Substrate, in particular glass substrate, supporting a photocatalytic layer coated with a protective thin layer
Abstract
This record has no abstract on file.
Term
Term ended
Projected expiry passed 22 October 2024, 1.9 years ago.
- Priority
- Filed
- Published
- Projected expiry
- Today
20 claims: 3 independent, 17 dependent
- 1Zastrzeżenia patentowe 1. Struktura zawierająca podłoże utrzymujące, na co najmniej części swojej powierzchni, warstwę o właściwościach fotokatalitycznych, chroniącą przed osadzaniem się brudu, na bazie dwutlenku tytanu (TiO2), powleczoną cienką warstwą zawierającą krzem i tlen, o zdolności krycia, nie porowatą, mogącą zapewnić ochronę mechaniczną i chemiczną spodniej warstwy fotokatalitycznej zachowując aktywność fotokatalityczną TiO2, znamienna tym, że zawiera, bezpośrednio pod warstwą na bazie TiO2, warstwę spodnią mającą strukturę krystalograficzną umożliwiającą wspomaganie krystalizacji przez wzrost heteroepitaksjalny do postaci anatazowej warstwy górnej na bazie TiO2.
- 2Struktura według zastrzeżenia 1, znamienna tym, że wspomniana warstwa spodnia jest utworzona z ATiO3, przy czym A oznacza bar lub stront.
- 3Struktura według zastrzeżenia 1 albo 2, znamienna tym, że wspomniana cienka warstwa zawierająca krzem i tlen jest w postaci ciągłej warstewki.
- 4Struktura według jednego z zastrzeżeń od 1 do 3, znamienna tym, że wspomniana cienka warstwa zawierająca krzem i tlen jest w postaci warstewki przybierającej kształt chropowatości powierzchni spodniej warstwy o właściwościach fotokatalitycznych.
- 5Struktura według jednego z zastrzeżeń od 1 do 4, znamienna tym, że cienka warstwa zawierająca krzem i tlen jest warstwą co najmniej jednego związku krzemu i tlenu wybranego spośród SiO2, SiOC, SiON, SiOx z x 2, i SiOCH.
- 6Struktura według jednego z zastrzeżeń od 1 do 5, znamienna tym, że cienka warstwa zawierająca krzem i tlen jest warstwą co najmniej jednego związku krzemu i tlenu, z którym połączony jest co najmniej jeden związek wybrany spośród Al2O3 i ZrO2.
- 7Struktura według zastrzeżenia 6, znamienna tym, że stosunek atomowy (Al i/lub Zr)/Si nie jest większy od 1.
- 8Struktura według jednego z zastrzeżeń 6 i 7, znamienna tym, że stosunek Al/Si zawarty jest pomiędzy 0,03 i 0,5, zwłaszcza pomiędzy 0,05 i 0,1.
- 9Struktura według jednego z zastrzeżeń od 6 do 8, znamienna tym, że stosunek Zr/Si zawarty jest pomiędzy 0,05 i 0,4.
- 10Struktura według jednego z zastrzeżeń od 1 do 9, znamienna tym, że cienka warstwa zawierająca krzem i tlen ma grubość najwyżej 15 nm, zwłaszcza najwyżej 10 nm, i w szczególności najwyżej 8 nm, przy czym korzystnie ma najwyżej 5 nm lub około 5 nm, w szczególności 2 do 3 nm.
- 11Struktura według jednego z zastrzeżeń od 1 do 10, znamienna tym, że warstwa na bazie dwutlenku tytanu jest utworzona z samego TiO2 lub z TiO2 domieszkowanego przez co najmniej jedną domieszkę wybraną zwłaszcza spośród N;kationów pięciowartościowych takich jak Nb, Ta, V, Fe i Zr.
- 12Struktura według jednego z zastrzeżeń od 1 do 11, znamienna tym, że warstwa na bazie TiO2 została nałożona za pomocą metody zol-żel, lub za pomocą metody pirolizy zwłaszcza w fazie gazowej, lub za pomocą rozpylania katodowego, w temperaturze otoczenia, w próżni, w danym przypadku wspomaganego przez pole magnetyczne i/lub wiązkę jonów, z zastosowaniem tarczy metalowej lub TiOx z x 2 i atmosfery utleniającej, lub z zastosowaniem tarczy TiO2 i atmosfery oboję tnej, przy czym TiO2 wytworzony przez rozpylanie katodowe może być następnie poddawany obróbce cieplnej, aby występować w stanie wykrystalizowanym w postaci fotokatalitycznie aktywnej.
