PL2265357T3

Systems and methods for removing gaseous pollutants from a gas stream

Abstract

Horizontal gas-liquid scrubbing systems and associated gas scrubbing methodologies are provided. In one embodiment, a horizontal duct scrubbing system includes a horizontally disposed housing having a waste gas inlet and a treated gas outlet, a liquid inlet manifold disposed within the horizontally disposed housing, the liquid inlet manifold comprising a plurality of nozzles oriented to spray a scrubbing liquor co-current to the flow of a gas stream flowing through the horizontally disposed housing, and a demister located proximal the treated gas outlet, where the horizontally disposed housing is substantially free of flow deflection members between the liquid inlet manifold and the demister. The gas stream may include sulfur dioxide, and the system may be capable of removing at least 71 vol. % sulfur dioxide from the gas stream.

Term

No projected expiry on record.

  1. Priority
  2. Filed
  3. Published
  4. Today

1 claim: 1 independent, 0 dependent

  1. 1
    Claims Zastrzeżenia patentowe 1. Horizontal channel purification system for removal of gaseous pollutants from the gas, where the horizontal duct cleaning system includes:1. Poziomy kanałowy system oczyszczający do usuwania zanieczyszczeń gazowych z gazu, gdzie poziomy kanałowy system oczyszczający obejmuje: - a horizontally arranged housing having a waste gas inlet for receiving the gas stream and a gas outlet for discharging the gas stream after treatment, wherein the gas stream entering the waste gas inlet comprises at least some gaseous impurities;- umieszczoną poziomo obudowę mającą wlot gazu odpadowego do przyjmowania strumienia gazu i wylot gazu do odprowadzania strumienia gazu po obróbce, przy czym strumień gazu wchodzący do wlotu gazu odpadowego zawiera co najmniej kilka zanieczyszczeń gazowych,;- a liquid inlet manifold housed in a horizontally arranged housing, the liquid inlet manifold comprising a plurality of nozzles arranged to spray the cleaning fluid co-currently to the gas flow;and - kolektor wlotowy cieczy umieszczony w poziomo ustawionej obudowie, przy czym kolektor wlotowy cieczy zawiera wiele dysz ułożonych tak aby rozpylały ciecz oczyszczającą współprądowo do przepływu strumienia gazu;i - a demister situated close to the gas outlet after treatment, wherein the horizontally arranged housing does not substantially change the flow direction of the elements arranged between the liquid inlet manifold and the demister, characterized in that the nozzles are spiral nozzles configured to eject the purge liquid under pressure in a range from 377 kilopascals (= 40 psig) to 550 kilopascals (= 65 psig), with flow rates ranging from 57 liters per minute (= 15 gpm) to 189 liters per minute (= 50 gpm), this system operating at the L indicator / G of less than 20. - odmgławiacz położony blisko wylotu gazu po obróbce, przy czym ustawiona poziomo obudowa w zasadzie nie zawiera zmieniających kierunek przepływu elementów umieszczonych pomiędzy kolektorem wlotowym cieczy a odmgławiaczem, znamienny tym, że dysze są dyszami spiralnymi skonfigurowanymi tak, aby wyrzucały ciecz oczyszczającą pod ciśnieniem w zakresie od 377 kilopaskali (= 40 psig) do 550 kilopaskali (= 65 psig), przy natężeniu przepływu w zakresie od 57 litrów na minutę (= 15 gpm) do 189 litrów na minutę (= 50 gpm), przy czym system ten pracuje przy wskaźniku L/G wynoszącym poniżej 20. 