PL204918B1

Method for controllong scale formation and deposition in aquesous systems

Abstract

Novel water-soluble or water-dispersible polymers useful for inhibiting the formation and deposition of scale forming moieties in aqueous systems comprising repeat units characterized by the Formula I: R1 | *--[-E-]c-**-[-CH2-C-]d-* *-[-F-]e-* | G | O | R2 | XZ Wherein E is the repeat unit remaining after polymerization of an ethylenically unsaturated compound; preferably, a carboxylic acid, sulfonic acid, phosphonic acid, or amide form thereof or mixtures thereof. R1 is H or lower (C1-C4) alkyl. G is -CH2- or -CHCH3-; R2 is -(-CH2-CH2-O)n- or -(-CH2-CHCH3-O)m- where n and m range from about 1 to 100, preferably n is greater than 10 and m ranges from about 1 to 20. X is an anionic radical selected from the group consisting of SO3, PO3, or COO; Z is H or hydrogens or any water soluble cationic moiety which counterbalances the valence of the anionic radical X, including but not limited to Na, K, Ca, or NH4. F, when present, is a repeat unit having the structure of Formula II: R4 | *-[-CH2-C-]-* | CH2 | O | R5 | XZ wherein X and Z are the same as in Formula I. R4 is H or lower (C1-C4) alkyl . R5 is hydroxy substituted alkyl or alkylene having from about 1 to 6 carbon atoms.

PL204918B1, drawing sheet 1
Sheet 1 of 6

Term

Term ended

Expired 1 March 2022, 4.6 years ago.

