Nova Patents
PL216245B1

Method of making window unit including diamond-like carbon (dlc) coating

Abstract

This record has no abstract on file.

PL216245B1, drawing sheet 1
Sheet 1 of 4

Term

Term ended

Expired 5 March 2023, 3.6 years ago.

  1. Priority
  2. Filed
  3. Granted
  4. Expired
  5. Today

31 claims: 3 independent, 28 dependent

  1. 1
    Zastrzeżenia patentowe 1. Sposób wytwarzania jednostki okiennej ze szkła zespolonego - IG, który obejmuje utworzenie jednej lub więcej warstw na podłożu szklanym, a następnie połączenie podłoża szklanego z innym podłożem szklanym, znamienny tym, że wytwarza się warstwę zawierającą węgiel typu diamentu - DLC na podłożu szklanym;wytwarza się warstwę zabezpieczającą na podłożu szklanym ponad warstwą zawierającą DLC;przy czym warstwa zabezpieczająca zawiera co najmniej jeden materiał spośród a-Si, azotku krzemu, tlenku krzemu, tlenoazotku krzemu, węglika boru, węglika tytanu, węglika hafnu, węglika tytanowoPL 216 245 B1 -hafnowego, węglika tantalu, węglika cyrkonu, chromu, stopu nikiel-chrom, tlenku nikiel-chrom, azotku nikiel-chrom, tytanu, i tlenku tytanu, poddaje się obróbce cieplnej podłoże szklane z warstwa zawierającą DLC i umieszczoną na niej warstwą zabezpieczającą, zapobiegającą znacznemu wypaleniu warstwy zawierającej DLC, przy czym obróbka cieplna obejmuje ogrzewanie podłoża szklanego do temperatury co najmniej 50°C dla hartowania podłoża szklanego;a następnie po obróbce cieplnej, połączenie tego podłoża szklanego, zawierającego co najmniej warstwę zawierającą DLC umieszczoną na nim, z innym podłożem dla wytworzenia jednostki okiennej ze szkła zespolonego - IG.
  2. 2
    Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że obejmuje ponadto napylanie katodowe wielowarstwowej powłoki kontrolującej promieniowanie słoneczne, która zawiera powłokę nisko-emisyjną na powierzchni podłoża szklanego, przy czym powłokę kontrolującą promieniowanie słoneczne i warstwę zawierającą DLC wytwarza się na przeciwległych stronach podłoża szklanego, i gdzie powłoka niskoemisyjna zawiera co najmniej jedną warstwę odbijającą promieniowanie podczerwone IR.
  3. 3
    Sposób według zastrz. 2, znamienny tym, że warstwę zawierającą DLC wytwarza się na podłożu szklanym poprzez wiązkę jonową.
  4. 4
    Sposób według zastrz. 3, znamienny tym, że warstwę zabezpieczającą co najmniej częściowo wytwarza się na podłożu szklanym poprzez napylanie katodowe.
  5. 5
    Sposób według zastrz. 2, znamienny tym, że stosuje się powłokę kontrolującą promieniowanie słoneczne, która zawiera co najmniej pierwszą i drugą warstwę dielektryczną, i warstwę odbijającą promieniowanie podczerwone - IR zawierającą jeden materiał spośród Ag i NiCr, umieszczoną pomiędzy warstwami dielektrycznymi.
  6. 6
    Sposób według zastrz. 2, znamienny tym, że obejmuje ponadto usuwanie co najmniej części warstwy zabezpieczającej z podłoża szklanego po obróbce cieplnej, ale przed połączeniem podłoża szklanego z innym podłożem.
  7. 7
    Sposób według zastrz. 2, znamienny tym, że stosuje się warstwę zabezpieczającą, która zawiera bezpostaciowy krzem:a-Si.
  8. 8
    Sposób według zastrz. 2, znamienny tym, że stosuje się warstwę zabezpieczającą, która zawiera co najmniej jeden węglik.
  9. 9
