NL2005374C2

Method for arranging a lithography system on a foundation, and lithography system arranged on said foundation.

Abstract

The invention relates to a vibration isolation requiring system, such as a lithography system, arranged on a foundation (100), for example part of the floor in the room where the lithography system is arranged, and a method for arranging a lithography system on a foundation. The lithography system is arranged on top of a rigid or solid base plate (110), wherein said base plate having one or more struts (150) attached thereto for placing the lithography system onto the foundation, wherein the one or more strutsare arranged at a side of the base plate facing the foundation, and wherein the base plate is provided with a cut-out or an opening for mounting equipment (330) underneath a vacuum chamber of the lithography system.

NL2005374C2, drawing sheet 1
Sheet 1 of 13

Term

4 yearsleft in the term

Expires 20 September 2030.

  1. Priority and filed
  2. Granted
  3. Today
  4. Expires

26 claims: 11 independent, 15 dependent

  1. 1
    CONCLUSIES 1. Werkwijze voor het plaatsen van een een vibratie isolatie benodigend systeem, zoals een lithografiesysteem, op een fundering, waarbij de werkwijze de stappen omvat van:het verschaffen van een zelfdragende rigide basisplaat met een of meer steunen hieraan bevestigd, waarbij de een of meer steunen zijn bevestigd aan een zijde van de basisplaat die naar de fundering gekeerd is;het plaatsen van de basisplaat met haar steunen op de fundering;het verschaffen van nivelleermiddelen voor het instellen van de afstand tussen de basisplaat en de fundering;het aanpassen van de afstand tussen de basisplaat en de fundering voor het verkrijgen van de gewenste vlakwaterpasstelling van de basisplaat;het verschaffen van een uithardend harsmateriaal tussen de steunen en de fundering;het uitharden verschaffen van een vaste van het harsmateriaal voor het verbinding tussen de fundering en de steunen;en het plaatsen van het systeem boven op de basisplaat.
  2. 2
    Werkwij ze omvattend de stap nivelleermiddelen. volgens van het conclusie 1, verwij deren verder van de
  3. 3
    Werkwij ze omvattend de stappen van:het verschaffen van volgens conclusie 1 of 2, verder welke rand een funderingsgebied een rand op de voor de basisplaat omringt;fundering, en het verschaffen van het uithardend harsmateriaal op het funderingsgebied als een poel van uithardend harsmateriaal, waarbij de een of meer steunen elk in contact zijn met de poel van uithardend harsmateriaal.
  4. 4
    Werkwijze volgens conclusie 3, waarbij de steunen ten minste ten dele ondergedompeld zijn in de poel van uithardend harsmateriaal.
  5. 5
    Werkwijze volgens conclusie 3 of 4, verder omvattend de stap van het verwijderen van de rand nadat het uithardende harsmateriaal is uitgehard.
  6. 6
    Werkwijze volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat het uithardende harsmateriaal een materiaal is met een lage of in hoofdzaak geen krimp gedurende het uitharden.
  7. 7
    Werkwijze volgens conclusie 6, met het kenmerk, dat de krimp minder is dan één procent.
  8. 8
    Werkwijze volgens conclusie 6 of 7, met het kenmerk, dat het uithardende harsmateriaal een in hoofdzaak niet krimpende epoxy omvat.
  9. 9
    Werkwijze volgens conclusie 8, met het kenmerk, dat de epoxy in hoofdzaak geen of een minimale hoeveelheid oplosmiddel omvat.
  10. 10
    Werkwijze volgens conclusie 6, 7, 8 of 9, met het kenmerk, dat het uithardende harsmateriaal een kleefmiddel omvat.
  11. 11
    Werkwijze volgens een der conclusies, met het kenmerk, dat de een of losneembaar verbonden zijn met de volgens kenmerk, voorgaande meer steunen
  12. 12
    Werkwijze conclusies, met het funderingsplaat omvat.
  13. 13
    Werkwijze kenmerk, dat de funderingsplaat is.
  14. 14
    Werkwijze conclusies, met het granieten plaat omvat.
  15. 15
    Werkwijze conclusies, met het kenmerk, basisplaat. een der dat de voorgaande fundering een conclusie 12, funderingsplaat volgens volgens kenmerk, een dat de een der met het betonnen voorgaande basisplaat een volgens dat een der voorgaande de basisplaat is voorzien van monteringsorganen aan een bovenzijde voor het monteren van het lithografiesysteem op de basisplaat.
  16. 16
    Werkwijze volgens conclusie 15, met het kenmerk, dat ten minste één steun onder één monteringsorgaan geplaatst is.
  17. 17
