Nova Patents
PL215618B1

Method for treating a lens apt to trimming

Abstract

This record has no abstract on file.

PL215618B1, drawing sheet 1
Sheet 1 of 2

Term

Term ended

Expired 2 July 2023, 3.2 years ago.

  1. Priority
  2. Filed
  3. Granted
  4. Expired
  5. Today

28 claims: 8 independent, 20 dependent

  1. 1
    Sposób otrzymywania soczewki okulistycznej nadającej się do końcowego dopasowania, dostarczający soczewkę zawierającą dwie główne strony i posiadającą co najmniej jedną stronę zawierającą zewnętrzną, organiczną lub nieorganiczną, warstwę pokrytą tymczasową warstwą ochronną MgF2, znamienny tym, że - kontynuuje się osadzanie tymczasowej warstwy ochronnej MgF2 na powyższej zewnętrznej warstwie przez naparowanie próżniowe z szybkością mniejszą od 0,5 nm/s, korzystnie równą lub mniejszą od 0,3 nm/s, albo - poddaje się powyższą tymczasową warstwę ochronną MgF2 obróbce chemicznej w fazie ciekłej prowadzącej do utworzenia MgO i/lub Mg(OH)2 w i/lub na powyższej tymczasowej warstwie ochronnej MgF2, albo - osadza się warstwę co najmniej jednego niefluorowanego tlenku metalicznego i/lub co najmniej jednego niefluorowanego wodorotlenku metalicznego na tymczasowej warstwie ochronnej MgF2 przez przeniesienie ich z elektrostatycznej folii lub przez naparowanie próżniowe bezpośrednio na tymczasową warstwę ochronną MgF2.
  2. 2
    Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że jako zewnętrzną, organiczną lub nieorganiczną, warstwę stosuje się hydrofobową i/lub oleofobową powłokę powierzchniową.
  3. 3
    Sposób według zastrz. 1 albo 2, znamienny tym, że stosuje się powyższą zewnętrzną warstwę posiadającą grubość mniejszą niż 30 nm, korzystnie w zakresie 1-20 nm, jeszcze korzystniej w zakresie 1-10 nm.
  4. 4
    Sposób według któregokolwiek z zastrz. od 1 do 3, znamienny tym, że zewnętrzną warstwę osadza się na powłoce antyrefleksyjnej.
  5. 5
    Sposób według zastrz. 4, znamienny tym, że stosuje się powłokę antyrefleksyjną wielowarstwową.
  6. 6
    Sposób według któregokolwiek z zastrz. od 1 do 5, znamienny tym, że stosuje się tymczasową warstwę ochronną MgF2 posiadającą grubość 5-50 nm.
  7. 7
    Sposób według któregokolwiek z zastrz. od 1 do 6, znamienny tym, że stosuje się obróbkę chemiczną w fazie ciekłej obejmującą etap kontaktowania tymczasowej warstwy ochronnej MgF2 PL 215 618 B1 z niedejonizowaną i niedestylowaną wodą w temperaturze 30-50°C, korzystnie w zakresie 30-40°C.
  8. 8
    Sposób według któregokolwiek z zastrz. od 1 do 6, znamienny tym, że stosuje się obróbkę chemiczną w fazie ciekłej obejmującą etap kontaktowania tymczasowej warstwy ochronnej MgF2 z wodnym roztworem węglanu sodu.
  9. 9
    Sposób według któregokolwiek z zastrz. od 1 do 6, znamienny tym, że stosuje się obróbkę chemiczną w fazie ciekłej obejmującą etap kontaktowania tymczasowej warstwy ochronnej MgF2 z wodnym roztworem podchlorynu sodu.
  10. 10
    Sposób według zastrz. 8 albo 9, znamienny tym, że stosuje się temperaturę wodnego roztworu wynoszącą 14-40°C.
  11. 11
    Sposób według zastrz. 10, znamienny tym, że stosuje się temperaturę wodnego roztworu wynoszącą 14-20°C.
  12. 12
    Sposób według zastrz. 8, znamienny tym, że stosuje się stężenie molowe węglanu sodu w wodnym roztworze wynoszące 0,01-0,1 mola/litr.
  13. 13
    Sposób według zastrz. 9, znamienny tym, że stopień chlorometryczny wodnego roztworu podchlorynu sodu mieści się w zakresie 0,1-5.
  14. 14