2. System według zastrz. 1, w którym kolektor wlotowy cieczy zawiera szereg lanc doprowadzających ciecz oczyszczającą do wielu dysz, gdzie każda z lanc zawiera co najmniej jedną z tych wielu dysz. 2. The system according to claim The method of claim 1, wherein the liquid inlet collector includes a series of lances supplying purge liquid to multiple nozzles, wherein each lance comprises at least one of the plurality of nozzles. 3. System według zastrz. 1 albo 2, w których system zawiera ponadto rozpylacz chłodzący umieszczony przed kolektorem wlotowym cieczy, przy czym rozpylacz chłodzący jest skonfigurowany do wstępnego zwilżania strumienia gazu. 3. The system according to claim The system of claim 1 or 2, wherein the system further comprises a cooling sprayer disposed in front of the liquid inlet manifold, the cooling sparger being configured to pre-wet the gas stream. 4. System według któregokolwiek z zastrz. 1 do 3, w których pierwsza część poziomo ustawionej obudowy ma jedno pole powierzchni przekroju poprzecznego, a druga część obudowy ma drugie pole powierzchni przekroju poprzecznego, które różni się od pierwszego pola powierzchni przekroju poprzecznego, przy czym drugie pole powierzchni przekroju poprzecznego jest większe od pierwszego pola powierzchni przekroju poprzecznego i gdzie drugie pole powierzchni przekroju poprzecznego tworzy strefę rozprężania, przy czym strefa rozprężania jest skonfigurowana tak, aby ułatwić zmniejszenie prędkości gazu wlotowego od jednej prędkości przepływu gazu do drugiej prędkości przepływu gazu. 4. The system according to any one of claims 1 to 6. The second part of the housing has a second cross-sectional area that differs from the first cross-sectional area, wherein the second portion of the cross-sectional area is greater than the first cross-sectional area of ​​the cross-sectional area. the cross-sectional area and where the second cross-sectional area constitutes an expansion zone, wherein the expansion zone is configured to facilitate the reduction of the inlet gas velocity from one gas flow rate to a second gas flow rate. 5. Sposób usuwania zanieczyszczeń gazowych z gazów, który to sposób obejmuje: 5. The method of removing gaseous pollutants from gases, which method includes: - introducing a gas stream containing gaseous pollutants into a horizontally arranged housing via a waste gas inlet, the horizontal housing comprising a waste gas inlet at one end, a gas outlet after treatment at the other end, a liquid inlet collector located close to the waste gas inlet, and a demister mounted close to the gas outlet after machining, the horizontal housing essentially free of elements that change the flow direction between the liquid inlet manifold and the demister, thus constituting an essentially unrestricted gas-liquid contact zone between the liquid inlet manifold and the defogger, the impurities being gaseous compounds contain