    Sposób według zastrz. 2, znamienny tym, że stosuje się warstwę zabezpieczającą, która zawiera co najmniej jeden materiał spośród:BCx - węglik boru, w którym x wynosi od 0,75 do 1,5, TiCx - węglik tytanu, w którym x wynosi od 0,47 do 0,99, HfCx - węglik hafnu, w którym x wynosi od 0,47 do 0,99, węglika tytanowo-hafnowego, TaCx - węglik tantalu, w którym x wynosi od 0,47 do 0,99, i ZrCx i węglik cyrkonu, w którym x wynosi od 0,47 do 0,99.
  10. 10
    Sposób według zastrz. 2, znamienny tym, że stosuje się obróbkę cieplną, która obejmuje ogrzewanie podłoża szklanego z warstwą zawierającą DLC i umieszczoną na niej warstwą zabezpieczającą, przy użyciu co najmniej temperatury (temperatur) co najmniej 580 stopni C.
  11. 11
    Sposób według zastrz. 2, znamienny tym, że stosuje sie warstwę zawierającą DLC, 3 która zawiera bezpostaciowy DLC i ma więcej wiązań węgiel-węgiel typu sp 3 niż wiązań węgiel 2 -węgiel typu sp 2 .
  12. 12
    Sposób według zastrz. 11, znamienny tym, że stosuje się warstwę zawierającą DLC, która ma średnią twardość co najmniej 10 GPa.
  13. 13
    Sposób według zastrz. 12, znamienny tym, że stosuje sie warstwę zawierającą DLC, która ma średnią twardość co najmniej 20 GPa.
  14. 14
    Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że stosuje się warstwę zawierającą DLC, która 3 ma gęstość co najmniej 2,7 g/cm 3 , i przy czym warstwa zawierająca DLC jest uwodorniona.
  15. 15
    Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że stosuje się warstwę zawierającą DLC, która zawiera uwodorniony, wysoce tetraedryczny węgiel bezpostaciowy:ta-C:H.
  16. 16
    Sposób wytwarzania szyby przedniej pojazdu, który obejmuje wytworzenie jednej lub więcej warstw na podłożu szklanym, a następnie laminowanie tego podłoża z innym podłożem, znamienny tym, że wytwarza się warstwę zawierającą węgiel typu diamentu - DLC na podłożu szklanym;wytwarza się warstwę zabezpieczającą na podłożu szklanym ponad warstwą zawierającą DLC, przy czym warstwa zabezpieczająca zawiera co najmniej jeden materiał spośród a-Si, azotku krzemu, tlenku krzemu, tlenoazotku krzemu, węglika boru, węglika tytanu, węglika hafnu, węglika tytanowo10 PL 216 245 B1 -hafnowego, węglika tantalu, węglika cyrkonu, chromu, stopu nikiel-chrom, tlenku nikiel-chrom, azotku nikiel-chrom, tytanu, i tlenku tytanu, poddaje się obróbce cieplnej podłoże szklane z warstwą zawierającą DLC i umieszczoną na niej warstwą zabezpieczającą, do temperatury co najmniej 550°C dla wygięcia podłoża szklanego;a po obróbce cieplnej poddaje się laminowaniu podłoże szklane z umieszczoną na nim co najmniej warstwa zawierającą DLC, z innym podłożem poprzez co najmniej międzywarstwę zawierającą polimer, dla wytworzenia szyby przedniej pojazdu;i w którym warstwa zabezpieczająca jest co najmniej częściowo wytworzona na podłożu szklanym poprzez napylanie katodowe.
  17. 17
    Sposób według zastrz. 16, znamienny tym, że warstwę zawierającą DLC wytwarza się na podłożu szklanym za pomocą wiązki jonów przy użyciu gazu węglowodorowego.
  18. 18
    Sposób według zastrz. 16, znamienny tym, że obejmuje ponadto napylenie wielowarstwowej powłoki kontrolującej promieniowanie słoneczne, zawierającej co najmniej jedną warstwę ze srebra Ag na powierzchni podłoża szklanego, przy czym powłoka kontrolująca promieniowanie słoneczne i warstwa zawierająca DLC są utworzone na przeciwległych stronach podłoża szklanego.
  19. 19