- 13Struktura według jednego z zastrzeżeń od 1 do 12, znamienna tym, że cienka warstwa zawierająca krzem i tlen została nałożona przez rozpylanie katodowe, w temperaturze otoczenia, w próżni, w danym przypadku wspomagane przez pole magnetyczne i/lub wiązkę jonów, z zastosowaniem tarczy z Si domieszkowanego Al (8% masy atomowej) w atmosferze Ar+O2 przy ciśnieniu 0,2 Pa.
- 14Struktura według jednego z zastrzeżeń od 1 do 13, znamienna tym, że podłoże utworzone jest z płyty, płaskiej lub o powierzchniach zakrzywionych lub wygiętych, ze szkła monolitycznego lub złożonego z warstw, z materiału witroceramicznego lub z twardego tworzywa termoplastycznego, takiego jak poliwęglan, lub też z włókien szklanych lub witroceramicznych, przy czym na wspomnianych płytach lub włóknach, w danym przypadku, umieszczona jest co najmniej jedna inna warstwa funkcjonalna, przed nałożeniem warstwy wspomagającej krystalizację przez wzrost heteroepitaksjalny warstwy na bazie TiO2.
- 15Struktura według zastrzeżenia 14, znamienna tym, że inna warstwa lub warstwy funkcjonalne dobrane są spośród warstw o funkcjach optycznych, warstw kontroli cieplnej, warstw przewodzących, jak również, w przypadku gdy podłoże jest ze szkła lub z materiału witroceramicznego, warstw tworzących barierę dla przemieszczania się metali alkalicznych ze szkła lub z materiału witroceramicznego.
- 16Sposób wytwarzania struktury takiej jak określona w jednym z zastrzeżeń od 1 do 15, w którym:- nakłada się na podłoże szklane lub z materiału witroceramicznego lub z twardego tworzywa sztucznego typu poliwęglanu, typu płyty, lub na włókna szklane lub witroceramiczne, warstwę TiO2 ewentualnie domieszkowanego, którą poddaje się obróbce cieplnej, aby nadać jej właściwości fotokatalityczne w przypadku, gdy nie są one nadane przez warunki zastosowane przy jej nałożeniu, - następnie nakłada się na wspomnianą warstwę o właściwościach fotokatalitycznych cienką warstwę zawierającą krzem i tlen, taką jak określona w jednym z zastrzeżeń od 1 do 10, przy czym wspomniany sposób znamienny jest tym, że nakłada się, bezpośrednio pod warstwą na bazie TiO2, warstwę spodnią mającą strukturę krystalograficzną umożliwiającą wspomaganie krystalizowania przez wzrost hetero epitaksjalny do postaci anatazowej warstwy górnej na bazie TiO2.
- 17Sposób według zastrzeżenia 16, znamienny tym, że wykonuje się kolejno nakładanie warstwy TiO2 i nakładanie cienkiej warstwy zawierającej krzem i tlen w temperaturze otoczenia, przez natryskiwanie katodowe w próżni, w danym przypadku wspomagane przez pole magnetyczne i/lub wiązkę jonów, w tej samej komorze, przy czym warunki są następujące:- do nałożenia warstwy na bazie TiO2, zasilanie prądem stałym lub prądem zmiennym pod ciśnieniem 1-3 mbarów, i w atmosferze tlen + gaz obojętny (argon), za pomocą tarczy Ti lub TiOx, x = 1,5 do 2;- do nałożenia warstwy zawierającej krzem i tlen, zasilanie prądem zmiennym pod ciśnieniem 0,1 do 1,0 Pa i w atmosferze Ar + O2 za pomocą tarczy o dużej zawartości krzemu, przy czym nakładanie warstwy TiO2 poprzedzone jest przez nałożenie warstwy spodniej wspomagającej krystalizację przez wzrost epitaksjalny do postaci anatazowej warstwy TiO2.
