PL2197935T3

Stabilization of polyurethane foam polyol premixes containing halogenated olefin blowing agents

Abstract

This record has no abstract on file.

Term

2 yearsto projected expiry

Projected expiry 6 October 2028, counted from filing; an application has no term until it is granted.

  1. Priority
  2. Filed
  3. Published
  4. Today
  5. Projected expiry

18 claims: 18 independent, 0 dependent

  1. 1
    Zastrzeżenia patentowe Zastrzeżenia patentowe 1. Kompozycja przedmieszki poliolowej, która zawiera kombinację środka spieniającego, poliolu, surfaktantu silikonowego i katalizatora, który to katalizator jest adduktem aminy i kwasu organicznego, przy czym środek spieniający zawiera wodorohaloolefinę i opcjonalnie węglowodór, fluoropochodną węglowodoru, chloropochodną węglowodoru, fluorochloropochodną węglowodoru, halogenowany węglowodór, materiał wytwarzający CO2 lub ich kombinacje. 1. Kompozycja przedmieszki poliolowej, która zawiera kombinację środka spieniającego, poliolu, surfaktantu silikonowego i katalizatora, który to katalizator jest adduktem aminy i kwasu organicznego, przy czym środek spieniający zawiera wodorohaloolefinę i opcjonalnie węglowodór, fluoropochodną węglowodoru, chloropochodną węglowodoru, fluorochloropochodną węglowodoru, halogenowany węglowodór, materiał wytwarzający CO2 lub ich kombinacje.
  2. 2
    Kompozycja przedmieszki poliolowej według zastrzeżenia 1, przy czym amina ma wzór RiR2N-[A-NR.3]nR4, przy czym każdy z Ri, R2, R3 i R4 oznacza niezależnie H, grupę alkilową od Ci do Cs, grupę alkenylową od Ci do Cs, grupę alkoholową od Ci do Cs lub grupę eterową od Ci do Cs lub Ri i R2 tworzą razem cykliczną grupę alkilową od C5 do C7, cykliczną grupę alkenylową od C5 do C7, heterocykliczną grupę alkilową od C5 do C7 lub heterocykliczną grupę alkenylową od C5 do C7;A oznacza grupę alkilową od Ci do C5, grupę alkenylową od Ci do C5 lub eter;n oznacza 0, 1, 2 lub 3. 2. Kompozycja przedmieszki poliolowej według zastrzeżenia 1, przy czym amina ma wzór RiR2N-[A-NR.3]nR4, przy czym każdy z Ri, R2, R3 i R4 oznacza niezależnie H, grupę alkilową od Ci do Cs, grupę alkenylową od Ci do Cs, grupę alkoholową od Ci do Cs lub grupę eterową od Ci do Cs lub Ri i R2 tworzą razem cykliczną grupę alkilową od C5 do C7, cykliczną grupę alkenylową od C5 do C7, heterocykliczną grupę alkilową od C5 do C7 lub heterocykliczną grupę alkenylową od C5 do C7;A oznacza grupę alkilową od Ci do C5, grupę alkenylową od Ci do C5 lub eter;n oznacza 0, 1, 2 lub 3.
  3. 3
    Kompozycja przedmieszki poliolowej według zastrzeżenia 1, przy czym amina obejmuje cykloheksylodimetyloaminę;dicykloheksylometyloaminę;etylodiizopropyloaminę;dimetyloizopropyloaminę;metyloizopropylobenzyloaminę;metylocyklopentylobenzyloaminę;izopropylo-sec-butylo-trifluoroetyloaminę;dietylo-(a-fenyloetylojaminę, tri-n-propyloaminę;dicykloheksyloaminę;t-butylo-izopropyloaminę;di-tbutyloaminę;cykloheksylo-t-butyloaminę;di-sec-butyloaminę, dicyklopentyloaminę;di-(a-trifluorometyloetylo)aminę;di-(a-fenyloetylo)aminę;lub ich kombinacje. 3. Kompozycja przedmieszki poliolowej według zastrzeżenia 1, przy czym amina obejmuje cykloheksylodimetyloaminę;dicykloheksylometyloaminę;etylodiizopropyloaminę;dimetyloizopropyloaminę;metyloizopropylobenzyloaminę;metylocyklopentylobenzyloaminę;izopropylo-sec-butylo-trifluoroetyloaminę;dietylo-(a-fenyloetylojaminę, tri-n-propyloaminę;dicykloheksyloaminę;t-butylo-izopropyloaminę;di-tbutyloaminę;cykloheksylo-t-butyloaminę;di-sec-butyloaminę, dicyklopentyloaminę;di-(a-trifluorometyloetylo)aminę;di-(a-fenyloetylo)aminę;lub ich kombinacje.
