JP3690864B2

Photocatalyst body and method of production thereof

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Expired 29 March 2016, 10.5 years ago.

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12 claims: 3 independent, 9 dependent

  1. 1
    光触媒を基体に担持固定してなる光触媒体の製造法であって、光触媒とアモルファス型過酸化チタンゾルとを混合し、コーティングした後、80°C以下で乾燥させ、固化させて得たことを特徴とする光触媒体の製造法。
  2. 2
    基体上に、光触媒によって分解されない結着剤からなる第一層を設け、該第一層の上に、光触媒とアモルファス型過酸化チタンゾルとの混合物を用いて調製した第二層を設けることを特徴とする光触媒体の製造法。
  3. 3
    基体上に、アモルファス型過酸化チタンゾルを用いて調製した光触機能を有さない第一層を設け、該第一層の上に、光触媒とアモルファス型過酸化チタンゾルとの混合物を用いて調製した第二層を設けることを特徴とする光触媒体の製造法。
  4. 4
    光触媒として、酸化チタン粒子又は酸化チタン粉末を用いて調製したものであることを特徴とする請求項1~3のいずれか記載の光触媒体の製造法。
  5. 5
    光触媒として、酸化チタンゾルを用いて調製したものであることを特徴とする請求項1~3のいずれか記載の光触媒体の製造法。
  6. 6
    酸化チタンゾル濃度が2.70~2.90%、アモルファス型過酸化チタンゾル濃度が1.40~1.60%のとき、酸化チタンゾルとアモルファス型過酸化チタンゾルとの合量に対し、酸化チタンゾルを30重量%以下の割合で混合した混合ゾルを用いることを特徴とする請求項5記載の光触媒体の製造法。
  7. 7
    酸化チタンゾル濃度が2.70~2.90%、アモルファス型過酸化チタンゾル濃度が1.40~1.60%のとき、酸化チタンゾルとアモルファス型過酸化チタンゾルとの合量に対し、酸化チタンゾルを20~80重量%の割合で混合した混合ゾルを用いることを特徴とする請求項5記載の光触媒体の製造法。
  8. 8
    酸化チタンゾル濃度が2.70~2.90%、アモルファス型過酸化チタンゾル濃度が1.40~1.60%のとき、酸化チタンゾルとアモルファス型過酸化チタンゾルとの合量に対し、酸化チタンゾルを70重量%以上の割合で混合した混合ゾルを用いることを特徴とする請求項5記載の光触媒体の製造法。
  9. 9
    酸化チタンゾルが、アモルファス型過酸化チタンゾルの100°C以上の加熱処理により得られるものであることを特徴とする請求項5~8のいずれか記載の光触媒体の製造法。
  10. 10
    基体表面及び/又は第一層に、ナトリウムイオンを存在させることを特徴とする請求項1~9のいずれか記載の光触媒体の製造法。
  11. 11
    光触媒粒子と共に、自発型紫外線放射材又は蓄光型紫外線放射材の素材からなる粒子、あるいはこれらの放射材を混入した粒子を用いることを特徴とする請求項1~10のいずれか記載の光触媒体の製造法。
  12. 12
    自発型紫外線放射材又は蓄光型紫外線放射材が、使用する光触媒の励起波長の発光波長又は蓄光波長を有することを特徴とする請求項11記載の光触媒体の製造法。
Independent claims12