Nova Patents
DD264911A5

Coatings on glass

Abstract

The invention relates to a method for producing a coating on a glass surface, in which an underlayer is applied to the glass surface, via which further layers can be applied. They are preferably used in the manufacture of float glass. Here, the iridescence is reduced by the underlayer and a barrier against the migration of alkali metal ions from the glass is built up, which has a high transparency. The solution is characterized in that a gaseous mixture consisting of a silane, an unsaturated hydrocarbon compound and carbon dioxide is passed onto the hot glass surface at a temperature of 600C to 750C, which creates a transparent layer on the glass surface that contains silicon and oxygen is deposited.

Term

No projected expiry on record.

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9 claims: 1 independent, 8 dependent

  1. 1
    Verfahren zur Herstellung eines Überzuges auf einer Glasoberfläche, bei dem eine Unterschicht auf die Glasoberfläche aufgetragen wird, über die weitere Schichten auftragbar sind, dadurch gekennzeichnet, daß auf die heiße Gasoberfläche bei einer Temperatur von 600 bis 750 0 C ein gasförmiges Gemisch geleitet wird, bestehend aus einem Silan, einer ungesättigten Kohlenwasserstoffverbindung und Kohlendioxid, wodurch eine trpnsparer te Schicht, die Silicium und Sauerstoff enthält, auf der Glasoberfläche abgelagert wird.
  2. 2
    Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zusätzlich eine Schicht, die gegen die Wanderung von Alkalimetallionen aus dem Glas empfindlich ist, über der Unterschicht abgelagert wird.
  3. 3
    Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zusätzlich eine infrarotreflektierende und/oder elektrisch leitfähige Schicht über der Unterschicht abgelagert wird.
  4. 4
    Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die ungesättigte Kohlenwasserstoffverbindung, die beim Ablagern der Unterschicht verwendet wird, ein Olefin mit zwei bis vier Kohlenstoffatomen ist.
  5. 5
    Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die ungesättigte Kohlenwasserstoffverbindung Ethylen ist.
  6. 6
    Verfahren nach einem der Ansprücho 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Anteile der Gaskomponenten, die in dem für die Ablagerung der Unterschicht eingecetzten Gasgemisch vorhanden sind, sowie die Strömungsgeschwindigkeit des gasförmigen Gemisches über die heiße Glasoberfläche so reguliert werden, daß eine Unterschicht mit einer Dicke im Bereich von 60 bis 80 nm und einem Refraktionsindex im Bereich von 1,6 bis 1,8 abgelagert wird.
  7. 7
    Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Anteile der Gaskomponenten, die in dem für den Ablagerung der Unterschicht verwendeten Gasgemisch vorhanden sind, sowie die Strömungsgeschwindigkeit des gasförmigen Gemisches über die heiße Glasoberfläche so reguliert werden, daß eine Unterschicht abgelagert wird, deren Dicke und Refraktionsindex so sind, daß das mit der Unterschicht überzogene Gias eine Lichtdurchlässigkeit aufweist, die innerhalb von 2% der Lichtdurchlässigkeit des nicht überzogenen Glases liegt und die eine wirksame Sperre gegen die Wanderung von Alkalimetallionen aus dem Glas bildet.
  8. 8
    Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis von ungesättigtem Kohlenwasserstoff zu Silan im verwendeten gasförmigen Gemisch zur Ablagerung der Unterschicht im Bereich von 2:1 bis 5:1, bezogen suf das Volumen, liegt.
  9. 9
    Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis von Kohlendioxid zu Silan im verwendeten gasförmigen Gemisch zur Ablagerung der Unterschicht im Bereich von 2:1 bis 8:1, bezogen auf das Volumer:, liegt.