JP4716631B2

Process for the production of photocatalytic coatings on substrates

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Expired 1 June 2020, 6.3 years ago.

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13 claims: 1 independent, 12 dependent

  1. 1
    645°Cから720°Cの範囲の温度にあるガラス基板の表面を、チタン源 としての塩化チタン、および酸素源を含む 流体混合物と接触させることにより、 前記ガラス基板の 表面 上 に 、30 nm 又はそれ 未満の厚みを有する光触媒活性酸化チタン層を析出することを含む、耐久性光触媒活性 被膜基板 の製造方法。
  2. 2
    前記基板が670°Cから720°Cの範囲の温度である、請求項1記載の製造方法。
  3. 3
    前記流体混合物が、メチルエステル以外のエステルを含む、請求項1または2記載の製造方法。
  4. 4
    前記エステルが、β水素をもつアルキル基を有するアルキルエステルを含む、請求項3記載の製造方法 。
  5. 5
    前記エステルがカルボン酸エステルを含む、請求項4記載の製造方法 。
  6. 6
    前記エステルがC 2 からC 4 のアルキル基を有するアルキルエステルである、請求項5記載の製造方法 。
  7. 7
    前記エステルがエチルエステルを含む、請求項6記載の製造方法 。
  8. 8
    前記エステルが酢酸エチルを含む、請求項7記載の製造方法 。
  9. 9
    前記エステルが前記流体混合物中に含まれる唯一の酸素源である、請求項3から8のいずれかに記載の製造方法 。
  10. 10
    前記流体混合物がガス状混合物である、請求項1から9のいずれかに記載の製造方法 。
  11. 11
    前記製造方法を、フロートガラスプロセスの間中、オンラインで行い、かつ基板がガラスリボンである、請求項1から10のいずれかに記載の製造方法 。
  12. 12
    前記製造方法をフロートバス内で行う、請求項11記載の製造方法 。
  13. 13
    前記製造方法を実質的に大気圧で行う、請求項1から12のいずれかに記載の製造方法 。
Independent claims13