at least one of SO2, SO3, NOx, halogenated compounds and volatile organic compounds;- wprowadzanie strumienia gazu zawierającego zanieczyszczenia gazowe do ustawionej poziomo obudowy, poprzez wlot gazu odpadowego, przy czym ustawiona poziomo obudowa zawiera wlot gazu odpadowego na jednym końcu, wylot gazu po obróbce na drugim końcu, kolektor wlotowy cieczy umieszczony blisko wlotu gazu odpadowego, oraz odmgławiacz umieszczony blisko wylotu gazu po obróbce, przy czym ustawiona poziomo obudowa zasadniczo nie zawiera elementów które zmieniają kierunek przepływu, umieszczonych pomiędzy kolektorem wlotowym cieczy a odmgławiaczem, stanowiąc w ten sposób w zasadzie nieograniczoną strefę kontaktu gaz-ciecz pomiędzy kolektorem wlotowym cieczy a odmgławiaczem, przy czym zanieczyszczenia gazowe zawierają co najmniej jeden spośród SO2, SO3, NOx, związków fluorowcowanych i lotnych związków organicznych;- passing the gas stream through a substantially unrestricted gas-liquid contact zone;- przepuszczanie strumienia gazu przez zasadniczo nieograniczoną strefę kontaktu gaz-ciecz;- rozpylanie, towarzyszące etapowi przepuszczania, cieczy oczyszczającej w zasadzie w nieograniczonej strefie kontaktu gaz-ciecz współprądowo do kierunku przepływu strumienia gazu, pod ciśnieniem w zakresie od 377 kilopaskali (40 psig) do 550 kilopaskali (65 psig), przy natężeniu przepływu w zakresie od 57 litrów na minutę (15 gpm) do 189 litrów na minutę (50 gpm), za pomocą wielu dysz, przy czym wymienionymi dyszami są dysze spiralne, dzięki którym dochodzi do kontaktu strumienia gazu z cieczą oczyszczającą;- spraying, accompanying the pass-through, purge liquid in substantially unrestricted gas-liquid contact zone co-currently to the gas flow direction, at a pressure ranging from 377 kilopascals (40 psig) to 550 kilopascals (65 psig) at a flow rate ranging from 57 liters per minute (15 gpm) to 189 liters per minute (50 gpm), by means of a plurality of nozzles, said nozzles being spiral nozzles which allow the gas stream to contact with the scrubbing liquid;- removing at least some of the gaseous contaminants from the gas stream during contact;and - usuwanie podczas kontaktu co najmniej niektórych z gazowych zanieczyszczeń ze strumienia gazu;i - działanie poziomego kanałowego systemu oczyszczania podczas etapów wprowadzania, przepuszczania, rozpylania i usuwania, przy wskaźniku L/G wynoszącym mniej niż 20. - operation of the horizontal channel purification system during the steps of insertion, passing, spraying and disposal, with an L / G index of less than 20. 6. Sposób według zastrz. 5, w którym wskaźnik L/G jest nie większy niż 18. 6. The method according to claim 5, in which the L / G ratio is not greater than 18. 7. Sposób według zastrz. 5 albo 6, w których strumień gazu w etapie przepuszczania ma prędkość wynoszącą od 3,7 do 13,7 m/s (= 12 do 45 stóp na sekundę). 7. The method according to claim The process of claim 5 or 6, wherein the gas stream in the transmission step has a speed of 3.7 to 13.7 m / sec (= 12 to 45 feet per second). 8. A method according to any one of claims 1 to 8;5 to 7, wherein the method further comprises: 8. Sposób według któregokolwiek z zastrz. 