    Lithografiesysteem geplaatst op een fundering, waarbij de fundering is voorzien van een zelfdragende basisplaat met een of meer steunen daaraan bevestigd, waarbij de een of meer steunen zijn bevestigd aan een zijde van de basisplaat die gekeerd is naar de fundering, waarbij de steunen vast verbonden zijn aan de fundering door een harsmateriaal, en waarbij het lithografiesysteem is geplaatst op de bovenzijde van de basisplaat.
  18. 18
    Lithografiesysteem volgens conclusie 17, verder omvattend een of meer van de kenmerkende elementen van conclusies 6 - 16.
  19. 19
    Basisplaat voor het ondersteunen van een een vibratie isolatie benodigend systeem, zoals een lithografiesysteem, waarbij de basisplaat een bodemzijde bevat die, in gebruik, naar een fundering gekeerd is, waarbij de bodemzijde is voorzien van steunen of ten minste is voorbereid voor het aanbrengen van steunen, waarbij de steunen zijn ingericht voor het vast verbinden van de basisplaat met de fundering, zoals een betonnen funderingsblok.
  20. 20
    Basisplaat volgens conclusie 19, waarbij de steunen losneembaar verbonden zijn met de basisplaat.
  21. 21
    Basisplaat volgens conclusie 19 of 20, waarbij de basisplaat een zelfdragende basisplaat is.
  22. 22
    Basisplaat volgens conclusie 19, 20 of 21, waarbij de basisplaat een bovenzijde omvat, die :, in gebruik, naar het systeem gekeerd is, waarbij de bovenzijde een of meer monteringsorganen omvat of ten minste is ingericht voor het hiermee verbinden van een of meer monteringsorganen, waarbij de monteringsorganen verbindbaar zijn tussen de basisplaat en het systeem.
  23. 23
    Basisplaat volgens conclusie 22, waarbij ten minste één van de monteringsorganen ten minste ten dele in lijn geplaatst is met ten minste één van de steunen.
  24. 24
    Basisplaat volgens een van de conclusies 19 - 5 23, waarbij ten minste één van de steunen is voorzien van verankeringselementen aan een van de basisplaat afgekeerde zijde.
  25. 25
    Basisplaat volgens een van de conclusies 19 - 24, waarbij de plaat is voorzien van gaten met een met 10 schroefdraad voorzien insteekelement dat hierin vast geplaatst is voor het verbinden van een steun en/of monteringsorgaan met de basisplaat.
  26. 26
    Basisplaat volgens een van de conclusies 19 - 25, verder omvattend een of meer van de kenmerkende 15 elementen van conclusies 11, 14, 15 of 16. -o-o-o-o-o-o-o-o’005374 o o OCTROOICENTRUM NEDERLAND ONDERZOEKSRAPPORT OCTROOIAANVRAAG NR.:NO 137447 BETREFFENDE HET RESULTAAT VAN HET ONDERZOEK NAAR DE STAND VAN DE TECHNIEK RELEVANTE LITERATUUR Categorie Literatuur met, voor zover nodig, aanduiding van speciaal van belang zijnde Van belang voor Classificatie condusie(s) nr: (IPC) X A X A X EP 1 143 492 Al 10 oktober 2001 * alinea [0093] 1,2 * (NIPPON KOGAKU KK [JP]) (2001-10-10) - alinea [0095];figuren US 4 805 000 A (OGAWA KAZUFUMI [JP] ET AL) 14 februari 1989 (1989-02-14) * kolom 3, regel 31 - kolom 4, regel 62;figuur 1 * US 2004/149881 Al (ALLEN DAVID S [US]) 5 augustus 2004 (2004-08-05) * alinea [0017] - alinea [0021];figuren 1-4 * 19-26 1-18 19-26 1-18 19-21, 24-26 INV. G03F7/20 US 2010/263192 Al (PHILLIPS ALTON H [US]) 21 oktober 2010 (2010-10-21) * alinea [0037] * * alinea [0046] - alinea [0048] * Onderzochte gebieden van de techniek G03F G02B F16M F24F Indien gewijzigde conclusies zijn ingediend, heeft dit rapport betrekking op de conclusies ingediend op: EOB FORM 02.Θ3 (P0414B) 1 CATEGORIE VAN DE VERMELDE LITERATUUR X: de conclusie wordt als niet nieuw of niet inventief beschouwd ten opzichte van deze literatuur Y: de conclusie wordt als niet inventief beschouwd ten opzichte van de combinatie van deze literatuur met andere geciteerde literatuur van dezelfde categorie, waarbij de combinatie voor de vakman voor de hand liggend wordt geacht A: niet tot de categorie X of Y behorende literatuur die de stand van de techniek beschrijft O: niet—schriftelijke stand van de techniek P: tussen de voorrangsdatum en de indieningsdatum gepubliceerde literatuur T: na de indieningsdatum ot de voorrangsdatum gepubliceerde literatuur die niet bezwarend is voor de octrooiaanvrage, maar wordt vermeld ter verheldering van de theorie of het principe dat ten grondslag ligt aan de uitvinding E: eerdere octrooi(aanvrage), gepubliceerd op of na de indieningsdatum, waarin dezelfde uitvinding wordt beschreven D: in de octrooiaanvrage vermeld L: om andere redenen vermelde literatuur &: lid van dezelfde octrooifamilie of overeenkomstige octrooipublicatie AANHANGSEL BEHORENDE BIJ HET
Independent claims26