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JP2017194723A

Exposure apparatus and method for manufacturing device

Abstract

Problem to be solved.To provide an exposure apparatus capable of satisfactorily exposing by suppressing the influence of leakage of a liquid forming an immersion region on an apparatus / member around a substrate. An exposure apparatus exposes a substrate by projecting a pattern image onto the substrate via a projection optical system and a liquid, and supplies the liquid between the projection optical system and the substrate. It has a supply mechanism. The liquid supply mechanism stops the supply of liquid when an abnormality is detected. [Selection diagram] Fig. 1

JP2017194723A, drawing sheet 1
Sheet 1 of 25

Term

Projected expiry 4 August 2037.

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57 claims: 17 independent, 40 dependent

  1. 1
    液体を介して基板に露光光を照射して基板を露光する露光装置であって:パターン像を基板上に投影する投影光学系と;投影光学系と基板との間へ液体を供給する液体供給機構とを備え;液体供給機構は、異常が検出されたときに液体の供給を停止する露光装置。
  2. 2
    さらに、電気機器を備え、液体の付着に起因する漏電を防止するために、異常が検出されたときに、前記電気機器への電力供給を停止する請求項1に記載の露光装置。
  3. 3
    液体を介して基板に露光光を照射して基板を露光する露光装置であって:パターン像を液体を介して基板上に投影する投影光学系と;電気機器とを備え;液体の付着に起因する漏電を防止するために、異常が検出されたときに、電気機器への電力供給を停止する露光装置。
  4. 4
    前記基板を保持して移動可能な基板ステージを備え、前記電気機器は、前記基板ステージを動かすためのリニアモータを含む請求項2または3に記載の露光装置。
  5. 5
    吸気口を備え、液体の流入を防止するために、前記異常が検出されたときに、前記吸気口からの吸気を停止する請求項1または3に記載の露光装置。
  6. 6
    液体を介して基板に露光光を照射して基板を露光する露光装置であって:パターン像を液体を介して基板上に投影する投影光学系と;吸引系に流通する吸気口とを備え;液体の流入を防止するために、異常が検出されたときに、吸気口からの吸気を停止する露光装置。
  7. 7
    前記基板を保持して移動可能な可動部材と、前記吸気口を有し、前記可動部材をガイド面に対して非接触で移動させるためのエアベアリングとを備え、前記吸気口は、前記可動部材と前記ガイド面との間の気体を吸気する請求項5または6に記載の露光装置。
  8. 8
    前記異常は、前記基板を保持して移動可能な可動部材と前記投影光学系との位置関係の異常を含む請求項1、3及び6のいずれか一項に記載の露光装置。
  9. 9
    前記異常な位置関係は、前記投影光学系の下に液体を保持できない状態である請求項8に記載の露光装置。
  10. 10
    前記可動部材上の第1領域と、前記投影光学系の像面側先端部を含み、前記第1領域に対向する第2領域とを備え、前記液体は、前記第1領域の少なくとも一部と前記第2領域との間に保持されて液浸領域を形成し、前記異常は、前記第1領域と前記第2領域との位置関係の異常を含む請求項9に記載の露光装置。
  11. 11
    前記異常な位置関係は、前記液浸領域の少なくとも一部が前記第1領域よりも外側に出た状態を含む請求項10に記載の露光装置。
  12. 12
    前記第1領域と前記第2領域との位置関係の異常が検出されたときに、前記可動部材の移動が停止される請求項9に記載の露光装置。
  13. 13
    前記異常は、液体の漏れを含む請求項1、3及び6のいずれか一項に記載の露光装置。
  14. 14
    液体の漏れを検出する検出器と、前記検出器の検出結果に基づいて、前記露光装置の動作を制御する制御装置とを備えた請求項13に記載の露光装置。
  15. 15