  4. 4
    Kompozycja przedmieszki poliolowej według któregokolwiek z poprzednich zastrzeżeń, przy czym kwas organiczny obejmuje kwas karboksylowy, kwas dikarboksylowy, kwas fosfinowy, kwas fosfonowy, kwas sulfonowy, kwas sulfaminowy, kwas hydroksamowy lub ich kombinacje. 4. Kompozycja przedmieszki poliolowej według któregokolwiek z poprzednich zastrzeżeń, przy czym kwas organiczny obejmuje kwas karboksylowy, kwas dikarboksylowy, kwas fosfinowy, kwas fosfonowy, kwas sulfonowy, kwas sulfaminowy, kwas hydroksamowy lub ich kombinacje.
  5. 5
    Kompozycja przedmieszki poliolowej według któregokolwiek z poprzednich zastrzeżeń, przy czym wodorohaloolefina obejmuje co najmniej jeden fluoroalken lub chloroalken zawierający od 3 do 4 atomów węgla i co najmniej jedno wiązanie podwójne węgiel-węgiel. 5. Kompozycja przedmieszki poliolowej według któregokolwiek z poprzednich zastrzeżeń, przy czym wodorohaloolefina obejmuje co najmniej jeden fluoroalken lub chloroalken zawierający od 3 do 4 atomów węgla i co najmniej jedno wiązanie podwójne węgiel-węgiel.
  6. 6
    Kompozycja przedmieszki poliolowej według zastrzeżenia 5, przy czym wodorohaloolefina obejmuje 1,3,3,3-tetrafluoropropen;2,3,3,3-tetrafluoropropen;6. Kompozycja przedmieszki poliolowej według zastrzeżenia 5, przy czym wodorohaloolefina obejmuje 1,3,3,3-tetrafluoropropen;2,3,3,3-tetrafluoropropen;1.1.3.3- tetrafluoropropen;1,2,3,3,3-pentafluoropropen;1,1,1-trifluoropropen;3,3,3trifluoropropen;1,1,1,3-tetrafluoropropen;1,1,1,3,3-pentafluoropropen;1,1,2,3,3pentafluoropropen, 1,1,1,2-tetrafluoropropen;1,1,1,2,3 -pentafluoropropen, 1 -chloro3.3.3- trifluoropropen, l,l,l,4,4,4-heksafluorobut-2-en lub ich izomery strukturalne, izomery geometryczne lub stereoizomery lub ich kombinacje. 1.1.3.3- tetrafluoropropen;1,2,3,3,3-pentafluoropropen;1,1,1-trifluoropropen;3,3,3trifluoropropen;1,1,1,3-tetrafluoropropen;1,1,1,3,3-pentafluoropropen;1,1,2,3,3pentafluoropropen, 1,1,1,2-tetrafluoropropen;1,1,1,2,3 -pentafluoropropen, 1 -chloro3.3.3- trifluoropropen, l,l,l,4,4,4-heksafluorobut-2-en lub ich izomery strukturalne, izomery geometryczne lub stereoizomery lub ich kombinacje.
  7. 7
    Kompozycja przedmieszki poliolowej według zastrzeżenia 6, przy czym wodorohaloolefinę wybiera się spośród 1,3,3,3-tetrafluoropropenu (HFO-1234ze) i 1chloro-3,3,3 -trifluoropropenu (HFCO-123 3zd). 7. Kompozycja przedmieszki poliolowej według zastrzeżenia 6, przy czym wodorohaloolefinę wybiera się spośród 1,3,3,3-tetrafluoropropenu (HFO-1234ze) i 1chloro-3,3,3 -trifluoropropenu (HFCO-123 3zd).
  8. 8
    Kompozycja przedmieszki poliolowej według zastrzeżenia 7, przy czym wodorohaloolefiną jest trans HFO-1234ze. 8. Kompozycja przedmieszki poliolowej według zastrzeżenia 7, przy czym wodorohaloolefiną jest trans HFO-1234ze.
  9. 9
