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JP5776818B2

Exposure apparatus, method for producing device, and method for controlling exposure apparatus

Abstract

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JP5776818B2, drawing sheet 1
Sheet 1 of 24

Term

Projected expiry 2 May 2034.

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  5. Projected expiry

36 claims: 11 independent, 25 dependent

  1. 1
    投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置であって、 前記投影光学系の像面側に液体を供給する供給口と、 前記供給口から供給された液体を回収する回収口と、 前記回収口から回収された気体と液体とを分離する分離器と、 前記回収口から回収された液体の量を計測する流量計と、を備える露光装置。
  2. 2
    前記流量計は、前記分離器の下流に配置されている請求項1に記載の露光装置。
  3. 3
    投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置であって、 前記投影光学系の像面側に液体を供給する供給口と、 前記供給口から供給された液体を回収する回収口と、 前記回収口から回収された気体と液体とを分離する分離器と、 前記分離器の下流に配置された流量計と、を備える露光装置。
  4. 4
    前記流量計は、前記回収口と真空系との間に配置されている請求項1~3のいずれか一項に記載の露光装置。
  5. 5
    前記基板の上方から前記回収口を介して液体を回収しながら、前記基板の表面の液浸領域を形成し、前記液浸領域を介して前記基板を露光する請求項1~4のいずれか一項に記載の露光装置。
  6. 6
    前記基板を保持する基板ステージをさらに備え、前記基板ステージに形成された流路を介して液体を回収する請求項1~5のいずれか一項に記載の露光装置。
  7. 7
    前記基板ステージの前記流路を介して回収された液体と気体とを分離する別の分離器をさらに備える請求項6に記載の露光装置。
  8. 8
    前記基板ステージの前記流路を介して回収された液体の量を計測する別の流量計をさらに備える請求項7に記載の露光装置。
  9. 9
    前記別の流量計は、前記別の分離器の下流に配置されている請求項8記載の露光装置。
  10. 10
    前記基板ステージの前記流路を介して回収された液体の量を計測する別の流量計をさらに備える請求項6に記載の露光装置。
  11. 11
    前記別の流量計は、前記基板ステージの前記流路と真空系との間に配置されている請求項8~10のいずれか一項に記載の露光装置。
  12. 12
    前記基板ステージの前記流路を介して回収される液体は、前記基板ステージの上面と前記基板ステージに保持された前記基板の表面との間のギャップから流入した液体を含む請求項6~11のいずれか一項記載の露光装置。
  13. 13
    前記基板ステージには、液体を回収する別の回収口が設けられ、 前記基板ステージの前記流路を介して回収される液体は、前記基板ステージに設けられた前記回収口からの液体を含む請求項6~11のいずれか一項記載の露光装置。
  14. 14
    前記基板ステージは、前記供給口と前記回収口の下方で、前記供給口と前記回収口に対して移動可能であり、 前記供給口から供給された液体の一部は、前記基板ステージの上方から前記回収口を介して回収され、 前記供給口から供給された液体の他の一部は、前記基板ステージに設けられた前記流路を介して回収される請求項6~13のいずれか一項に記載の露光装置。
  15. 15
    前記基板を保持する基板ステージをさらに備え、 前記基板ステージには、前記回収口が設けられている請求項1~5記載の露光装置。
  16. 16
    前記基板ステージは、前記供給口の下方で、前記供給口に対して移動可能であり、 前記供給口から供給された液体の一部は、前記基板ステージに設けられた前記回収口から回収される請求項15記載の露光装置。
  17. 17
    投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置であって、 前記投影光学系の像面側に液体を供給する供給口と、 前記供給口から供給された液体を回収する回収口と、 前記基板を保持する基板ステージと、 前記基板ステージに形成された流路を介して回収された液体の量を計測する流量計と、 を備える露光装置。
  18. 18
    前記基板ステージの前記流路を介して回収された液体と気体とを分離する分離器をさらに備える請求項17に記載の露光装置。
  19. 19
    前記流量計は、前記分離器で分離された液体の量を計測する請求項18に記載の露光装置。
  20. 20
    前記基板ステージは、前記供給口と前記回収口の下方で、前記供給口と前記回収口に対して移動可能であり、 前記供給口からの液体供給と前記回収口からの気体回収を行いつつ、前記基板上の一部に液浸領域を形成し、 前記液浸領域の液体を介して前記基板を露光する請求項17~19のいずれか一項に記載の露光装置。
  21. 21
    投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置であって、 前記投影光学系の像面側に液体を供給する供給口と、 前記供給口から供給された液体を回収する回収口と、 前記基板を保持する基板ステージと、 前記回収口に接続された流量計と、を備え、 前記回収口が、前記基板ステージに設けられている露光装置。
  22. 22
    前記基板ステージは、前記供給口の下方で、前記供給口に対して移動可能であり、 前記供給口から供給された液体の一部は、前記基板ステージに設けられた前記回収口から回収される請求項21記載の露光装置。
  23. 23
    前記供給口から供給される液体の量を計測する流量計をさらに備える請求項1~21のいずれか一項記載の露光装置。
  24. 24
    請求項1~23のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することを含むデバイス製造方法。
  25. 25
    投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光方法であって、 前記投影光学系の像面側に供給口から液体を供給するとともに、前記供給口から供給された液体を回収口から回収することにより、前記基板の一部に液浸領域を形成することと、 前記液浸領域の液体を介して前記基板に露光光を照射することと、 前記回収口から回収された液体と気体とを分離することと、 前記分離された液体の量を計測することと、 を含む露光方法。
  26. 26
    前記基板を保持する基板ステージに形成された流路を介して液体を回収することをさらに含む請求項25に記載の露光方法。
  27. 27
    前記基板ステージの前記流路を介して回収された液体の量を計測することをさらに含む請求項26に記載の露光方法。
  28. 28
    投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光方法であって、 前記投影光学系の像面側に供給口から液体を供給するとともに、前記供給口から供給された液体を回収口から回収することにより、前記基板の一部に液浸領域を形成することと、 前記液浸領域の液体を介して前記基板に露光光を照射することと、 前記基板が保持された基板ステージの流路を介して回収された液体の量を計測することと、 を含む露光方法。
  29. 29
    前記基板ステージの前記流路を介して回収された液体と気体とを分離することをさらに含む請求項27または28に記載の露光方法。
  30. 30
    前記基板ステージの前記流路を介して回収された液体の量の計測は、前記分離された液体の量の計測である請求項29記載の露光方法。
  31. 31
    前記基板ステージの前記流路を介して回収された液体と気体とを分離することをさらに含む請求項26に記載の露光方法。
  32. 32
    前記基板ステージの前記流路を介して回収される液体は、前記基板ステージの上面と前記基板ステージに保持された前記基板の表面との間のギャップから流入した液体を含む請求項26~31のいずれか一項に記載の露光方法。
  33. 33
    前記基板ステージは、前記供給口と前記回収口の下方で、前記供給口と前記回収口に対して移動可能であり、 前記供給口から供給された液体の他の一部は、前記基板ステージに設けられた前記流路を介して回収される請求項26~32のいずれか一項記載の露光方法。
  34. 34
    前記基板ステージの前記流路を介して回収される液体は、前記基板ステージに設けられた別の回収口からの液体を含む請求項26~33のいずれか一項記載の露光方法。
  35. 35
    前記供給口から供給される液体の量を計測することをさらに含む請求項25~34のいずれか一項に記載の露光方法。
  36. 36
    請求項25~35のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板を露光することを含むデバイス製造方法。
Independent claims36