Nova Patents
PL2283170T3

Pd and pd-ni electrolyte baths

Abstract

The present invention relates to an electrolyte for the electrochemical deposition of palladium or palladium alloys on metallic or conductive substrates. The invention likewise relates to a corresponding electroplating process using this electrolyte and specific palladium salts which can be advantageously used in this process.

Term

1.6 yearsto projected expiry

Projected expiry 7 May 2028, counted from filing; an application has no term until it is granted.

  1. Priority and filed
  2. Published
  3. Today
  4. Projected expiry

16 claims: 13 independent, 3 dependent

  1. 1
    Patent claims Zastrzeżenia patentowe 1. An aqueous electrolyte for the galvanic deposition of palladium or a palladium alloy on a metallic or conductive having deposition complexed with organic oligoamines metal ions in the form of their salts with bicarbonate and / or carbonate as ions and polishes based on neutral salts from the quaternary ammonium and acid group. 1. Wodny elektrolit do galwanicznego osadzania palladu lub stopu palladu na substracie metalicznym wzgl. przewodzącym posiadającym zdolne do osadzania, skompleksowane z oligoaminami organicznymi jony metali w postaci ich soli z wodorowęglanem i/lub węglanem jako przeciw jonami i wybłyszczaczami na bazie soli obojętnej z czwartorzędowej grupy amonowej i kwasowej.
  2. 3
    Electrolyte according to one or more of the preceding claims, characterized in that it comprises further depositing metal ions selected from the group consisting of nickel, cobalt, iron, indium, gold, silver or tin and mixtures thereof in the form of their soluble salts. 3. Elektrolit według jednego lub więcej wcześniejszych zastrzeżeń znamienny tym, że zawiera dalsze osadzające się jony metalu wybrane z grupy składającej się z niklu, kobaltu, żelaza, indu, złota, srebra lub cyny i ich mieszanin w postaci ich rozpuszczalnych soli.
  3. 4
    The electrolyte according to one or more of the preceding claims, characterized in that it contains further depositing metal ions in concentrations of <50 g / l in relation to electrolytes. 4. Elektrolit według jednego lub więcej wcześniejszych zastrzeżeń, znamienny tym, że zawiera on dalsze osadzające się jony metali w stężeniach wynoszących <50 g/l w odniesieniu do elektrolitów.
  4. 5
    Electrolyte according to one or more of the preceding claims, characterized in that the organic oligoamine is a di-, tri- or tetraamine derivative with 2 to 11 C atoms. 5. Elektrolit według jednego lub więcej wcześniejszych zastrzeżeń, znamienny tym, że organiczna oligoamina jest pochodną di-, tri lub tetraaminy z 2 do 11 atomami C.
  5. 6
    Electrolyte according to one or more of the preceding claims, characterized in that the amount of organic oligoamines varies in electrolytes between 0.1 - 5 mol / l electrolyte. 6. Elektrolit według jednego lub więcej wcześniejszych zastrzeżeń, znamienny tym, że ilość organicznych oligoamin zmienia się w elektrolitach pomiędzy 0,1 - 5 mol/l elektrolitu.
  6. 7
    Electrolyte according to one or more of the preceding claims, characterized in that the electrolyte pH is between 3 and 7. 7. Elektrolit według jednego lub więcej wcześniejszych zastrzeżeń, znamienny tym, że wartość pH elektrolitów wynosi pomiędzy 3 a 7.
  7. 9
    Electrolyte according to one or more of the preceding claims, characterized in that the brighteners are contained in amounts from 1 to 10,000 mg / l of electrolyte. 9. Elektrolit według jednego lub więcej z wcześniejszych zastrzeżeń, znamienny tym, że wybłyszczacze zawarte są w ilościach od 1 do 10000 mg/l elektrolitu.
  8. 10
    Elektrolit według jednego lub więcej wcześniejszych zastrzeżeń, znamienny tym, że do elektrolitu nie są dodawane żadne dalsze osadzające się sole metali z anionami nieorganicznymi oprócz jonów siarczanowych wzgl. azotanowych, wodorowęglanowych wzgl. węglanowych lub tlenku, wodorotlenku lub ich mieszaniny. Ten. Electrolyte according to one or more of the preceding claims, characterized in that no further depositing metal salts with inorganic anions are added to the electrolyte except sulfate or nitrate, bicarbonate or carbonate or oxide, hydroxide or mixtures thereof.
  9. 11
    Galvanic deposition of palladium or palladium alloys on metallic or conductive substrate, characterized in that the electrolytes according to one or more of claims 1 to 10 are used. 11. Sposób galwanicznego osadzania palladu lub stopów palladu na metalicznym wzgl. przewodzącym substracie, znamienny tym, że stosuje się elektrolity według jednego lub więcej z zastrzeżeń 1 do 10.
  10. 13
    Method according to one or more of claims 11 and / or 12, characterized in that it is operated at a temperature of 20 ° C to 80 ° C. 13. Sposób według jednego lub więcej z zastrzeżeń 11 i/lub 12, znamienny tym, że pracuje się przy temperaturze od 20°C do 80°C.
  11. 14
    Method according to one or more of claims 11 to 13, characterized in that a current density of between 0.1 and 150 A / dm2 is set for deposition. 14. Sposób według jednego lub więcej z zastrzeżeń 11 do 13, znamienny tym, że do osadzania ustawia się gęstości prądu pomiędzy 0,1 i 150 A/dm2 .
  12. 15
    Method according to one or more of claims 11 to 14, characterized in that the deposition is carried out using insoluble anodes. 15. Sposób według jednego lub więcej z zastrzeżeń 11 do 14, znamienny tym, że przeprowadza się osadzanie przy zastosowaniu nierozpuszczalnych anod.
  13. 16
    Palladium complex compounds consisting of a divalent palladium cation, one or more bi-, tri- or tetra-coordinated amino ligands and one carbonate anion or two bicarbonate anions, or a mixture thereof. 16. Związki kompleksowe palladu składające się z dwuwartościowego kationu palladu, jednego lub więcej dwu-, trzy- lub czterokoordynacyjnych ligandów aminowych i jednego anionu węglanowego lub dwóch anionów wodorowęglanowych lub ich mieszaniny. Mirosława Ważyńska Patent Attorney Mirosława Ważyńska Rzecznik patentowy