TWI386397B

Tempered glass substrate and method for fabricating the same

Abstract

A tempered glass having a compressive stress layer on a surface thereof is provided. The composition of the tempered glass includes 40 wt% to 71 wt% of SiO2 , 3 wt% to 21 wt% of Al2 O3 , 0 wt% to 3.5 wt% of Li2 O, 7 wt% to 20 wt% of Na2 O, and 0 wt% to 15 wt% of K2 O.

TWI386397B, drawing sheet 1
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  1. 1
    一種強化玻璃基板,其在表面具有壓縮應力層,其特徵在於:該強化玻璃基板之組成含有質量百分比是40%~71%的SiO 2 、3%~21%的Al 2 O 3 、0%~3.5%的Li 2 O、8.2%~20%的Na 2 O、0%~15%的K 2 O、0%~4.5%的TiO 2 的同時,且該強化玻璃基板是在強化處理後切斷而成。
  2. 2
    如申請專利範圍第1項所述之強化玻璃基板,其在表面具有壓縮應力層,且該強化玻璃基板之組成含有質量百分比是40%~70%的SiO 2 、12%~21%的Al 2 O 3 、0%~3.5%的Li 2 O、10%~20%的Na 2 O、0%~15%的K 2 O、0%~4.5%的TiO 2 的同時,強化玻璃基板為強化處理後被切斷而成。
  3. 3
    如申請專利範圍第1項或第2項所述之強化玻璃基板,其是經化學強化而成。
  4. 4
    如申請專利範圍第1項或第2項所述之強化玻璃基板,其中其內部拉伸應力較佳為小於等於150MPa。
  5. 5
    如申請專利範圍第1項或第2項所述之強化玻璃基板,其中表面的壓縮應力大於等於300 MPa、且壓縮應力層的厚度大於等於10 μm。
  6. 6
    如申請專利範圍第1項或第2項所述之強化玻璃基板,其是由液相溫度小於等於1200℃的玻璃而成形。
  7. 7
    如申請專利範圍第1項或第2項所述之強化玻璃基板,其是由液相黏度大於等於10 4.0 dPa.s的玻璃而成形。
  8. 8
    如申請專利範圍第1項或第2項所述之強化玻璃基 板,其用作顯示器的防護玻璃。
  9. 9
    如申請專利範圍第1項或第2項所述之強化玻璃基板,其用作太陽電池的防護玻璃。
  10. 10
    如申請專利範圍第1項或第2項所述之強化玻璃基板,其具有未研磨的表面。
  11. 11
    如申請專利範圍第1項或第2項所述之強化玻璃基板,其板厚為小於等於3.0 mm。
  12. 12
    如申請專利範圍第1項或第2項所述之強化玻璃基板,其具有未研磨的表面,該未研磨的表面的平均表面粗度(Ra)小於等於10 。
  13. 13
    如申請專利範圍第1項或第2項所述之強化玻璃基板,其密度為小於等於2.8 g/cm 3 。
  14. 14
    如申請專利範圍第1項或第2項所述之強化玻璃基板,其在30℃~380℃的溫度範圍的玻璃的熱膨脹係數為70×10 -7 /℃~110×10 -7 /℃。
  15. 15
    如申請專利範圍第1項或第2項所述之強化玻璃基板,其應變點為大於等於500℃。
  16. 16
    如申請專利範圍第1項或第2項所述之強化玻璃基板,其壓縮應力層的厚度為16μm~100μm。
  17. 17
    如申請專利範圍第1項或第2項所述之強化玻璃基板,其與10 2.5 dPa.s相當的溫度小於等於1650℃。
  18. 18
    如申請專利範圍第1項或第2項所述之強化玻璃基板,其楊氏模數為大於等於70 GPa。
  19. 19
    如申請專利範圍第1項或第2項所述之強化玻璃基 板,其切斷面經去角加工。
  20. 20
    如申請專利範圍第1項或第2項所述之強化玻璃基板,其切斷面經蝕刻處理。
  21. 21
    如申請專利範圍第1項或第2項所述之強化玻璃基板,其是藉由溢流下拉法所製成的。
  22. 22
    如申請專利範圍第1項或第2項所述之強化玻璃基板,其是藉由浮式法所製成的。
  23. 23
    如申請專利範圍第1項或第2項所述之強化玻璃基板,其更含有MgO、CaO、SrO以及BaO,且MgO+CaO+SrO+BaO的含有量為0~9.9質量%。
  24. 24
    如申請專利範圍第1項或第2項所述之強化玻璃基板,其更含有Cl,且Cl的含有量為0.001~3質量%。
  25. 25
    如申請專利範圍第1項或第2項所述之強化玻璃基板,其更含有SrO以及BaO,且SrO的含有量為0~3質量%,BaO的含有量為0~3質量%。
  26. 26
    如申請專利範圍第1項或第2項所述之強化玻璃基板,其更含有SnO 2 ,且SnO 2 的含有量為0.01~3質量%。
  27. 27
    如申請專利範圍第1項或第2項所述之強化玻璃基板,其更含有ZrO 2 ,且ZrO 2 的含有量為0.001~10質量%。
  28. 28
    如申請專利範圍第1項或第2項所述之強化玻璃基板,其更含有TiO 2 ,且TiO 2 的含有量為0~0.5質量%。
  29. 29
    一種強化玻璃基板的製造方法,該強化玻璃基板的製造方法包括:使調合成含有質量百分比是40%~71%的SiO 2 、3%~ 21%的Al 2 O 3 、0%~3.5%的Li 2 O、8.2%~20%的Na 2 O、0%~15%的K 2 O、0%~4.5%的TiO 2 的玻璃組成的玻璃原料熔融;以及成形為板狀後,進行離子交換處理而在玻璃表面形成壓縮應力層的同時,在強化處理後切斷成規定的尺寸。
  30. 30
    一種強化玻璃基板的製造方法,該強化玻璃基板的製造方法包括:使調合成含有質量百分比是40%~70%的SiO 2 、12%~21%的Al 2 O 3 、0%~3.5%的Li 2 O、10%~20%的Na 2 O、0%~15%的K 2 O、0%~4.5%的TiO 2 的玻璃組成的玻璃原料熔融;以及成形為板狀後,進行離子交換處理而在玻璃表面形成壓縮應力層的同時,在強化處理後切斷成規定的尺寸。
Independent claims30