- 18Sposób według jednego z zastrzeżeń 16 i 17, w którym wykonuje się powlekanie podłoża ze szkła lub z materiału witroceramicznego, znamienny tym że przed nałożeniem warstwy spodniej połączonej z warstwą TiO2, nakłada się na podłoże co najmniej jedną warstwę tworzącą barierę dla przemieszczania metali alkalicznych zawartych w szkle lub w materiale witroceramicznym, przy czym może być wówczas wykonane wyżarzanie lub hartowanie po nałożeniu warstwy TiO2 i cienkiej warstwy na bazie krzemu, która ją przykrywa, w temperaturze zawartej pomiędzy 250°C a 550°C, korzystnie pomiędzy 350°C a 500°C dla wyżarzania, i w temperaturze co najmniej 600°C dla hartowania.
- 19Sposób według jednego z zastrzeżeń 16 do 18, znamienny tym, że po ewentualnym nałożeniu co najmniej jednej warstwy tworzącej barierę dla przemieszczania metali alkalicznych i przed nałożeniem warstwy spodniej połączonej z warstwą TiO2, nakłada się co najmniej jedną warstwę funkcjonalną wybraną spośród warstw o funkcji optycznej, warstw kontroli cieplnej i warstw przewodzących, przy czym wspomniane warstwy funkcjonalne są korzystnie nakładane przez rozpylanie katodowe, w próżni, w danym przypadku wspomagane przez pole magnetyczne i/lub wiązkę jonów.
- 20Oszklenie pojedyncze lub złożone zwłaszcza dla samochodu lub budynku, zawierające na co najmniej jednej powierzchni odpowiednio, strukturę taką jak określona w jednym z zastrzeżeń 1 do 15, przy czym wspomniana powierzchnia jest w szczególności powierzchnią zwróconą na zewnątrz, ale może być również powierzchnią zwróconą do wewnątrz. Saint-Gobain Glass France Pełnomocnik:
Independent claims20
73 paragraphs in 2 sections, as filed
[0001] The present invention relates to substrates such as glass, vitroceramic or plastic substrates, which have been provided with a coating with photocatalytic properties to give them a function called protection against dirt deposition or self-cleaning.
[0002] An important application of these substrates relates to glazing which can have very different applications, from utility glazing to glazing used in household electrical equipment, from glazing in vehicles to glazing in construction.
[0003] The invention also applies to reflective glazing of the type of mirrors (mirror in the apartment or rearview mirror in the vehicle) and to opaque glazing of the type of window sill.
The invention also relates, similarly, to opaque substrates like ceramic substrates or any other substrates, especially those which can be used as a building material (metal, tile cladding ...). It is preferably used, irrespective of the type of substrate, for substrates generally flat or slightly bulging.
[0005] Photocatalytic coatings have already been studied, especially coatings based on titanium oxide crystallized to anatase. Their property for removing impurities of organic origin or microorganisms under the influence of UV radiation is very interesting. They also often have hydrophilic properties, which allows removal of inorganic impurities by spraying with water, or for external glazing, rinsing by rain.
[0006] This type of coating with anti-dirt, bactericidal, algicidal properties has already been described, especially in patent WO 97/10186, which gives several methods for its preparation.
[0007] If it is not protected, the layer with photocatalytic properties undergoes, over time, wear, which manifests itself in the loss of its activity, loss of optical properties of the structure (appearance of blurring, coloration), and even delamination of the layer.
[0008] If the thickness of the layer with photocatalytic properties decreases, the color that may appear during a partial change of this layer will be less intense and the color change will be less over time. However, this reduction in thickness will have a detrimental effect on the effectiveness of the layer.
[0009] It is therefore necessary to provide mechanical and chemical protection of the layer, the thickness of the protective layer should be thin so that the layer with photocatalytic properties still fully fulfills its function.
[0010] From European patent application EP-A-0 820 967, a fog element comprising a transparent substrate, a transparent photocatalyst film formed on a transparent substrate, and a transparent porous inorganic oxide film formed on a photocatalyst film and having a surface exhibiting hydrophilic properties is known.
[0011] Also known from Japanese Patent JP 2002 047 032 is a method for producing a photocatalytic membrane coated substrate, which includes the steps of spreading TiO2 nanoparticles with anatase crystal structure and 5-10 nm by means of a spray gun, heating and applying by spraying cathode membranes made of SiO2 covering TiO2 particles.
