PL1673313T3

Coated article with silicon nitride inclusive layer adjacent glass

Abstract

A low-E coated article is provided, in certain example embodiments, with a layer including silicon nitride adjacent the glass substrate in order to improve chemical and/or mechanical durability of the coated article. In certain example embodiments, the coated article may be formed so as to have a fairly high visible transmission (TY or Tvis) to sheet resistance (RS) ratio (i.e., a ratio Tvis/RS). The higher this ratio, the better the coated article's combined functionality of providing for both good solar performance (e.g., ability to reflect and/or absorb IR radiation) and high visible transmission. Coated articles herein may be used in the context of windows or the like (e.g., laminated vehicle windshields).

PL1673313T3, drawing sheet 1
Sheet 1 of 2

Term

Term ended

Projected expiry passed 20 August 2024, 2.1 years ago.

  1. Priority
  2. Filed
  3. Published
  4. Projected expiry
  5. Today

18 claims: 2 independent, 16 dependent

  1. 1
    PATENT RESERVATIONS ZASTRZEŻENIA PATENTOWE 1. Coated article with a multilayer coating (27) formed on a glass substrate (1), such that the multilayer coating consists of the following layers, away from the glass substrate:1. Wyrób powlekany z powłoką wielowarstwową (27) utworzoną na podłożu szklanym (1), taki że powłoka wielowarstwowa składa się z następujących warstw, w kierunku od podłoża szklanego na zewnątrz: a layer comprising silicon nitride (4) formed directly on and in contact with the glass substrate (1);warstwa zawierająca azotek krzemu (4) utworzona bezpośrednio na i stykająca się z podłożem szklanym (1);a layer comprising zinc oxide (7) formed directly on and in contact with the layer containing silicon nitride;warstwa zawierająca tlenek cynku (7) utworzona bezpośrednio na i stykająca się z warstwą zawierającą azotek krzemu;a silver-containing layer (9) formed directly on and in contact with the zinc oxide-containing layer;warstwa zawierająca srebro (9) utworzona bezpośrednio na i stykająca się z warstwą zawierającą tlenek cynku;a layer comprising at least one metal oxide (11);a layer of dielectric material containing tin oxide (13);a layer of dielectric material containing silicon nitride (14);a layer comprising zinc oxide (17);warstwa zawierająca co najmniej jeden tlenek metalu (11);warstwa materiału dielektrycznego zawierająca tlenek cyny (13);warstwa materiału dielektrycznego zawierająca azotek krzemu (14);warstwa zawierająca tlenek cynku (17);another layer containing silver (19);kolejna warstwa zawierająca srebro (19);a layer of dielectric material containing metal oxide (23);and another layer of dielectric material containing silicon nitride (25);such that the coated article is heat treated and has a Tvis / Rs ratio of at least 25 after heat treatment, where Tvis is the light transmission in%, the coating sheet resistance is given in Ω / square, while the value of ΔE * (transmittance and / or reflection coefficient on the glass substrate side) after heat treatment is equal to or less than 8, such that, a layer containing silicon nitride (4) with a high Si content is formed directly on and in contact with the glass substrate (1) and contains the partially oxidized SixNy compound, such that x / y have a value from 0.8 to 1.0. warstwa materiału dielektrycznego zawierająca tlenek metalu (23);oraz inna warstwa materiału dielektrycznego zawierająca azotek krzemu (25);taka że wyrób powlekany jest poddawany obróbce cieplnej oraz charakteryzuje się po obróbce cieplnej stosunkiem Tvis/Rs co najmniej 25, gdzie Tvis to przepuszczalność światła w %, rezystancja arkusza powłoki jest podana w Ω/kwadrat, natomiast wartość ΔE* (współczynnik przepuszczalności i/lub odbicia od strony podłoża szklanego) po obróbce cieplnej jest równa lub mniejsza niż 8, taki że, warstwa zawierająca azotek krzemu (4) o wysokiej zawartości Si jest utworzona bezpośrednio na oraz styka się z podłożem szklanym (1) oraz zawiera częściowo utleniony związek SixNy, taki że x/y mają wartość od 0.8 do 1.0.
  2. 14
    The layer containing silicon nitride (4) is oxidized to form silicon oxynitride and has a refractive index "n" in the range of 1.85 to 2.0. 14. Warstwa zawierająca azotek krzemu (4) jest utleniona, tworząc tlenoazotek krzemu oraz charakteryzuje się współczynnikiem załamania światła „n” w zakresie od 1.85 do 2.0.