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MXPA05009815A

Titania coatings.

Abstract

Photocatalytic titania coatings deposited by a CVD process using an organic titanium compound and an oxygen containing organic compound exhibit improved properties. They are more durable and smoother than existing coating and are less susceptible to scratching. The preferred titanium compound is titanium isopropoxide and the preferred organic compound is ethyl acetate.

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Expired 25 March 2024, 2.5 years ago.

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14 claims: 9 independent, 5 dependent

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    REIVINDICACIONES 1. Un proceso de depósito de vapor químico, para el depósito de un recubrimiento activo 5 fotocatalíticamente, que comprende el óxido de titanio sobre la superficie de un substrato, este proceso se caracteriza porque comprende poner en contacto esa superficie con un vapor que contiene el tetraetóxido de titanio o el tetrapropóxido de titanio, para formar un R - C(0) - 0 - CO(XX') - C(YY') - R' 15 en la cual R y R', que pueden ser iguales o diferentes, representan átomos de hidrógeno o un grupo alquilo que comprende de 1 a 10 átomos de carbono, X, X', Y y Y', que pueden ser iguales o diferentes. representan átomos de hidrógeno o grupos alquilo, que 20 comprenden de 1 a 4 átomos de carbono, con la condición que al menos uno de Y o Y' representa un átomo de hidrógeno.
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    3. Un proceso, de acuerdo con la reivindicación 2, caracterizado porque el éster de carboxilato es un éster en que R es un grupo alquilo, que comprende de 1 a
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    4 átomos de carbono.
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    5 4. Un proceso, de acuerdo con la reivindicación 3, caracterizado porque el grupo alquilo es un grupo etilo. 5. Un proceso, de acuerdo con la reivindicación 3, caracterizado porque el éster de carboxilato se 10 selecciona del grupo que consta del formato de etilo, acetato de etilo, propionato de etilo, butirato de etilo, formato de n-propilo, acetato de n-propilo, propionato de n-propilo, butirato en-propilo, formato de isopropilo, acetato de isopropilo, propionato de 15 isopropilo, butirato de isopropilo, formato de nbutilo, acetato de n-butilo, acetato de sec.-butilo y acetato de t-butilo.
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    6. Un proceso, de acuerdo con la reivindicación 5, caracterizado porque el éster de carboxilato es el 20 acetato de etilo.
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    7. Un proceso, de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque el substrato está a una temperatura en el intervalo de 400 a 800°C.
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    8. Un proceso, de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque que 5 el substrato está a una temperatura de 610 a 720°C.
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    9. Un proceso, de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque que el substrato es una banda de vidrio, producida durante un proceso de producción de vidrio flotante.
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    10 10. Un proceso, de acuerdo con la reivindicación 9, caracterizado porque el depósito toma lugar dentro del baño de flotación.
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    11. Un substrato activo fotocatalíticamente, que tiene un recubrimiento de óxido de titanio, sobre al menos una 15 de sus superficies, caracterizado porque la superficie recubierta exhibe una actividad fotocatalítica de al menos el 50% (expresada como la reducción del porcentaje de las crestas de absorción integradas, que corresponden a una película delgada del ácido 20 esteárico, producida por la irradiación UVA con una intensidad de 0.7 w/m 2 , por un período de 30 minutos) y no se afecta por la inmersión de una solución 1 molar de hidróxido de sodio, a 75 °C, por un período de al menos 6 horas.
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    12. Un substrato activo fotocatalíticamente, que tiene un recubrimiento de dióxido de titanio, sobre al menos una 5 de sus superficies, caracterizado porque la superficie recubierta tiene un valor de Ra menor de 2 nm, y una actividad fotocatalítica de cuando menos el 50% (expresada como la reducción del porcentaje de las crestas de absorción integradas, que corresponden a una 10 película delegada de ácido esteárico, producida por la irradiación UVA, con una intensidad de 32 W/m 2 , por un período de 30 minutos).
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    13. Un substrato activo fotocatalíticamente, que tiene un recubrimiento de dióxido de titanio, sobre al menos una 15 de sus superficies, caracterizado porque el recubrimiento es cristalino y tiene un valor de Ra menor de 2 nm.
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    14. Un substrato activo fotocatalíticamente, que tiene un recubrimiento de óxido de titanio, sobre al menos una 20 de sus superficies, caracterizado porque la superficie recubierta exhibe una actividad fotocatalítica de cuando menos el 80% (expresada como la reducción del porcentaje de las crestas de absorción integradas, que corresponden a una película delgada de ácido esteárico, producida por la irradiación de UVA, con una intensidad de 0.76 W/m 2 , durante un período de 30 minutos) y una 16. Un substrato de vidrio, de acuerdo con cualquiera de 10 las reivindicaciones 10 a 14, caracterizado porque la capa de dióxido de titanio tiene un espesor de 10 nm a 40 nm. 18. Un substrato de vidrio, de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 10 a 17, caracterizado porque comprende una capa de bloqueo de un metal alcalino, entre el vidrio y el recubrimiento de dióxido de 20 titanio. hasta 20 nm. 5 20. Un substrato de vidrio, de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 10 a 19, caracterizado porque el substrato permanece fotoactivo, después de realizar 200 ciclos de la prueba de reciclado de humedad. 21. Un substrato de vidrio, de acuerdo con cualquiera de 10 las reivindicaciones 10 a 20, caracterizado porque el recubrimiento no se afecta por la inmersión en una solución 1M de hidróxido de sodio, 75°C, durante un período de seis horas. 22. Un substrato de vidrio, de acuerdo con cualquiera de
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    15 las reivindicaciones 10 a 21, caracterizado porque tiene una resistencia a raspaduras del recubrimiento, de modo que una prueba de pasador y disco, bajo una carga de 3 Nm, no produce un raspado continuo sobre la superficie recubierta. 23. Un substrato de vidrio, de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 10 a 22, caracterizado porque el contenido de carbón del recubrimiento es menor del 10%.
Independent claims14