Nova Patents
ES2301569T3

Methods of obtaining photoactive coatings and/or anatase crystalline phase of titanium oxides and articles made thereby

Abstract

A method of coating a substrate, comprising the steps of: forming a first coating layer having an orthorhombic or cubic zirconium crystalline phase on at least a part of the surface of a substrate as a first stage of formation; and - forming a second coating layer of a photoactive material selected from at least one metal oxide or semiconductor metal oxide on the first coating layer defined as a second forming step to provide a coated substrate, in which in the second Forming stage a material with a predetermined crystalline phase is formed and the first coating layer will enhance the development of the predetermined crystalline phase.

ES2301569T3, drawing sheet 1
Sheet 1 of 11

Term

Term ended

Projected expiry passed 31 August 2021, 5.1 years ago.

  1. Priority
  2. Filed
  3. Published
  4. Projected expiry
  5. Today

24 claims: 18 independent, 6 dependent

  1. 1
    ES 2 301 569 T3 REIVINDICACIONES 1. Un procedimiento de revestir un sustrato, que comprende las etapas de:- formar una primera capa de revestimiento que tiene una fase cristalina ortorrómbica o cúbica de óxido de circonio sobre al menos una parte de la superficie de un sustrato como una primera etapa de formación;y - formar una segunda capa de revestimiento de un material fotoactivo seleccionado de al menos un óxido de metal u óxido de metal semiconductor sobre la primera capa de revestimiento definida como una segunda etapa de formación para proporcionar un sustrato revestido, en el que en la segunda etapa de formación se forma un material con una fase cristalina predeterminada y la primera capa de revestimiento potenciará el desarrollo de la fase cristalina predeterminada.
  2. 2
    El procedimiento de la reivindicación 1, en el que la segunda capa de revestimiento comprende óxido de titanio.
  3. 3
    El procedimiento de cualquiera de las reivindicaciones precedentes, en el que la segunda etapa de formación incluye la formación de una película de óxido de titanio sobre la película de óxido de circonio, teniendo la película de óxido de titanio fase(s) anatasa y/o rutilo y/o amorfa después de calentamiento.
  4. 4
    El procedimiento de la reivindicación 1 que comprende el calentamiento de al menos uno de los sustratos, la primera capa de revestimiento o la segunda capa de revestimiento para que el material de la segunda capa de revestimiento tenga al menos una fase cristalina predeterminada.
  5. 5
    El procedimiento de cualquiera de las reivindicaciones precedentes, en el que la primera etapa de formación incluye depositar una película de óxido de circonio en la fase cúbica.
  6. 6
    El procedimiento de cualquiera de las reivindicaciones precedentes, en el que la primera y la segunda etapas de formación se llevan a cabo por deposición por pulverización iónica.
  7. 7
    El procedimiento de cualquiera de las reivindicaciones precedentes, incluyendo el calentamiento del sustrato a una temperatura en uno o más de los intervalos de temperatura siguientes antes de la formación de la primera capa de revestimiento:21°C a 259°C (70°F a 500°F), más de o igual a 65°C (150°F);93°C a 537°C (200°F a 1000°F);ó 148°C a 259°C (300°F a 500°F).
  8. 8
    El procedimiento de cualquiera de las reivindicaciones precedentes, en el que la primera capa de revestimiento tiene un espesor en uno o más de los siguientes intervalos de espesor:mayor o igual a 15 A;mayor o igual a 25 A;mayor de 0 A y menor o igual a 150 A;40 A a 80 A;60 A a 70 A;mayor de o igual a 100 A;mayor de 0 A y menor de 500 A;o mayor de o igual a 400 A.
  9. 9
    El procedimiento de cualquiera de las reivindicaciones precedentes, incluyendo el calentamiento del sustrato revestido a una temperatura en uno o más de los intervalos de temperatura:204°C (400°F);mayor o igual a 259°C (500°F), o mayor o igual a 315°C (600°F).
  10. 10
    El procedimiento de cualquiera de las reivindicaciones precedentes, en el que la segunda capa de revestimiento tiene un espesor en uno de los siguientes intervalos de espesor:mayor de o igual a 100 A;mayor de o igual 200 A;100 A a 500 A;ó 300 A a 400 A.
  11. 11
    El procedimiento de cualquiera de las reivindicaciones precedentes, en el que el sustrato es vidrio.
  12. 12
    El procedimiento de cualquiera de las reivindicaciones precedentes, que además incluye la formación de un revestimiento funcional sobre al menos una parte de la superficie de la segunda capa de revestimiento definida como una tercera etapa de formación.
  13. 13
    El procedimiento de la reivindicación 12, en el que la segunda y tercera etapa de formación se realizan en el mismo revestidor.
  14. 14
    Un artículo que se puede obtener por un procedimiento de cualquiera de las reivindicaciones 1 - 13.
  15. 15
    Un artículo, que comprende:- un sustrato;- una primera capa de revestimiento con fase cristalina cúbica u ortorrómbica de óxido de circonio sobre al menos una parte de la superficie del sustrato;y ES 2 301 569 T3 - una segunda capa de revestimiento de un material fotoactivo seleccionado de al menos un óxido de metal u óxido de metal semiconductor sobre la primera capa de revestimiento.
  16. 16
    El artículo de la reivindicación 15, en el que la segunda capa de revestimiento tiene un espesor de 100 A a 400 A, preferiblemente de 150 A a 300 A.
  17. 17
    El artículo de cualquiera de las reivindicaciones 15 y 16, en el que la segunda capa de revestimiento comprende óxido de titanio.
  18. 18
    El artículo de 17, en el que la capa de óxido de titanio está en la(s) fase(s) anatasa, y/o rutilo, y/o amorfa.
  19. 19
    El artículo de cualquiera de las reivindicaciones 15 a 18, en el que la capa de óxido de circonio tiene un espesor de 10 A a 200 A, preferiblemente de 25 A a 150 A.
  20. 20
    El artículo de cualquiera de las reivindicaciones 15 a 19, en el que la segunda capa de revestimiento es un revestimiento fotoactivo que es fotohidrófilo o fotocatalítico.
  21. 21
    El artículo de cualquiera de las reivindicaciones 15 a 20, en el que el sustrato revestido tiene un ángulo de contacto con agua de menos de o igual a 20° después de 60 a 90 minutos de exposición a la radiación electromagnética con una longitud de onda de 340 nm a una intensidad de 24 w/m 2 en la superficie de revestimiento.
  22. 22
    El artículo de la reivindicación 21, en el que el ángulo de contacto es inferior a 10°.
  23. 23
    El artículo de cualquiera de las reivindicaciones 15-22, en el que el sustrato es vidrio, y el artículo es una luna.
  24. 24
    El artículo de la reivindicación 23, siendo éste una ventana.
Independent claims24