5 do 7, w których sposób obejmuje ponadto: preliminary wetting of the gas stream before the liquid inlet collector using a cooling atomizer. wstępne zwilżanie strumienia gazu przed kolektorem wlotowym cieczy za pomocą rozpylacza chłodzącego. 27487 / EP / 17 27487/PE/17 EP 2 265 357 B1 ▲ EP 2 265 357 B1 ▲ η η Tt tt CM CM Fig. 3 Fig. 3 100 100 Fig. 4 Fig. 4 LO LO Ó) MM ·· Ó) MM·· LL LL 100 100 Fig. 6 (%) WITHOS 9'UBMnsn Fig. 6 (%) ZOS 9'UBMnsn Fig. 8a Fig. 8a 3 x 3 layout - Corners of equal areas Układ 3 x 3 - Rogi równych obszarów Fig. 8b Fig. 8b Arrangement 1x3- Corners of equal areas Układ 1x3- Rogi równych obszarów Fig. 8c Fig. 8c 100 100 Fig. 9b x . · - & Fig. 9b x. · - & BSS i Bssi 8SBSI 8SBSI Btt btt M # 1 M#1 IBM »§ IBM »§ WwSk * »ifcse be # 1¾¾ sWWi ¥ WW®fe afeM8t WwSk*» ifcse be #1¾¾ sWWi ¥WW®fe afeM8t SM * I | s | s8 | fS SM *I|s|s8| fS Slire »a« 3fe sis® i> Be Mg wfesAj Ble SlBSS .Wga;Slire »a« 3fe sis® i> Be Mg wfesAj Ble SlBSS .Wga;testeStei testeStei IO IO MS © A m MS ©A m W W gwsj»w WW gwsj »in 4NHS 4NHS Now? NÓW? JI ftiwS «S fiSigi teirf J|jj ftiwS «S fiSigi teirf OHM OM Mfli Mfli Mhl n Mhl n and i I ^ wsw4 * & W <W & Λ :, flMBM sfsSiSfisś feświ bte irtOl I^wsw4 *&W<W &Λ:, flMBM sfsSiSfisś feświ bte irtOl MojMi £ agW? ® «Ην? ^ SWith & i1 ®Λ ^ f4g fewfef MojMi £agW?® «Ην?^ sWłs&i1 ®Λ ^f4g fewfef D K · ?:;5xHN:y.?S'ń'yif steg .>v3?iłW£i DK ·?:;5xHN:y.?S'ń'yif steg.> v3? iłW £ i And «< I«< MI es® i® te pf β »tW sSSS śSa'Si» si MI es® i® te ww p» tOg β» tW sSSS ś®a‘Si»si WW WW WIB1 sAA # WIB1 sAA# SW ^ tewb SW^tewb SWW fifiU (%) WITHOS siUBMnsn SWW fifiU (%) ZOS siUBMnsn Fig. 10 century Fig. 10 w lit It lit It Itwil SB ggb i ja && // WMiiS / aMĄil | Βί @ | γ '' ·;Itwil SB ggb i ja && //WMiiS/aMĄil |Βί@|γ ' '·;i.- ' * 7‘" ' |te W"» 'tesgififeWs . iiw^wwsfti < i.- '* 7' '' | te W "» 'tesgififeWs. i and ^ wwsfti < 1 & »WwWw and feia 1 1 &»WwWw i feia 1 77ϋ «Υβ b © WiiWSSi: 77ϋ«Υβ b ©WiiWSSi: Jgjjjg jbsl! Jgjjjg jbsl! ., _. "····" '7 i »ge flfSlBStW .,_. ”····"'7 i»ge flfSlBStW 71777777 ^ 7 ^ · •!? IS * '. Ι-Λ i'i J Vi i. · - · and ·;- ·.,. · And i. · '. 71777777^7^· •!?iS*’. Ι-Λ i'i J Vi i .·-· i·;-·.,. · i i.·'. SS »M | ggj» SS»M |ggj » IB IB Mj jlH pSfesi Mj jlH pSfesi Mim SMSWwSw ΙΙβρΒβΙΒ pWBSiW & SS & R3S η » Mim SMSWwSw ΙΙβρΒβΙΒ pWBSiW &SS&R3S η» 7-YŁ.;,7;;' K «Μ «p tesfts ®i#s 7-yl., 7;;'K' Μ «p tesfts ® and # s S® «8 £ M» e ti · * »® W7777.?7 S®«8 ile £M»e ti·*» ®W7777.?7 SWąg^ Swag ^ Kt & and & and /! & Γ5 » Kt&i&i/! & Γ5» WSISiBiil & φ lltlgMMS WSISiBiil &φ lltlgMMS 7> Χ7;Μ<7 s # ® »« WW $ 7>Χ7;Μ:<7 s#®»«WW$ YW Yi «• fes» fe $? SKS $ J ^ 88 $ & iW * «ί ?? YW Yi «•fes» fe$?SKS$J^88$&iW* «ί ?? Sfe :»' ·"% 'ί/ρ ~ Hi i· :'£: Sfe: »'·'% 'ί / ρ ~ Hi i ·:' £: 7 · ';7μ ·;. ·· </ ^ 7·';7μ·;.··</^ Y-rMMMY-Yi ramg $ ΜΜ β Y-rMMMY-Yi ramg $ΜΜ β 7777 raS »s®W® lislftsrtsi (%) WITHOS siUBMnsn 7777 raS»s®W® lislftsrtsi (%) ZOS siUBMnsn 100 100 Fig. 12 Fig. 12 Fig. 13 Fig. 13 ΙΜκ ΙΜκ Bille «wa ;isSiiSKi®| Bille, IsSiiSKi® | SSSsKftd ? >Λύ' ί'^Ν?·ϋίΓ..·.£?Λ« ;SSSsKftd? > Λύ' ί '^ Ν? · ϋίΓ .. ·. £? Λ «;$£&£$ & $ £ $ £ ΙΙΙΒΙΟΙΙ ίΓ-ίίί'Λ · (%) with0S BiUBMnsn 3S0UZ3S | n> is ΙΙΙΒΙΟΙΙ ίΓ-ίίί’Λ· (%) z0S BiUBMnsn 3S0UZ3S|n>is Fig. 14 Fig. 14