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WO2008047810A1

Antibacterial substratum and process for producing the same

Abstract

An antibacterial substratum comprising a substratum and, provided on a surface thereof, multiple antibacterial metal islands. The multiple antibacterial metal islands are in contact with ambient atmosphere. The average value of contact angles exhibited by the substratum and the multiple antibacterial metal islands, as determined on the basis of surface observation results by scanning electron micrograph, is 90 degrees or less.

WO2008047810A1, drawing sheet 1
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17 claims: 15 independent, 2 dependent

  1. 1
    請求の範囲 [I] 基材と、 前記基材の表面に形成された複数の抗菌金属アイランドとを備え、 前記複数の抗菌金属アイランドが外部雰囲気に接し、 走査型電子顕微鏡による表面観察の結果に基づいて測定される前記基材と前記 複数の抗菌金属アイランドとの接触角の平均値が 90度以下である、抗菌性基材。
  2. 2
    [2] 前記複数の抗菌金属アイランドの直径の平均値が 5〜500nmの範囲にある、請求 項 1に記載の抗菌性基材。
  3. 3
    [3] 前記複数の抗菌金属アイランドの直径の平均値が 5〜50nmの範囲にある、請求 項 1に記載の抗菌性基材。
  4. 4
    [4] 前記基材の表面における 1 X I μ mの広さの任意の領域中に、少なくとも 1つの前 記抗菌金属アイランドが存在する、請求項 1に記載の抗菌性基材。
  5. 5
    [5] 前記基材が透光性を有し、 前記抗菌性基材の可視光透過率と、前記抗菌性基材から前記抗菌金属アイランド を除去した前記基材の可視光透過率との差異 Δ Τが 15%以下である、請求項 1に記 載の抗菌性基材。
  6. 6
    [6] 前記基材が透光性を有し、 可視光透過率が 30%以上である、請求項 1に記載の抗菌性基材。
  7. 7
    [7] 前記抗菌金属アイランドの最大高さが 50nm以下である、請求項 1に記載の抗菌性 基材。
  8. 8
    [8] 前記抗菌金属アイランドは、銀、銅および亜鉛からなる群より選ばれる!/、ずれか 1種 を主成分金属として含む、請求項 1に記載の抗菌性基材。
  9. 9
    [9] 前記抗菌金属アイランドが、主成分金属と添加金属とを含む、請求項 1に記載の抗 菌性基材。
  10. 10
    [10] 前記主成分金属が銀であり、前記添加金属がパラジウムである、請求項 9に記載の 抗菌性基材。 [I I] 前記基材が、酸化チタンを含む光触媒層を有し、前記光触媒層によって前記基材 の表面が形成されて!/、る、請求項 1に記載の抗菌性基材。 [12] 前記基材が、前記光触媒層の下地層として、単斜晶型の結晶構造を含む多結晶 酸化ジルコニウムを含む膜をさらに有し、 前記光触媒層が、アナターゼ型の結晶構造を含む多結晶酸化チタンを含む、請求 項 11に記載の抗菌性基材。
  11. 11
    [13] 前記基材が、基材本体と、前記基材本体に接するように形成された下地層とを有す る、請求項 1に記載の抗菌性基材。
  12. 12
    [14] 前記下地層が、酸化珪素、窒化珪素、酸化錫および亜鉛と錫との複合酸化物から なる群より選ばれる少なくとも 1つを含む、請求項 13に記載の抗菌性基材。
  13. 13
    [15] 前記基材が、ガラス板、プラスチック板および樹脂フィルムからなる群より選ばれる 1 種または 2種以上の素材によって構成されている、請求項 1に記載の抗菌性基材。
  14. 14
    [16] 前記基材が、強化または半強化された型板ガラスによって構成されている、請求項 1に記載の抗菌性基材。
  15. 15
    [17] 前記基材が鏡によって構成されている、請求項 1に記載の抗菌性基材。
  16. 16
    [18] 前記抗菌金属アイランドが、スパッタリング法により形成されている、請求項 1に記載 の抗菌性基材。
  17. 17
    [19] 不活性ガスを主成分としたガス雰囲気下で行われ、ターゲットを構成する抗菌金属 の目安膜厚を 0. Inm以上 3nm以下とするスパッタリング法により、基材の表面に前 記抗菌金属をアイランド状に堆積させる工程を含む、抗菌性基材の製造方法。
Independent claims17