[0012] None of these structures is satisfactory, the first because of the porous properties of the protective coating, which due to the existence of pores does not provide sufficient protection for the layer with catalytic properties, and the second because of the insufficient percentage of photocatalytic material that does not form a continuous layer.
[0013] Application JP 2000-289134 describes a structure comprising a photocatalytic TiO2 layer covered with a layer containing hydrophilic metal oxide particles in a hydrophilic metal oxide binder. This layer is porous or has islet structure.
[0014] Also known from application EP 1 074 525 is a structure comprising a photocatalytic layer of TiO2, over which a 10 nm thick SiO2 hydrophilic layer is placed.
[0015] The subject of the invention is above all a structure comprising a substrate that maintains, at least part of its surface, a layer with photocatalytic properties, protecting against dirt deposition, based on titanium dioxide (TiO2), characterized in that said layer with photocatalytic coating is coated is a thin layer containing silicon and oxygen, with opacity, not porous, that can provide mechanical and chemical protection of the bottom photocatalytic layer while maintaining photocatalytic activity of TiO2. The structure of the present invention is characterized in that it comprises, directly below the TiO2-based layer, a bottom layer having a crystallographic structure enabling crystallization support by heteroepitaxial growth to form an anatase TiO2-based upper layer, especially formed from ATiO3, wherein A is barium or strontium .
[0016] The conditions for the preparation of the titanium dioxide layer, such as the type and purity of the starting products, possible solvent, heat treatment ... must be adapted in a known manner in order to obtain photocatalytic properties that protect against dirt.
[0017] Preferably, said thin layer comprising silicon and oxygen is in the form of a continuous film. In particular, said thin layer is preferably in the form of a film which takes the shape of a surface roughness of the bottom layer with photocatalytic properties.
[0018] The thin layer comprising silicon and oxygen is in particular a layer of at least one silicon compound and oxygen selected from SiO2, SiOC, SiON, SiOx with x <2, and SiOCH, SiO2 being particularly preferred.
[0019] According to an interesting structure variant according to the present invention, the thin layer comprising silicon and oxygen is a layer of at least one silicon and oxygen compound to which at least one compound selected from Al2O3 and ZrO2 is attached, such compound causing chemical inertia and enhancing hydrolysis resistance. You can emphasize the role of Al2O3, the famous inert oxide, which increases the chemical resistance of the whole.
[0020] The atomic ratio (Al and / or Zr) / Si is usually not greater than 1, preferably the Al / Si ratio is between 0.03 and 0.5, especially between 0.05 and 0.1, and Zr / Si ratio between 0.05 and 0.4. The thin layer comprising silicon and oxygen may have a thickness of at most 15 nm, especially at most 10 nm, in particular at most 8 nm, preferably at most 5 nm or about 5 nm, in particular 2 to 3 nm.
[0022] Said thin layer gives a lubricating effect and performs a certain mechanical role. It improves scratch and abrasion resistance.
[0023] However, this greater mechanical strength and better chemical resistance are not obtained to the detriment of photocatalytic activity. Indeed, although it could be expected that the ultimately obtained photocatalytic activity of the TiO2-based layer would be reduced due to its obstruction by the SiO2 surface layer, this photocatalytic activity is preserved and even improved; in fact, dirt dissolved in the homogeneous SiO2 film due to the hydrophilic nature of this film is more easily removed by TiO2.
[0024] The titanium dioxide-based layer is formed of TiO2 alone or of TiO2 doped with at least one dopant selected especially from N; pentavalent cations such as Nb, Ta, V, Fe and Zr. This TiO2-based layer can be applied by the sol-gel method, or by the pyrolysis method, especially in the gas phase, or by cathodic sputtering, at ambient temperature, in a vacuum, where appropriate assisted by a magnetic field and / or ion beam , using a metal target or TiOx with x <2 and an oxidizing atmosphere, or using a target TiO2 and an inert atmosphere, whereby TiO2 produced by cathodic sputtering can then be subjected to heat treatment, to exist in the crystallized state in a photocatalytically active form. [0025] A thin layer containing silicon and oxygen was applied in particular by sputtering, at ambient temperature, in a vacuum, where appropriate assisted by a magnetic field and / or an ion beam, using an Al-doped Si disk (8% atomic mass) in Ar + O2 atmosphere at 0.2 Pa.