    Kompozycja przedmieszki poliolowej według któregokolwiek z poprzednich zastrzeżeń, przy czym środek spieniający obejmuje wodę, kwas mrówkowy, kwasy organiczne, które wytwarzają CO2, kiedy są poddawane reakcji z izocyjanianem, węglowodory;etery;estry;aldehydy;ketony;halogenowane etery;pentafluorobutan;pentafluoropropan;heksafluoropropan;heptafluoropropan;trans-1,2 di chloroetylen;mrówczan metylu;1-chloro-1,2,2,2-tetrafluoroetan;1,1-dichloro-l-fluoroetan;1,1,1,2tetrafluoroetan;1,1,2,2-tetrafluoroetan;1-chloro-1,1-difluoroetan;1,1,1,3,3pentafluorobutan;1,1,1,2,3,3,3-heptafluoropropan;trichlorofluorometan;dichlorodifluorometan;1,1,1,3,3,3-heksafluoropropan;1,1,1,2,3,3-heksafluoropropan;9. Kompozycja przedmieszki poliolowej według któregokolwiek z poprzednich zastrzeżeń, przy czym środek spieniający obejmuje wodę, kwas mrówkowy, kwasy organiczne, które wytwarzają CO2, kiedy są poddawane reakcji z izocyjanianem, węglowodory;etery;estry;aldehydy;ketony;halogenowane etery;pentafluorobutan;pentafluoropropan;heksafluoropropan;heptafluoropropan;trans-1,2 di chloroetylen;mrówczan metylu;1-chloro-1,2,2,2-tetrafluoroetan;1,1-dichloro-l-fluoroetan;1,1,1,2tetrafluoroetan;1,1,2,2-tetrafluoroetan;1-chloro-1,1-difluoroetan;1,1,1,3,3pentafluorobutan;1,1,1,2,3,3,3-heptafluoropropan;trichlorofluorometan;dichlorodifluorometan;1,1,1,3,3,3-heksafluoropropan;1,1,1,2,3,3-heksafluoropropan;difluorometan;difluoroetan;1,1,1,3,3-pentafluoropropan;1,1-difluoroetan;izobutan;prosty pentan;izopentan;cyklopentan lub ich kombinacje. difluorometan;difluoroetan;1,1,1,3,3-pentafluoropropan;1,1-difluoroetan;izobutan;prosty pentan;izopentan;cyklopentan lub ich kombinacje.
  10. 10
    Kompozycja przedmieszki poliolowej według któregokolwiek z poprzednich zastrzeżeń, przy czym surfaktant silikonowy obejmuje kopolimer blokowy polisiloksanu i polioksyalkilenu. 10. Kompozycja przedmieszki poliolowej według któregokolwiek z poprzednich zastrzeżeń, przy czym surfaktant silikonowy obejmuje kopolimer blokowy polisiloksanu i polioksyalkilenu.
  11. 11
    Kompozycja przedmieszki poliolowej według któregokolwiek z poprzednich zastrzeżeń, zawierająca ponadto surfaktant niesilikonowy, niejonowy. 11. Kompozycja przedmieszki poliolowej według któregokolwiek z poprzednich zastrzeżeń, zawierająca ponadto surfaktant niesilikonowy, niejonowy.
  12. 12
    Kompozycja przedmieszki poliolowej według któregokolwiek z poprzednich zastrzeżeń, zawierająca ponadto katalizator, zawierający związek organometaliczny, zawierający bizmut, ołów, cynę, tytan, antymon, uran, kadm, kobalt, tor, glin, rtęć, cynk, nikiel, cer, molibden, wanad, miedź, mangan, cyrkon, potas, sód lub ich kombinacje. 12. Kompozycja przedmieszki poliolowej według któregokolwiek z poprzednich zastrzeżeń, zawierająca ponadto katalizator, zawierający związek organometaliczny, zawierający bizmut, ołów, cynę, tytan, antymon, uran, kadm, kobalt, tor, glin, rtęć, cynk, nikiel, cer, molibden, wanad, miedź, mangan, cyrkon, potas, sód lub ich kombinacje.
  13. 13