    前記検出器は、複数の所定位置のそれぞれに設けられ、前記制御装置は、前記液体を検出した検出器の位置に応じて、前記液体供給の停止と前記電力供給の停止との少なくとも一方の動作を選択する請求項14に記載の露光装置。
  16. 16
    前記制御装置は、前記検出器で検出した液体の量に応じて、前記液体供給の停止と前記電力供給の停止との少なくとも一方の動作を選択する請求項14に記載の露光装置。
  17. 17
    前記検出器は、前記基板を保持する基板ステージに配置される請求項14に記載の露光装置。
  18. 18
    前記検出器は、前記基板を保持する基板ステージを移動可能に支持するベース部材に配置される請求項14に記載の露光装置。
  19. 19
    前記検出器は、電磁駆動源の周辺に配置される請求項14に記載の露光装置。
  20. 20
    前記検出器は、前記基板を保持する基板ステージに設けられた液体回収口の内部に配置される請求項14に記載の露光装置。
  21. 21
    前記基板ステージに保持された基板の周囲に該基板の表面とほぼ面一な平坦部を有し、前記液体回収口は、前記平坦部の外側に設けられている請求項20に記載の露光装置。
  22. 22
    前記液体回収口は、前記基板の周囲を囲むように形成された溝部を含む請求項20に記載の露光装置。
  23. 23
    前記検出器は、液体の漏れを光学的に検出する請求項14に記載の露光装置。
  24. 24
    前記検出器は、光ファイバを含む請求項14に記載の露光装置。
  25. 25
    前記液体供給機構によって供給された液体を回収する液体回収機構を備え、前記異常は、前記液体回収機構の回収動作の異常を含む請求項1、3及び6のいずれか一項に記載の露光装置。
  26. 26
    前記液体回収機構の動作異常は、前記液体供給機構から供給された液体の量と前記液体回収機構で回収された液体の量とを比較することによって検知される請求項25に記載の露光装置。
  27. 27
    液体を介して基板に露光光を照射して基板を露光する露光装置であって:パターン像を液体を介して基板上に投影する投影光学系と;吸引系に流通された吸引口と;吸引口から吸い込まれた液体と気体とを分離する分離器と;分離器によって分離された気体を乾燥させる乾燥器とを備えた露光装置。
  28. 28
    前記乾燥器で乾燥した気体が前記吸引系に流入する請求項27に記載の露光装置。
  29. 29
    前記吸引口は液体を回収するために設けられている請求項27に記載の露光装置。
  30. 30
    前記基板を保持する基板保持部材を備え、前記吸引口は、前記基板を吸着保持するために前記基板保持部材に設けられている請求項27に記載の露光装置。
  31. 31
    電気機器を備え、液体の付着に起因する漏電を防止するために、異常が検出されたときに、前記電気機器への電力供給を停止する請求項27に記載の露光装置。
  32. 32
    前記投影光学系と前記基板との間へ液体を供給する液体供給機構を備え、前記液体供給機構は、異常が検出されたときに液体の供給を停止する請求項27に記載の露光装置。
  33. 33
    液体を介して基板に露光光を照射して基板を露光する露光装置であって:基板を保持して移動可能な基板ステージであって、その上に第1領域を有する基板ステージと;基板にパターン像を投影する投影光学系であって、像面側先端部を含み、第1領域と対向して第1領域の少なくとも一部との間に液体を保持する第2領域を有する投影光学系と;第1領域と第2領域との位置関係に応じて、基板ステージの移動を制限する制御装置とを備える露光装置。
  34. 34
    前記制御装置は、前記第1領域と前記第2領域との間に液体を保持している場合に前記制限を行う請求項33に記載の露光装置。
  35. 35
    前記制御装置は、前記第1領域と前記第2領域との間に液体を保持していない場合に前記制限を解除する請求項33に記載の露光装置。
  36. 36
    前記基板ステージは、前記基板ステージ上に保持した前記基板表面とほぼ面一な平坦部を有し、前記第1領域は、前記基板表面及び前記平坦部のうち少なくとも一方を含む請求項33に記載の露光装置。
  37. 37
    前記投影光学系の先端部の周囲に設けられ、前記液体を供給する供給口及び前記液体を回収する回収口のうち少なくともいずれか一方を有するノズル部材を有し、前記第2領域は、前記ノズル部材の少なくとも一部を含む請求項33に記載の露光装置。
  38. 38
    前記回収口は、前記投影光学系の投影領域に対して前記供給口よりも外側に設けられ、前記第2領域は、前記回収口よりも内側の領域である請求項37に記載の露光装置。
  39. 39
    前記第2領域に対する前記第1領域の位置情報を計測する計測装置を備え、前記制御装置は、前記計測装置の計測結果に基づいて、前記基板ステージの移動範囲を制限する請求項33に記載の露光装置。
  40. 40
    前記制御装置は、前記第1領域と前記第2領域との位置関係に関する異常値を予め記憶し、前記第2領域に対する前記第1領域の位置が前記異常値を越えたときに、前記基板ステージの移動を停止する請求項33に記載の露光装置。
  41. 41
