TW506830B

Absorbent article with central pledget and deformation control as well as the method for producing the same

Abstract

An absorbent article is disposed having excellent body fit,center-fill fluid handling performance, and good leakage controlin that flow from the center of the article to the longitudinalsides thereof is hindered by a wicking barrier. The articlecomprises a lower absorbent member, an horizontal wickingbarrier over the lower absorbent member, and a centralabsorbent section forming a medial hump over the horizontalwicking barrier. An optional central rising member can furtherenhance the topography of the article when compressed byurging a central portion to deflect vertically upward. In oneembodiment, longitudinal upward projections on the horizontalwicking barrier also help control the deformation of the articlefor good body fit.

Term

No projected expiry on record.

  1. Priority
  2. Filed
  3. Granted
  4. Today

61 claims: 35 independent, 26 dependent

  1. 1
    一種用於穿著者身體的吸收性物件,其包含一縱向中央線、一橫向中央線、兩個縱向側邊、一目標區以及一身體一側側邊,其中的吸收性物件包含:a)一流體不可穿透底層;b)一連結於底層的流體可穿透表層;c)一置於底層之上的下部吸收構件,其中的下部吸收構件包含一對位於目標區的相隔縱向皺摺線,其與物件的縱向中央線位於不同的側邊,而且這一對皺摺線彼此保持一定的距離;d)一水平吸收阻擋物,其位於下部吸收構件上方;e)一中央吸收構件,其側邊寬度小於目標區皺摺線間距離,而中央吸收構件則置於水平吸收阻擋物上方;以及f)一上部吸收構件,其在目標區的縱向側邊和寬度大於中央吸收構件的寬度,但是小於水平吸收阻擋物的寬度,而上部吸收構件的位置在中央吸收構件上方和表層的下方。
  2. 2
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中上部吸收構件在目標區的寬度不超過下部吸收構件中皺摺線之間的距離。
  3. 3
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中上部吸收構件的皺摺線與下部吸收構件的皺摺線有部分重疊。
  4. 4
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中中央吸收構件的厚度約為2公釐或更大,目標區的寬度介於20公釐到40公釐之間,而長度則介於25公釐到70公釐之間。
  5. 5
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中皺摺線為壓印所形成。
  6. 6
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中皺摺線為標記所在。
  7. 7
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中皺摺線可以是切口、細縫、穿洞以及V型刻痕。
  8. 8
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中皺摺線延著縱向延伸約30公釐或更長的距離。
  9. 9
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中上部吸收構件的縱向長度大於中央吸收構件的長度。
  10. 10
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其另外包含一中央突起構件。
  11. 11
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中中央吸收構件包含一中央突起構件。
  12. 12
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中中央突起構件包含一吸收性織物。
  13. 13
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中中央突起構件在側邊擠壓之前的厚度約為5公釐或更小。
  14. 14
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中目標區的水平吸收阻擋物大致沿著吸收性物件的周邊延伸。
  15. 15
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中水平吸收阻擋物覆蓋住所有未被上部吸收構件所覆蓋的下部吸收構件部分。
  16. 16
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中水平吸收阻擋物包含上部吸收構件所覆蓋區域的縫隙。
  17. 17
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中吸收阻擋物的材質是流體不可穿透的。
  18. 18
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中吸收阻擋物的材質是流體可穿透的。
  19. 19
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中吸收阻擋物為一聚合膠膜。
  20. 20
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中吸收阻擋物可以是一紡粘織物以及熔吹織物。
  21. 21
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中吸收阻擋物包含一具有疏水劑的纖維素織物。
  22. 22
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中中央吸收構件包含一折疊織物,其厚度至少為三層織物的厚度。
  23. 23
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中中央吸收構件包含一折疊的彈性材料區,其切面大致呈”e”字型。
  24. 24
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中中央吸收構件包含一彈性材料區,其大致呈扁平管狀。
  25. 25
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中中央吸收構件的吸收能力約為3毫升的流體或是更多。
  26. 26
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中中央吸收構件的吸收能力約為10毫升的流體或是更多。
  27. 27