    Kompozycja przedmieszki poliolowej według któregokolwiek z zastrzeżeń od 1 do 11, zawierająca ponadto katalizator, zawierający azotan bizmutu, 2-etyloheksanian, benzoesan ołowiu, chlorek żelaza, trichlorek antymonu, glikolan antymonu, sole cynowe kwasów karboksylowych, sole cynkowe kwasów karboksylowych, dialkilowe sole cynowe kwasów karboksylowych, sole glicyny, katalizatory trimeryzacji amin trzeciorzędowych, karboksylany czwartorzędowego amonu, sole kwasu karboksylowego i metalu alkalicznego, octan potasu, oktanian potasu, 2-etyloheksanian potasu, N-(2-hydroksy-5-nonylofenolo)metylo-N-metyloglicynian, 2-etylo-heksanian cyny(II), dilaurynian dibutylocyny lub ich kombinacje. 13. Kompozycja przedmieszki poliolowej według któregokolwiek z zastrzeżeń od 1 do 11, zawierająca ponadto katalizator, zawierający azotan bizmutu, 2-etyloheksanian, benzoesan ołowiu, chlorek żelaza, trichlorek antymonu, glikolan antymonu, sole cynowe kwasów karboksylowych, sole cynkowe kwasów karboksylowych, dialkilowe sole cynowe kwasów karboksylowych, sole glicyny, katalizatory trimeryzacji amin trzeciorzędowych, karboksylany czwartorzędowego amonu, sole kwasu karboksylowego i metalu alkalicznego, octan potasu, oktanian potasu, 2-etyloheksanian potasu, N-(2-hydroksy-5-nonylofenolo)metylo-N-metyloglicynian, 2-etylo-heksanian cyny(II), dilaurynian dibutylocyny lub ich kombinacje.
  14. 14
    Kompozycja przedmieszki poliolowej według zastrzeżenia 1, przy czym aminą jest N,N,N',N',N",N"-pentametylo-dietylenotriamina. 14. Kompozycja przedmieszki poliolowej według zastrzeżenia 1, przy czym aminą jest N,N,N',N',N",N"-pentametylo-dietylenotriamina.
  15. 15
    Sposób tworzenia kompozycji przedmieszki poliolowej, jak zdefiniowano w którymkolwiek z zastrzeżeń od 1 do 13, który obejmuje łączenie środka spieniającego, poliolu, surfaktantu silikonowego i katalizatora, który to katalizator jest adduktem aminy i kwasu organicznego, przy czym środek spieniający zawiera wodorohaloolefmę i opcjonalnie węglowodór, fluoropochodną węglowodoru, chloropochodną węglowodoru, fluorochloropochodną węglowodoru, halogenowany węglowodór, materiał wytwarzający CO2 lub ich kombinacje. 15. Sposób tworzenia kompozycji przedmieszki poliolowej, jak zdefiniowano w którymkolwiek z zastrzeżeń od 1 do 13, który obejmuje łączenie środka spieniającego, poliolu, surfaktantu silikonowego i katalizatora, który to katalizator jest adduktem aminy i kwasu organicznego, przy czym środek spieniający zawiera wodorohaloolefmę i opcjonalnie węglowodór, fluoropochodną węglowodoru, chloropochodną węglowodoru, fluorochloropochodną węglowodoru, halogenowany węglowodór, materiał wytwarzający CO2 lub ich kombinacje.
  16. 16
    Kompozycja spienialna zawierająca mieszaninę organicznego poliizocyjanianu i kompozycji przedmieszki poliolowej, jak zdefiniowano w którymkolwiek z zastrzeżeń od 1 do 13. 16. Kompozycja spienialna zawierająca mieszaninę organicznego poliizocyjanianu i kompozycji przedmieszki poliolowej, jak zdefiniowano w którymkolwiek z zastrzeżeń od 1 do 13.
  17. 17
    Sposób otrzymywania pianki poliuretanowej lub poliizocyjanuranowej, obejmujący poddawanie reakcji organicznego poliizocyjanianu z kompozycją przedmieszki poliolowej, jak zdefiniowano w którymkolwiek z zastrzeżeń od 1 do 13. 17. Sposób otrzymywania pianki poliuretanowej lub poliizocyjanuranowej, obejmujący poddawanie reakcji organicznego poliizocyjanianu z kompozycją przedmieszki poliolowej, jak zdefiniowano w którymkolwiek z zastrzeżeń od 1 do 13.
  18. 18
    Pianka otrzymana według sposobu z zastrzeżenia 17. 18. Pianka otrzymana według sposobu z zastrzeżenia 17. ecznik patentowy ecznik patentowy
Independent claims18