    液体を供給する液体供給機構を備え、前記制御装置は、前記第1領域と前記第2領域との位置関係に基づいて、前記液体供給機構の動作を制限する請求項33~40のいずれか一項に記載の露光装置。
  42. 42
    前記制御装置は、前記第1領域と前記第2領域との位置関係に関する異常値を予め記憶し、前記第2領域に対する前記第1領域の位置が前記異常値を越えたときに、前記液体供給機構による液体供給を停止する請求項41に記載の露光装置。
  43. 43
    液体を介して基板に露光光を照射して基板を露光する露光装置であって:基板上に液体を介してパターン像を投影する投影光学系と;基板を保持して移動可能な基板ステージと;基板ステージを移動可能に支持するベース部材と;基板ステージに設けられ、液体を検知する第1検出器と;ベース部材に設けられ、液体を検知する第2検出器と;第1検出器及び第2検出器の検出結果に応じて、露光装置の動作を制御する制御装置とを備える露光装置。
  44. 44
    前記基板上に前記液体を供給する液体供給機構を備え、前記制御装置は、前記第1検出器が液体を検知したときに、前記液体供給機構の液体供給動作を停止する請求項43に記載の露光装置。
  45. 45
    前記基板ステージを駆動する駆動装置と、前記ベース部材を防振支持する防振装置とを備え、 前記制御装置は、前記第2検出器が液体を検知したときに、前記駆動装置と前記防振装置との少なくとも一方への電力供給を停止する請求項43に記載の露光装置。
  46. 46
    前記基板ステージを駆動する駆動装置と、前記ベース部材を防振支持する防振装置とを備え、 前記制御装置は、前記第1検出器と前記第2検出器との少なくとも一方が第1基準値以上の液体を検知したときに前記液体供給機構の液体供給動作を停止し、第2基準値以上の液体を検知したときに前記駆動装置と前記防振装置との少なくとも一方への電力供給を停止する請求項43に記載の露光装置。
  47. 47
    液体を介して基板に露光光を照射して基板を露光する露光装置であって:パターン像を基板上に投影する投影光学系と;投影光学系と基板との間へ液体を供給する液体供給機構と;基板を保持して移動可能な基板ステージと;液体供給機構が液体を供給している間は、基板ステージの移動範囲を第1の範囲に制限し、液体供給機構が液体の供給を停止している間は、基板ステージの移動範囲を第1の範囲より広い第2の範囲に制限する制御装置とを備えた露光装置。
  48. 48
    前記第1の範囲は、前記第2の範囲に含まれる請求項47に記載の露光装置。
  49. 49
    液体を介して基板に露光光を照射して基板を露光する露光装置であって:パターン像を基板上に投影する投影光学系と;投影光学系の像面側の光路空間を液体で満たすための液体供給機構と;投影光学系の像面側で移動可能なステージと;ステージの移動範囲を制御する制御装置とを備え;その制御装置が、投影光学系とステージとの間に液体が保持されているときのステージの移動範囲を、投影光学系とステージとの間に液体を保持されていないときのステージの移動範囲より狭い範囲に制限する露光装置。
  50. 50
    前記ステージは、前記基板を保持して、前記投影光学系の像面側で移動可能である請求項49記載の露光装置。
  51. 51
    制御装置は、ステージの上面の液体保持可能な領域の大きさと、そのステージ上面に対向するように配置された液体保持面の大きさとに基づいて、投影光学系とステージとの間に液体が保持されているときのステージの移動範囲を制限する請求項49に記載の露光装置。
  52. 52
    請求項1、3、6、27、33、43、47及び49のいずれか一項に記載の露光装置を用いるデバイス製造方法。
  53. 53
    液体を介して基板に露光光を照射して基板を露光する露光装置を制御する方法であって、パターン像を基板上に投影する投影光学系と、投影光学系の像面側へ液体を供給する液体供給機構と、 電気エネルギーを駆動力とする機器と、気体を吸引する機能を有する機器を含むコンポーネントから構成され且つ外部関連装置と接続される露光装置の制御方法であって:前記投影光学系の像面側へ液体を供給することと;前記コンポーネント及び外部関連装置の少なくとも一つから異常を知らせる信号を受信することと;前記受信した信号に基づいて、液体供給機構、電気エネルギーを駆動力とする機器及び気体を吸引する機能を有する機器の少なくとも一種の動作を制限することを含む露光装置の制御方法。
  54. 54
    前記信号を受信したときに、液体漏れの場所を同定し、同定した場所に応じて、液体供給機構、電気エネルギーを駆動力とする機器及び気体を吸引する機能を有する機器のうちの動作を制限する機構又は機器を選択することを含む請求項53に記載の露光装置の制御方法。
  55. 55
    さらに、露光装置のコンポーネントが液体回収装置を含み、前記信号を受信したときに液体回収装置の回収能力を増大する請求項53に記載の露光装置の制御方法。
  56. 56
    前記信号を受信したときにアラームを発する請求項53に記載の露光装置の制御方法。
  57. 57
    液体供給機構は、異常が検出されたときに液体の供給を停止する請求項53に記載の露光装置の制御方法。
Independent claims57