    Sposób według któregokolwiek z zastrz. od 7 do 13, znamienny tym, że etap kontaktowania tymczasowej warstwy ochronnej MgF2 z niedejonizowaną, niedestylowaną wodą albo z wodnym roztworem węglanu sodu lub podchlorynu sodu prowadzi się w ciągu okresu czasu co najmniej równego 10 sekund, korzystnie rzędu 15 sekund.
  15. 15
    Sposób według któregokolwiek z zastrz. od 7 do 14, znamienny tym, że stosuje się obróbkę chemiczną w fazie ciekłej obejmującą etap płukania wodą, korzystnie destylowaną lub dejonizowaną, i etap suszenia.
  16. 16
    Sposób według któregokolwiek z zastrz. od 1 do 6, znamienny tym, że stosuje się co najmniej jeden niefluorowany tlenek metaliczny wybrany spośród tlenku magnezu, tlenku wapnia, tlenku prazeodymu i tlenku ceru.
  17. 17
    Sposób według któregokolwiek z zastrz. od 1 do 6, znamienny tym, że jako wodorotlenek metaliczny stosuje się wodorotlenek magnezu.
  18. 18
    Sposób według zastrz. 16, znamienny tym, że stosuje się osadzenie MgO obejmujące następujące etapy:- naparowanie próżniowe MgO na elektrostatycznej folii, - nałożenie elektrostatycznej folii na stronę soczewki pokrytą tymczasową warstwą ochronną MgF2, - usunięcie elektrostatycznej folii, przy czym MgO pozostaje na tymczasowej warstwie ochronnej MgF2.
  19. 19
    Sposób według zastrz. 16, znamienny tym, że osadzenie MgO wykonuje się przez naparowanie próżniowe MgO, przy czym ukształtowana warstwa MgO ma grubość w zakresie 1-5 nm.
  20. 20
    Sposób według któregokolwiek z zastrz. od 1 do 19, znamienny tym, że obie główne strony zawierają powyższą zewnętrzną warstwę pokrytą tymczasową warstwą ochronną MgF2.
  21. 21
    Soczewka okulistyczna nadająca się do końcowego dopasowania, zawierająca zewnętrzną organiczną lub nieorganiczną warstwę pokrytą tymczasową warstwą ochronną MgF2, osadzoną na powyższej zewnętrznej, organicznej lub nieorganicznej, warstwie, znamienna tym, że na tymczasowej warstwie ochronnej MgF2 jest osadzona warstwa co najmniej jednego niefluorowanego tlenku metalicznego i/lub co najmniej jednego niefluorowanego wodorotlenku metalicznego.
  22. 22
    Soczewka okulistyczna według zastrz. 21, znamienna tym, że powyższa zewnętrzna warstwa organiczna lub nieorganiczna stanowi hydrofobową i/lub oleofobową warstwę powlekającą.
  23. 23
    Soczewka okulistyczna według zastrz. 21 albo 22, znamienna tym, że co najmniej jeden niefluorowany tlenek metaliczny jest wybrany spośród tlenku wapnia, tlenku prazeodymu i tlenku ceru.
  24. 24
    Soczewka okulistyczna według któregokolwiek z zastrz. od 21 do 23, znamienna tym, że niefluorowanym wodorotlenkiem metalicznym jest wodorotlenek magnezu.
  25. 25
    Soczewka okulistyczna według któregokolwiek z zastrz. od 21 do 23, znamienna tym, że hydrofobowa i/lub oleofobowa warstwa powlekająca ma grubość mniejszą niż 30 nm, korzystnie w zakresie 1-20 nm, a jeszcze korzystniej w zakresie 1-10 nm.
  26. 26
    Soczewka okulistyczna według któregokolwiek z zastrz. od 21 do 24, znamienna tym, że hydrofobowa i/lub oleofobowa warstwa powlekająca jest osadzona na powłoce antyrefleksyjnej, korzystnie wielowarstwowej. PL 215 618 B1
  27. 27
    Soczewka okulistyczna według któregokolwiek z zastrz. od 21 do 25, znamienna tym, że zawiera folię elektrostatyczną na warstwie niefluorowanego tlenku metalicznego i/lub niefluorowanego wodorotlenku metalicznego.
  28. 28
    Soczewka okulistyczna według któregokolwiek z zastrz. od 21 do 26, znamienna tym, że niefluorowanym tlenkiem metalicznym jest MgO.
Independent claims28