EP1712530B1

Method of cleaning a substrate having an ultrahydrophilic and photocatalytic surface

Abstract

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EP1712530B1, drawing sheet 1
Sheet 1 of 9

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Expired 21 March 2016, 10.5 years ago.

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2 claims: 2 independent, 0 dependent

  1. 1
    A method for cleaning a substrate, comprising the steps of:preparing a substrate coated with a layer comprised of a photocatalytic semiconductor material;and,subjecting said photocatalytic material to photoexcitation to thereby render the surface of said layer hydrophilic;andrinsing said substrate with water whereby organic deposits and/or contaminants adhering on the surface of said layer are released therefrom and washed away by water,wherein said layer comprises silica blended titania. Procédé de nettoyage d'un substrat, comprenant les étapes consistant à : préparer un substrat revêtu d'une couche comprenant un matériau semi-conducteur photocatalytique ;et,à soumettre ledit matériau photocatalytique à une photoexcitation pour rendre par-là la surface de ladite couche hydrophile ;età rincer ledit substrat avec de l'eau sur quoi des dépôts organiques et/ou des polluants adhérant à la surface de ladite couche sont libérés à partir de celle-ci et éliminés par lavage avec de l'eau,dans lequel ladite couche comprend de la silice combinée avec de l'oxyde de titane. Verfahren zum Reinigen eines Trägers, umfassend die folgenden Schritte: - Herstellen eines Trägers, der mit einer ein photokatalytisches Halbleitermaterial umfassenden Schicht beschichtet ist;und- Unterziehen des photokatalytischen Materials einer Belichtung, um die Oberfläche der Schicht hydrophil zu machen;und- Spülen des Trägers mit Wasser, wodurch organische Ablagerungen und/oder Verunreinigungen, die auf der Oberfläche der Schicht haften, davon abgelöst und durch Wasser weggewaschen werden, wobei die Schicht ein mit Siliciumdioxid gemischtes Titandioxid umfasst.
  2. 2
    Procédé selon la revendication 1, dans lequel l'étape consistant à soumettre ledit matériau photocatalytique à une photoexcitation est réalisée jusqu'à ce que la mouillabilité à l'eau de ladite couche devienne inférieure à 10° en termes de l'angle de contact avec l'eau. The method according to claim 1, wherein the step of subjecting said photocatalytic material to photoexcitation is carried out until the water wettability of said layer becomes less than 10° in terms of the contact angle with water. Verfahren gemäß Anspruch 1, worin der Schritt des Unterziehens des photokatalytischen Materials einer Belichtung durchgeführt wird, bis die Benetzbarkeit der Schicht mit Wasser 10° oder weniger, ausgedrückt durch den Kontaktwinkel mit Wasser, wird.