  1. Priority
  2. Filed
  3. Granted
  4. Expired
  5. Today

48 claims: 10 independent, 38 dependent

  1. 1
    Patent claims Zastrzeżenia patentowe 1. A composition characterized in that it comprises:1. Kompozycja znamienna tym, że zawiera: rozpuszczalny w wodzie lub dyspergujący w wodzie polimer o wzorze: water-soluble or water-dispersible polymer of the formula: PL 204 918 B1 w którym E oznacza powtarzalną jednostkę pozostającą po polimeryzacji jednego lub więcej etylenowo nienasyconego związku wybranego spośród takich jak: kwas karboksylowy, kwas sulfonowy, kwas fosfonowy lub ich forma amidowa albo ich mieszaniny;R1 oznacza H lub niższy (C1-C4) alkil;G oznacza -CH2- lub -CHCH3-;Wherein E is the repeating unit remaining after polymerization of one or more ethylenically unsaturated compounds selected from: carboxylic acid, sulfonic acid, phosphonic acid or an amide form thereof or mixtures thereof;R1 is H or lower (C1-C4) alkyl;G is -CH2- or -CHCH3-;R2 is - (CH2-CH2-O) n - or - (CH2-CHCH3-O) m-;in which n and m range from 1 to 100;X is SO3, PO3 or COO;Z is H, or a water-soluble cationic group selected from Na, K, Ca or NH4;F is a repeating unit with the formula: R2 oznacza -(CH2-CH2-O)n - lub -(CH2-CHCH3-O)m-;w których n i m mają zakres od 1 do 100;X oznacza SO3, PO3 lub COO;Z oznacza H, lub rozpuszczalną w wodzie grupę kationową wybraną spośród takich jak Na, K, Ca lub NH4;F oznacza powtarzalną jednostkę o wzorze: w którym R4 oznacza H lub niższy (C1-C4)alkil, R5 oznacza hydroksy podstawiony alkil lub alkilen o 1 do 6 atomach węgla;gdzie stosunek c:d:e mieści się w zakresie od 20:10:1 do 1:1:20 lub e oznacza zero i stosunek c:d mieści się w zakresie od 30:1 do 1:20. where R4 is H or lower (C1-C4) alkyl, R5 is hydroxy substituted alkyl or alkylene of 1 to 6 carbon atoms;wherein the ratio of c: d: e is from 20: 10: 1 to 1: 1:20 or e is zero and the ratio of c: d is from 30: 1 to 1:20.
  2. 8
    A composition according to a claim ranging from 1,000 to 1,000,000. 8. Kompozycja według zastrz w zakresie od 1000 do 1000000.
  3. 13
    The composition according to p. in the range of 1,000 to 1,000,000. 13. Kompozycja według zastrz. w zakresie od 1000 do 1000000.
  4. 18
    A method for inhibiting the formation and deposition of limescale-forming substances on the exposed surfaces of a water system, characterized in that a water-soluble or water-dispersible polymer of the formula is added to the water system in an amount from 0.1 ppm to 500 ppm. 18. Sposób hamowania tworzenia i osadzania substancji powodujących powstawanie kamienia kotłowego na narażonych na to powierzchniach systemu wodnego, znamienny tym, że do systemu wodnego dodaje się, w ilości od 0,1 ppm do 500 ppm, rozpuszczalny w wodzie lub dyspergujący w wodzie polimer o wzorze PL 204 918 B1 w którym E oznacza powtarzalną jednostkę pozostającą po polimeryzacji jednego lub więcej etylenowo nienasyconego związku wybranego spośród takich jak:kwas karboksylowy, kwas sulfonowy, kwas fosfonowy lub ich forma amidowa albo ich mieszaniny;R1 oznacza H lub niższy (C1-C4) alkil;G oznacza -CH2-lub -CHCH3-;Wherein E is the repeating unit remaining after polymerization of one or more ethylenically unsaturated compounds selected from: carboxylic acid, sulfonic acid, phosphonic acid or an amide form thereof or mixtures thereof;R1 is H or lower (C1-C4) alkyl;G is -CH2- or -CHCH3-;R2 is - (CH2-CH2-O) n- or - (CH2-CHCH3-O) m, wherein n and m range from 1 to 100;X is SO3, PO3 or COO;Z is H, or a water-soluble cationic group selected from Na, K, Ca or NH4;F is a repeating unit with the formula: R2 oznacza -(CH2-CH2-O)n- lub -(CH2-CHCH3-O)m, w którym n i m mają zakres od 1 do 100;X oznacza SO3, PO3 lub COO;Z oznacza H, lub rozpuszczalną w wodzie grupę kationową wybraną spośród takich jak Na, K, Ca lub NH4;F oznacza powtarzalną jednostkę o wzorze: w którym R4 oznacza H lub niższy (C1-C4)alkil, R5 oznacza hydroksy podstawiony alkil lub alkilen o 1 do 6 atomach węgla;gdzie stosunek c:d:e mieści się w zakresie od 20:10:1 do 1:1:20 lub e oznacza zero i stosunek c:d mieści się w zakresie od 30:1 do 1:20. where R4 is H or lower (C1-C4) alkyl, R5 is hydroxy substituted alkyl or alkylene of 1 to 6 carbon atoms;wherein the ratio of c: d: e is from 20: 10: 1 to 1: 1:20 or e is zero and the ratio of c: d is from 30: 1 to 1:20.
  5. 19
    The method according to p. 18, characterized in that the ethylenically unsaturated compound is one or more of the following compounds:acrylic acid, methacrylic acid, acrylamide, methacrylamide, N-methylacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-isopropylacrylamide, maleic acid or anhydride, acid fumaric acid, itaconic acid, styrenesulfonic acid, vinylsulfonic acid, isopropenylphosphonic acid, vinylphosphonic acid, vinylidenediphosphonic acid, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid or mixtures thereof. 19. Sposób według zastrz. 18, znamienny tym, że jako etylenowo nienasycony związek stosuje się jeden lub więcej spośród takich związków jak: kwas akrylowy, kwas metakrylowy, akryloamid, metakryloamid, N-metyloakryloamid, N,N-dimetyloakryloamid, N-izopropyloakryloamid, kwas lub bezwodnik maleinowy, kwas fumarowy, kwas itakonowy, kwas styrenosulfonowy, kwas winylosulfonowy, kwas izopropenylofosfonowy, kwas winylofosfonowy, kwas winylidenodifosfonowy, kwas 2-akryloamido-2-metylopropanosulfonowy lub ich mieszaniny.
  6. 35
    The method according to p. A process as claimed in 29, characterized in that it is used in a water system that is a steam generation system. 35. Sposób według zastrz. 29, znamienny tym, że stosuje się w systemie wodnym będącym systemem generowania pary.
  7. 36
    The method according to p. A process as claimed in 29, characterized in that it is used in the water system which is a cooling water system. 36. Sposób według zastrz. 29, znamienny tym, że stosuje się w systemie wodnym będącym chłodniczym systemem wodnym.
  8. 37
    The method according to p. A process as claimed in 29, characterized in that it is used in an aqueous system which is a gas scrubbing system. 37. Sposób według zastrz. 29, znamienny tym, że stosuje się w systemie wodnym będącym systemem wymywania gazu.
  9. 41
    The method according to p. 39, characterized in that it is used in a water system that is a steam generating system. 41. Sposób według zastrz. 39, znamienny tym, że stosuje się w systemie wodnym będącym systemem generowania pary.
  10. 43
    The method according to p. 39 characterized in that it is used in an aqueous system that is a gas scrubbing system. 43. Sposób według zastrz. 39 znamienny tym, że stosuje się w systemie wodnym będącym systemem wymywania gazu.