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中中央吸收構件包含一纖維織物,其可以是氣流鋪置纖維素織物以及絨毛紙漿墊。
  28. 28
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中下部吸收構件的厚度小於中央吸收構件的厚度。
  29. 29
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中中央吸收構件的厚度在潤濕之後會增加。
  30. 30
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中水平吸收阻擋物與底層為一體成形的。
  31. 31
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中底層包覆下部吸收構件的側邊,至少形成一部份的水平吸收阻擋物。
  32. 32
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中水平吸收阻擋物包含數個織物或是膠膜。
  33. 33
    一種吸收性物件,其包含一目標區、一縱向方向、一橫向方向、一垂直於縱向方向和橫向方向的垂直方向,以及一身體一側側邊,其中的吸收性物件包含:a)一流體不可穿透表層;b)一下部吸收構件,其位於底層之上;c)一水平吸收阻擋物,其置於下部吸收構件之上,而且其中吸收阻擋物的寬位於目標區;d)一中央吸收構件,其位於吸收阻擋物之上,而且最大的寬位於目標區;e)一上部吸收構件,其位於中央吸收構件上,而且位於目標區的寬度不小於中央吸收構件在目標區的最大寬度,其中上部吸收構件的設計使其在吸收性物件側邊朝內擠壓時朝上彎曲;f)一連結於底層的表層。
  34. 34
    如申請專利範圍第32項所述的吸收性物件,其中下部吸收構件包含一對沿著縱向方向延伸的相隔皺摺線。
  35. 35
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中水平吸收阻擋物包含一對彼此相隔的縱向朝上突出物,其間的距離等於或是大於上部吸收構件位於目標區的寬度,而且縱向朝上突出物可調整,使其在物件側邊朝目標區擠壓時,咬合上部吸收構件的縱向側邊。
  36. 36
    如申請專利範圍第34項所述的吸收性物件,其中下部吸收構件沿著橫向中央線分隔成兩個相隔的區域。
  37. 37
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中下部吸收構件在目標區是連續成形的。
  38. 38
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中中央吸收構件包含以熱熔塑膠材料強化的纖維素纖維。
  39. 39
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中中央吸收構件包含的纖維素纖維濕:乾張力強度比率至少為0.1。
  40. 40
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中中央吸收構件的潤濕體積約為6cc/g或更大。
  41. 41
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中中央吸收構件的潤濕體積約為10cc/g或更大。
  42. 42
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中上部吸收構件另外包含一泡沫、泡沫-纖維合成物以及一泡沫-結構纖維吸收性材料。
  43. 43
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其另外包含自由流動吸收材料。
  44. 44
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其另外包含至少一空介面、微介面、微多孔或是吸收介面。
  45. 45
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中中央吸收構件另外包含纖維顆粒。
  46. 46
    如申請專利範圍第1項所述的吸收性物件,其中下部吸收構件具有中央空間。
  47. 47
    一種具有目標區的吸收性物件,其包含:a)一流體不可穿透底層;b)一下部吸收構件,其位於底層之上;c)一水平吸收阻擋物,其位於下部吸收構件之上,而且其中吸收阻擋物的寬位於目標區;d)一事先塑型上部吸收構件,其位於水平吸收阻擋物之上,而且形成一中央突起以及水平吸收阻擋物和中央突起之間的空間,其中事先塑型的上部吸收構件位於目標區的寬度不大於水平吸收阻擋物在目標區的寬度;以及e)一表層,其位於事先塑型上不吸收構件之上,並且連結於底層。
  48. 48
    如申請專利範圍第47項所述的吸收性物件,其另外包含一位於空間內的中央吸收構件。
  49. 49
    如申請專利範圍第47項所述的吸收性物件,其中事先塑型上部吸收構件包含一包含熱熔塑膠連結纖維的氣流鋪置纖維素織物,同時透過氣流鋪置織物的熱熔塑型形成中央突起。
  50. 50
    如申請專利範圍第47項所述的吸收性物件,其另外包含一位於上部吸收構件和水平吸收阻擋物之間的中央吸收構件。
  51. 51
    如申請專利範圍第49項所述的吸收性物件,其中中央吸收構件包含纖維顆粒。
  52. 52
    如申請專利範圍第47項所述的吸收性物件,其中事先塑型上部吸收構件包含一泡沫。
  53. 53
    如申請專利範圍第1或47項所述的吸收性物件,其中上部吸收構件和下部吸收構件的設計使其在吸收性物件中央區側邊朝內擠壓時會朝上彎曲。
  54. 54
    一種製造吸收性物件的方法,其中的吸收性物件包含一縱向中央線以及一垂直於縱向中央線的橫向中央線,此方法包括:a)形成一底層;b)將一平面下部吸收構件置於底層之上,其中的下部吸收構件包含沿著物件橫向中央線的寬度以及縱向皺摺線;c)將一水平吸收阻擋物置於下部吸收構件之上;d)將一中央吸收構件置於水平吸收阻擋物之上,其中的中央吸收構件大致位於物件縱向中央線中央,而且其寬度小於下部吸收構件沿著物件橫向中央線的寬度;e)將一上部吸收構件置於中央吸收構件之上,其中的上部吸收構件沿著物件橫向中央線的寬度大於中央吸收構件的寬度;f)將一表層置於上部吸收構件和下部吸收構件之上;以及g)將表層固定於底層。
  55. 55
    如申請專利範圍第54項的方法,其中水平吸收阻擋物可覆蓋住下部吸收構件。
  56. 56
    如申請專利範圍第54項的方法,其另外包括在水平吸收阻擋物上形成細縫。
  57. 57
    一種製造具有目標區吸收性物件的方法,其包括:a)形成一流體不可穿透底層;b)將一下部吸收構件至於底層之上;c)將一水平吸收阻擋物至於下部吸收構件之上,其中吸收阻擋物的寬位於間標區內;d)將一上部吸收構件事先塑型,形成具有中央突起的事先塑型上部吸收構件,使得事先塑型上部吸收構件至於平坦表面,而中央突起遠離平坦表面時,在中央突起之內形成一空間;e)將事先塑型上部吸收構件置於水平吸收阻擋物之上,使得中央突起遠離水平吸收阻擋物;f)將表層置於事先塑型上部吸收構件之上;以及g)將表層與底層連結。
  58. 58
    如申請專利範圍第57項所述的方法,其另外包含將中央吸收構件置於水平吸收阻擋物和事先塑型上部吸收構件之間。
  59. 59
    如申請專利範圍第57項所述的方法,其中事先塑型上部吸收構件的事先塑型步驟可以是壓印、熱壓印以及蓋印等過程。
  60. 60
    如申請專利範圍第57項所述的方法,其中事先塑型上部吸收構件的事先塑型步驟可以是將氣流鋪置之物置於一塑型表面上進行。
  61. 61
    如申請專利範圍第57項所述的方法,其中事先塑型上部吸收構件的事先塑型步驟可以是將一泡沫、泡沫-纖維合成物以及一泡沫-結構纖維吸收材料加以塑型。
Independent claims61