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TW460416B

Processes of producing a titanium oxide-forming solution and a dispersion with crystalline titanium oxide particles

Abstract

The invention provides a process of producing a titanium oxide-forming solution, wherein a hydrogen peroxide solution is added to a titanium- containing starting agueous solution toform a peroxotitanium complex, a basic substance is then added to the peroxotitanium complex to obtain a solution which isin turnlet stand or heated, thereby forming a precipitate of a peroxotitanium hydrate polymer, at least a dissolved component derived from the titanium-containing starting aqueous solution, except water, is then removed from the precipitate, and a hydroxide peroxide solution is finally allowed to act on a dissolved component-free precipitate. The invention also provides a dispersion with titanium oxide dispersed therein.

TW460416B, drawing sheet 1
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    1 _ 一種欽 係在含有 成過氧化鈦 入鹽基性物 合物之沉殿 液中之水以 作用。 2. 如申請 方法，其中 基性物質之 3. 如申請 方法，其中 成分之除去 4. 如申請 方法，其中 成分之除去 5. 如申請 方法，其中 物之聚合物 6. 如申請 方法，其中 物之聚合物 7. 如申請 方法，其中 專利範 係除去 水以外 專利範 係藉由 處理。 專利範 儀藉由 處理。 專利範 係在40 之沉澱 專利範 係在40 之沉澱 專利範 係在40 氧化物形成用溶液之製造方法，其特徵為： 鈦之原料水溶液中，添加入過氧化氫水，而形 錯合物之後’接著’藉由放置或者加熱該添加 質之所得到之溶液而形成過氧化鈦水合物之聚 物’然後’至少除去該來自含有鈦之原料水溶 外之溶解成分’接著’使得過氧化氫水，發生 圍第1項之鈦氧化物形成用溶液之製造 該來自添加於水合物形成用溶液中之趟 之溶解成分。 圍第1項之鈦氧化物形成用溶液之製造 水洗或者離子交換反應’而進行著溶解 圍第2項之鈦氧化物形成用溶液之製造 水洗或者離子交換反應，而進行著溶解 圍第1項之鈦氧化物形成用溶液之製造 C以下之溫度下，進行著過氧化鈦水合 物和過氧化氫水之間之反應。 圍第2項之鈦氧化物形成用溶液之製造 C以下，溫度了’進行f過氧化欽水合 物和過氧化氫水之間之反應。 圍第3項之鈦氧化物形成用^容液之製造 C以下之溫度下，進行著過氧化鈦水合 S910293I.ptd 第63頁 460416 六、申請專利範圍 物之聚合物之沉澱物和過氧化氫水之 8.如申請專利範圍第4項 氳 物之聚合物之沉澱物和過氧化氫水之間之反應。 σ 9_ 一種鈦氧化物形成用溶液，其特徵為：， 屬L、3戈者含有氧和氫中之至少二種之固體狀鈦化 ::中光：加：該具有對於鈦含量呈過剩之羥基之鹽基性 人：成盔二還添加入過氧化氫水’而使得該固體狀鈦化 液化狀態…’溶液中之欽離子、含欽之 :子以及氫離子以外之陽離子濃度，係為鈦濃度之i /2以 Γ ° 二’二種®鈦氧化物形成用溶液之製造方法，其特徵為： ^ ,鈦、或者含有氧和氫中之至少一種之固體狀鈦 2 # ，添加入該具有對於鈦含量呈過剩之羥基之鹽基 ’並且’在溶液之pH值（酸驗度）保持在3〜1〇之 ’二下，進行著許多次之添加入過氧化氫水之所生成之溶 液中之鈦離子、含鈦之離子以及氳離子以外之陽離子之除 去和過剩之過氧化氫水之分解作業。 土 11.如申請專利範圍第10項之鈦氧化物形成用溶液之製 造方法’其中固體狀鈦化合物，係為在鈦化合物中，添加 入鹽基性物質而生成之鈦水合物。 1 2.如申請專利範圍第丨〇項之鈦氧化物形成用溶液之製 造方法’其中係添加入羥基量對於鈦含量昱2倍以上之鹽 基性物質。 六、申請專利範圍 、」么如申甘清專利範圍第1】項之鈦氧化物形成用溶液之製 ;,:;:質其中係添加入經基量對於欽含量呈2倍以上之鹽 造1 方4、去如申其清中專圍第1〇項之鈦氧化物形成用溶液之製 ':法，其中係在溶液令’含有過氧化鈦。 ▲方、：專利範圍第11項之鈦氧化物形成用溶液之製 、方法’其中係在溶液中，含有過氧…-… 造1 方6:、:，申二專二範圍第12項之敍氧化物形成用溶液之製 方法其中係在溶液令，含有過氧化鈦。 造1 方7 :Λ請範圍第13項之鈦氧化物形成用溶液之製 '其中係在溶液中，含有過氧化鈦。 造1 方8 申Λ專//圍第14項之鈦氧化物形成用溶液之製 坆方法，其中_係在溶液令，含有過氧化鈦。 1 9 · 一種鈦氧化物塗敷劑之製造方法，其 係藉由在金屬鈦、或者含有氧和氫中之至少一種之固體 中並！加ΐ該具有對於钦含量呈過剩之經基之 鹽基]·生物冑並且，在溶液之ΡΗ值（酸鹼度）保持在3〜 10 =狀態下’進行著許多次之添加入過氧化氫水之所生成 之浴液中之鈦離子、含鈦之離子以及氫離子以外之陽離子 之除去和過剩之過氧化氫水之分解作業，以便於在使得鈦 離子'含鈦之離子以及氫離子以外之陽離子濃度，成為欽 濃度之1/2以下之後，接著，在8〇t；以上之溫度下，進行 著加熱處理’而析出銳鈦礦（anatase )粒子。 20, 一種結晶性鈦氧化物粒子分散液體之製造方法，其 89102931.ptd 第65頁 460416 六、申請專利範圍 特徵為： 而形 添加 之聚 水溶 之狀 '係f含有鈦之原料水溶液中，添加入過氧化氫水， 成過氧化鈦錯合物之後，接著，藉由放置或者加熱該 人孤基座物質之所得到之溶液而形成過氧化鈦水合物 合物之沉澱物，然後，至少除去該來自含有鈦之原料 液中之水以外之溶解成分，接著，在並無分離出水分 態下’於70 °C以上之溫度中，進行著加熱。 2 1，如申請專利範圍第2 〇項之結晶性鈦氧化物粒子分散 液體之製造方法，其中係也除去該來自添加於水合物形成 用溶液中之鹽基性物質之水以外之溶解成分。 22·如申請專利範圍第20項之結晶性鈦氧化物粒子分散 液體之製造方法’其中係藉由水洗或者離子交換反應，而 進行著溶解成分之除去處理。 2 3.如申請專利範圍第21項之結晶性鈦氧化物粒子分散 液體之製造方法’其中係藉由水洗或者離子交換反應，而 進行著溶解成分之除去處理。 第66頁