[0026] The structure of the present invention comprises, immediately below the TiO2-based layer, a bottom layer having a crystallographic structure enabling crystallization support by heteroepitaxial growth to form an anatase TiO2-based upper layer, especially formed from ATiO3, wherein
A means bar or strontium. The thickness of this backing is not critical, it can for example be between 10 nm and 100 nm.
[0027] The substrate is formed, for example, from a plate, flat or with curved or curved surfaces, from monolithic glass or made of thin layers, from vitroceramic material or from a hard thermoplastic such as polycarbonate or also from glass or vitroceramic fibers, in this case at least one other functional layer is placed on said plates or fibers, before applying the TiO2-based layer or the layer supporting crystallization by heteroepitaxial growth of this layer. (In the case of more than one layer, there is also a package or layer arrangement).
[0028] For the use of the boards have been discussed above. As for fibers, their uses for air or water filtration as well as bactericidal applications can be cited.
[0029] The functional layer or layers are chosen from layers with optical functions, heat control layers, conductive layers as well as, in the case where the substrate is made of glass or vitroceramic material, layers forming a barrier for the movement of alkali metals from glass or material glass-ceramic.
[0030] Layers with an optical function are, in particular, anti-glare, light radiation filtration, dyeing, scattering, etc. layers. SiO2, Si3N4, TiO2, SnO2, ZnO layers can be mentioned here.
[0031] The heat control layers are especially solar control layers, or layers called low-emission ones.
[0032] The conductive layers are especially heating, antenna or antistatic layers, among which layers of conductive wire networks can be mentioned.
[0033] In the case where the substrate is made of glass or vitroceramic material, at least one functional layer constituting a barrier to the movement of alkali metals from glass or vitroceramic material may be placed under the bottom layer supporting crystallization of the photocatalytic layer.
[0034] Other functional layers (with optical function, thermal control, conductive layers), when used, are above the barrier layer or layers.
[0035] The displacement of the alkali metals can be due to temperatures above 600 ° C. Such layers forming an alkali metal barrier during subsequent heat treatments are known, SiO2, SiOC, SiOxNy, Si3N4 layers, for example at least 5 or 10 nm thick, in many cases at least 50 nm thick, as described in the international patent application PCT WO 02/24971.
[0036] By way of example, mention may be made of glass or vitroceramic substrates, in particular of the type of plates on which the barrier forming layer has been placed for the movement of alkali metals from glass or vitroceramic material, followed by a single, double or triple layer with an optical function.
[0037] The present invention also relates to a method for producing a structure as defined above according to claim 16.
[0038] In particular, the TiO2 layer is applied sequentially and the thin layer containing silicon and oxygen is applied at ambient temperature, by cathodic spraying in vacuo, assisted by a magnetic field and / or ion beam in the given case, in the same chamber, wherein the conditions are as follows:
- to apply a TiO2-based layer, DC or AC supply under pressure
1-3 mbar, and in the atmosphere oxygen + inert gas (argon), from Ti or TiOx shield, x = 1.5 to 2;
- to apply a layer containing silicon and oxygen, AC supply at a pressure of 0.1 to 1 Pa and in an Ar + O2 atmosphere [0039] from a disk with a high silicon content, the TiO2 layer being applied is preceded by the application of a bottom layer supporting crystallization by epitaxial growth to the anatase TiO2 layer.
[0040] The conditions for applying a silicon and oxygen containing layer that is not porous are known to those skilled in the art, in particular low pressure and high power conditions (Thornton diagram).
[0041] In the case where a substrate coating is made of glass or vitroceramic material, it can be provided that before applying the bottom layer combined with the TiO2 layer, at least one layer forming a barrier forming the movement of alkali metals contained is applied to the substrate. in glass or vitroceramic material, whereby annealing or quenching can be performed after applying the TiO2 layer and a thin silicon-based layer that covers it, at a temperature comprised between 250 ° C and 550 ° C, preferably between 350 ° C and 500 ° C for annealing, and a temperature of at least 600 ° C for quenching.