    Sposób według zastrz. 18, znamienny tym, że stosuje się powłokę kontrolującą promieniowanie słoneczne, która zawiera co najmniej pierwszą i drugą warstwy dielektryczne na przeciwległych stronach warstwy Ag, ale nie stykające się z tą warstwą Ag.
  20. 20
    Sposób według zastrz. 16, znamienny tym, że obejmuje ponadto usuwanie co najmniej części warstwy zabezpieczającej z podłoża szklanego po obróbce cieplnej, lecz przed laminowaniem.
  21. 21
    Sposób według zastrz. 16, znamienny tym, że stosuje się warstwę zabezpieczającą, która zawiera co najmniej jeden węglik.
  22. 22
    Sposób według zastrz. 16, znamienny tym, że stosuje sie warstwę zabezpieczającą, która zawiera co najmniej jeden materiał spośród:BCx - węglik boru, w którym x wynosi od 0,75 do 1,5, TiCx - węglik tytanu, w którym x wynosi od 0,47 do 0,99, HfCx - węglik hafnu, w którym x wynosi od 0,47 do 0,99, węglika tytanowo-hafnowego, TaCx - węglik tantalu, w którym x wynosi od 0,47 do 0,99, i ZrCx węglik cyrkonu, w którym x wynosi od 0,47 do 0,99.
  23. 23
    Sposób według zastrz. 16, znamienny tym, że obróbka cieplna obejmuje ogrzewanie podłoża szklanego z warstwą zawierającą DLC i umieszczoną na niej warstwą zabezpieczającą, przy użyciu co najmniej temperatury (temperatur) co najmniej 580 stopni C.
  24. 24
    Sposób według zastrz. 16, znamienny tym, że warstwa zawierająca DLC zawiera bezpo32 staciowy DLC i ma więcej wiązań węgiel-węgiel typu sp 3 niż wiązań węgiel-węgiel typu sp 2 .
  25. 25
    Sposób według zastrz. 24, znamienny tym, że warstwa zawierająca DLC ma średnią twardość co najmniej 10 GPa.
  26. 26
    Sposób według zastrz. 25, znamienny tym, że warstwa zawierająca DLC ma średnią twardość co najmniej 20 GPa.
  27. 27
    Sposób według zastrz. 16, znamienny tym, że warstwa zawierająca DLC ma gęstość co 3 najmniej 2,7 g/cm 3 , i przy czym warstwa zawierająca DLC jest uwodorniona.
  28. 28
    Sposób według zastrz. 16, znamienny tym, że warstwa zawierająca DLC zawiera uwodorniony, wysoce tetraedryczny węgiel bezpostaciowy -ta-C:H.
  29. 29
    Sposób według zastrz. 16, znamienny tym, że warstwę zawierającą DLC wytwarza się za pomocą wiązki jonowej, a jej atomy węgla są sub-implantowane do podłoża szklanego.
  30. 30
    Wyrób powlekany zawierający podłoże szklane podpierające jedną lub więcej warstw, znamienny tym, że podłoże szklane jest hartowane i/lub wyginane; warstwa zawierająca węgiel typu diamentu - DLC jest osadzona na podłożu szklanym, przy czym warstwa zawierająca DLC ma grubość od 0,5 do 100 nm, warstwa zabezpieczająca zawierająca węglik jest umieszczona na podłożu szklanym ponad warstwą zawierającą DLC, i gdzie powyższa warstwa zabezpieczająca ma grubość od 0,5 do 50 nm, i przy czym węglik obejmuje co najmniej jeden materiał spośród:węglika boru, węglika tytanu, węglika hafnu, węglika tytanowo-hafnowego, węglika tantalu, i węglika cyrkonu.
  31. 31
    Wyrób powlekany według zastrz. 30, znamienny tym, że węglik obejmuje co najmniej jeden materiał spośród:BCx - węglik boru, w którym x wynosi od 0,75 do 1,5, TiCx - węglik tytanu, w którym x wynosi od 0,47 do 0,99, HfCx - węglik hafnu, w którym x wynosi od 0,47 do 0,99, węglika tytanowo-hafnowego, TaCx - węglik tantalu, w którym x wynosi od 0,47 do 0,99, i ZrCx, - węglik cyrkonu, w którym x wynosi od 0,47 do 0,99.
Independent claims31