する工程、フィルム基体表面にベースコート層を形成する工程、さらにその上を光触媒粒子と無定型シリカの前駆体で被覆する工程、無定型シリカの前駆体を硬化反応により無定型シリカに変換する工程;を含む光励起に応じて親水性を呈するフィルムの製造方法。
  15. 15
    【請求項15】 前記無定型シリカの前駆体は平均組成式(OR)xSiOy(0 x≦4、0≦y 2)(Rはアルキル基)からなる塗膜形成要素であり、前記無定型シリカの前駆体を硬化反応により無定型シリカに変換する工程は、常温で乾燥させる工程である請求項13、14に記載の光励起に応じて親水性を呈するフィルムの製造方法。
  16. 16
    【請求項16】 前記ベースコート層を形成する工程は、平均組成式(OR) xSiOy(0 x≦4、0≦y 2)(Rはアルキル基)からなる塗膜形成要素でフィルム基体を被覆する工程と、常温で乾燥させることにより前記塗膜形成要素を硬化させる工程であることを特徴とする請求項14、15に記載の光励起に応じて親水性を呈するフィルムの製造方法。
  17. 17
    【請求項17】 フィルム基体を準備する工程、その上を光触媒粒子とシリコーンの前駆体で被覆する工程、シリコーンの前駆体を硬化反応により硬化させて、シリコーン樹脂中に光触媒が分散された塗膜を形成する工程、前記光触媒を光励起させて、シリコーン樹脂中のシリコン原子に結合する有機基を水酸基に置換させる工程;を含む光励起に応じて親水性を呈するフィルムの製造方法。
  18. 18
    【請求項18】 請求項1~12の親水性フィルムを準備する工程、前記親水性フィルムを基材表面に貼着する工程、前記親水性フィルム表面層に含有される光触媒を光励起することにより、前記層の表面を親水性になす工程;からなる基材表面の親水化方法。
Independent claims18