[0042] It can also be envisaged according to the invention that after optionally applying at least one layer forming a barrier to the movement of alkali metals and before applying the bottom layer connected to the TiO2 layer, at least one functional layer selected from layers with optical function, heat control layers is applied and conductive layers, wherein said functional layers are preferably applied by sputtering in a vacuum, in this case supported by a magnetic field and / or ion beam.
The present invention also relates to single or composite glazing, in particular for a car or building, comprising on at least one surface a structure according to the invention, as defined above, wherein said surface is in particular an outwardly facing surface, but can also be an inverted surface inwards. [0044] The surfaces of those glazing which are not structured according to the present invention may contain at least one other functional layer.
[0045] Such glazing finds use as "self-cleaning" glazing, in particular preventing retting, preventing condensation and protecting against dirt accumulation, especially glazing in double-glazed buildings, glazing on windshields, rear windows, side windows in the car, mirrors reverse, glazing on the train, plane, ship, utility glazing as aquarium glass, display windows, in the greenhouse, in furniture, in urban infrastructure elements (bus stops, advertising boards ^), mirrors, computer display system screen, television, telephone, electrically controlled glazing such as electrochromic glazing, with liquid crystals, electroluminescent, solar glazing.
Examples 1a and 1b (outside the invention):
Layer of glass / SiO layers<sub>2</sub>Al / TiO<sub>2</sub>/ SiO<sub>2</sub>: Al [0046] On a glass plate 4 mm thick, the following layers are applied:
- AlO doped bottom layer of 150 nm thickness;
- TiO2 layer 100 nm thick (Example 1a) or 20 nm thick (Example 1b); and
- surface layer of Al doped SiO2 with a thickness of 2 nm;
[0047] The bottom layer of SiO2: Al is applied by means of a Si: Al disc (8% of atomic mass of aluminum) with a power of 2000W, with the following gas flows: 15 sccm Ar and 15 sccm O2 and at a pressure of 2 x 10<sup>-3</sup> mbar.
[0048] The TiO2 layer is applied by means of a 2000W TiOx disk with the following gas flows: 200 sccm Ar and 2 sccm O2 and at a pressure of 23 x 10<sup>-3</sup> mbar.
[0049] The surface layer SiO2: Al is applied using a Si: Al disc (8% atomic mass Al) with a power of 1000W, with the following gas flows: 15 sccm Ar and 15 sccm O2 and at a pressure of 2 x 10<sup>-3</sup> mbar.
Examples 2a and 2b (comparative):
Layer of glass / SiO layers<sub>2</sub>Al / TiO<sub>2</sub> [0050] The same layer systems were made as in Examples 1a and 1b, except that the surface layer SiO2: Al was omitted.
Example 3 (comparative):
Layer of glass / SiO layers<sub>2</sub>Al / TiO<sub>2</sub>/ Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>: Al [0051] The same layer arrangement was made as in Example 1a, except that instead of an SiO2: Al top layer, a Si3N4: Al top layer was also applied, which was also 2 nm thick with a Si: Al disc (8% of atomic mass Al ) with a power of 1000W, at the following gas flows: 18 sccm Ar and 12 sccm N2 and at a pressure of 2 x 10-3 mbar.
Example 4: Strength according to the Opel test [0052] A significant improvement in the strength according to the Opel test (dry friction of the surface of the layer system using felt cork) is noted when moving from the layer system of Example 2a to the layer system of Example 1a.
[0053] No change is noted when passing from the layer system of Example 2a to the layer system of
Example 3.
[0054] In addition, before and after the above Opel test, the photocatalytic activity of the TiO2 layer of each of the layer systems of Examples 1a, 2a and 3 was evaluated, according to the photochemical degradation test of stearic acid combined with infrared transmission described in PCT International Application WO 00/75087 .
[0055] The results are summarized in Table I. This table also shows the colorimetric changes in the reflection from the layer caused during the Opel test, () E), the lack of sharpness caused by the Opel test, and the observations of the layer as to its stratification after the Opel test.
