ES2296982T3

Methods of making low-e matchable coated articles

Abstract

A process for manufacturing a coated article, said process comprising: depositing at least a first dielectric layer on a glass substrate; depositing a layer system on the first dielectric layer, the layer system including an Ag infrared light (IR) reflective metal layer located between and in contact with the first and second metal layers, with at least one of the layers that include metal comprising NiCrNX nitrated to some extent, and controlling the flow of nitrogen gas during the sputtering of the layer comprising metal comprising NiCrNX so that the flow of nitrogen gas is 4 to 12 sccm / kW; and deposit at least a second dielectric layer on the layer system; where before the heat treatment, the glass substrate with the layer system on it has an RS sheet strength of not more than 20 ohms / square, and heat treat the substrate with the layer system on it so that, due to said heat treatment, the resulting substrate with the layer system thereon has a value of DeltaE * (glass side) not greater than 3.5.

ES2296982T3, drawing sheet 1
Sheet 1 of 11

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10 claims: 1 independent, 9 dependent

  1. 1
    ES 2 296 982 T3 REIVINDICACIONES 1. Un procedimiento para fabricar un artículo recubierto, comprendiendo dicho procedimiento:depositar al menos una primera capa dieléctrica sobre un sustrato de vidrio;depositar un sistema de capas sobre la primera capa dieléctrica, incluyendo el sistema de capas una capa de metal reflectante de la luz infrarroja (IR) de Ag localizado entre y en contacto con la primera y segunda capa que incluyen metal, estando al menos una de las capas que incluyen metal que comprende NiCrN X nitrada en alguna medida, y controlar el flujo de gas de nitrógeno durante la pulverización catódica de la capa que incluye metal que comprende NiCrN X de forma que el flujo de gas nitrógeno sea de 4 a 12 sccm/kW;y depositar al menos una segunda capa dieléctrica sobre el sistema de capas;donde antes del tratamiento térmico, el sustrato de vidrio con el sistema de capas sobre el mismo tiene una resistencia de lámina R S no mayor de 20 ohms/cuadrado, y tratar térmicamente el sustrato con el sistema de capas sobre el mismo de manera que, debido a dicho tratamiento térmico, el sustrato resultante con el sistema de capas sobre el mismo tenga un valor de AE* (lado del vidrio) no mayor de 3,5.
  2. 2
    El procedimiento de la reivindicación 1, en el que dicho tratamiento térmico comprende atemperado térmico del sustrato con el sistema de capas sobre el mismo.
  3. 3
    El procedimiento de la reivindicación 1, en el que dicha deposición comprende la pulverización catódica.
  4. 4
    El procedimiento de la reivindicación 1, en el que el sistema de capas comprende, desde el sustrato hacia el exterior, los siguientes espesores:a) primera capa que incluye nitruro de silicio: 300-700 A de espesor b) capa de NiCrNx (dicha primera capa que incluye metal): 5-15 A de espesor c) capa de plata (dicha capa que refleja la luz IR): 40-120 A de espesor d) capa de NiCrNx (dicha segunda capa que incluye metal): 3-12 A de espesor e) segunda capa que incluye nitruro de silicio: 350-700 A de espesor
  5. 5
    El procedimiento de la reivindicación 1, en el que debido a dicho tratamiento térmico, el sustrato resultante con el sistema de capas sobre el mismo tiene un valor de AE* (lado del vidrio) no mayor de 3,0 y un valor de Aa* (lado del vidrio) no mayor de 2,0.
  6. 6
    El procedimiento de la reivindicación 1, en el que cada una de dichas primera y segunda capas que incluyen metal comprende CrNx.
  7. 7
    El procedimiento de la reivindicación 1, en el que cada una de dichas primera y segunda capas que incluyen metal comprende Ni y N.
  8. 8
    El procedimiento de la reivindicación 1, en el que al menos una capa que incluye metal está nitrada, pero no está nitrada en más de un 75%.
  9. 9
    El procedimiento de la reivindicación 1, en el que al menos una capa que incluye metal no está nitrada en más de un 50%.
  10. 10
    El procedimiento de la reivindicación 1, en el que el flujo de gas nitrógeno es de 6-10 sccm/kW.