TABLE I
<td rowspan="2">Example</td><td colspan="2">TAS (cm <sup>1</sup>.min 3</td><td rowspan="2">) E</td><td rowspan="2">Lack focus ABOUT %</td><td rowspan="2">stratification</td>
<td>In front of test Opel</td><td>After test Opel</td>
<td>1a (invention)</td><td>59 x 10<sup>-3</sup></td><td>41 x 10<sup>-3</sup></td><td> 2,0</td><td> 0,5</td><td>no</td>
<td>2a (comparative)</td><td>54 x 10<sup>-3</sup></td><td>25 x 10<sup>-3</sup></td><td> 9,3</td><td> 9,3</td><td>Yes</td>
<td>3 (comparative)</td><td>40 x 10<sup>-3</sup></td><td>15 x 10<sup>-3</sup></td><td> 10,0</td><td> 12</td><td>Yes</td>
Example 5: Taber test [0056] An improvement in strength according to the Taber test (abrasion resistance = resistance to grinding wheel application) was observed when passing from the layer system of Example 2b to the layer system of Example 1b.
[0057] The layer of Example 2b is delaminated after 500 revolutions during the Taber test. For the arrangement of layers with
Example 1b, 0.8% out of focus after 200 revolutions during Taber test and 2% out of focus after 500 revolutions during Taber test.
Example 6: BSN test [0058] An improvement in the resistance according to the BSN test (salty inert fog) is noted when passing from the layer system of Example 2a to the layer system of Example 1a.
Saint-Gobain Glass France
Proxy:
EP 1 678 093 B1
Contents2
26 members in 17 offices
Priority claims8
| Document | Office | Kind | Date |
|---|---|---|---|
| 0350730 | France | A | |
| 0350730 | France | A | |
| 04805774 | European Patent Office (EPO) | A | |
| 2004050531 | France | W | |
| 2004050531 | France | W | |
| EP20040805774 | – | – | – |
| FR20030050730 | – | – | – |
| WO2004FR50531 | – | – | – |
Members26
| Document | Office | Kind | |
|---|---|---|---|
| FR2861386A1 | France | A1 | |
| AU2004283938A1 | Australia | A1 | |
| CA2543156A1 | Canada | A1 | |
| WO2005040056A2 | World Intellectual Property Organization (WIPO) | A2 | |
| WO2005040056A3 | World Intellectual Property Organization (WIPO) | A3 | |
| FR2861386B1 | France | B1 | |
| MXPA06004355A | Mexico | A | |
| EP1678093A2 | European Patent Office (EPO) | A2 | |
| KR20060090829A | Republic of Korea | A | |
| BRPI0415700A | Brazil | A | |
| CN1898172A | China | A | |
| ZA200604042B | South Africa | B | |
| JP2007512154A | Japan | A | |
| US2007148064A1 | United States of America | A1 | |
| EP1678093B1 | European Patent Office (EPO) | B1 | |
| AT471303T | Austria | T | |
| ATE471303T1 | Austria | T1 | |
| AU2004283938B2 | Australia | B2 | |
| DE602004027751D1 | Germany | D1 | |
| PT1678093E | Portugal | E | |
| ES2347440T3 | Spain | T3 | |
| PL1678093T3This record | Poland | T3 | |
| US7884047B2 | United States of America | B2 | |
| CN1898172B | China | B | |
| KR101131157B1 | Republic of Korea | B1 | |
| BRPI0415700B1 | Brazil | B1 |
Numbers
- Publication, DOCDB
- 1678093
- Publication, EPODOC
- PL1678093T
- Application
- 805774
- Application, DOCDB
- 04805774
- Application, EPODOC
- PL20040805774T
Titles2
- English
- SUBSTRATE, IN PARTICULAR GLASS SUBSTRATE, SUPPORTING A PHOTOCATALYTIC LAYER COATED WITH A PROTECTIVE THIN LAYER
- Polish
- Podłoże, zwłaszcza podłoże szklane, utrzymujące warstwę o właściwościach fotokatalitycznych powleczoną cienką warstwą ochronną
Classification
- CPC, 12
- C03C17/3417
- C03C17/23
- C03C17/3423
- C03C17/3435
- C03C17/3441
- C03C2217/71
- Y10T428/2991
- Y10T428/2993
- Y10T428/29
- B32B17/00
- B32B33/00
- C23C14/08
- IPC, 2
- C03C17 34
- B01J35 00