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KR20080098331A

Anodizing aluminum and alloys thereof

Abstract

The manufacturing method according to the present invention is a method for manufacturing a colored oxide layer, wherein an aluminum substrate is anodized in an electrolyte containing water, sulfuric acid and oxalic acid to prepare a colored oxide layer on the aluminum substrate it's about how The anodizing step may include passing at least two sequence current densities through the electrolyte. A method and use of an article comprising a colored oxide layer on an aluminum substrate prepared by the method is also disclosed.

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Term

Projected expiry 2 May 2028.

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20 claims: 2 independent, 18 dependent

  1. 1
    알루미늄 기재상에 착색된 산화물 층을 제조하는 방법으로서, (a) 물, 옥살산(oxalic acid) 및 황산을 포함하는 전해질 중에 알루미늄 기재를 애노드(anode)로 배치하는 단계;및 (b) 밀도 0.8 A/dm 2 미만의 제 1 전류로 1분 내지 1시간 동안 알루미늄 기재를 아노다이징(anodize)한 다음, 밀도 1.5 A/dm 2 내지 2.5 A/dm 2 의 제 2 전류로 아노다이징하여 산화물 층을 제조하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 착색된 산화물 층의 제조방법.
  2. 2
    제 1 항에 있어서, 상기 알루미늄 기재는 밀도 1.0 A/dm 2 내지 1.5 A/dm 2 의 제 3 전류로 더욱 아노다이징하는 것을 특징으로 하는 착색된 산화물 층의 제조방법.
  3. 3
    제 2 항에 있어서, 상기 제 1 전류, 제 2 전류 및 제 3 전류는 각각 독립적으로 정직류(constant direct current) 또는 펄스 직류(pulsed direct current)에 의해 생성되는 것을 특징으로 하는 착색된 산화물 층의 제조방법.
  4. 4
    제 1 항에 있어서, 상기 제조방법은 교반 장치(gitation device)를 통해 전해질을 교반하는 단계를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 착색된 산화물 층의 제조방법.
  5. 5
    제 4 항에 있어서, 상기 교반 장치는 교반 튜브를 포함하는 것을 특징으로 하는 착색된 산화물 층의 제조방법.
  6. 6
    제 1 항에 있어서, 상기 산화물층 위에 염료층(dye layer)을 형성하는 단계를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 착색된 산화물 층의 제조방법.
  7. 7
    제 1 항에 있어서, 상기 전해질은 알루미늄 이온, 금속 설페이트(sulfate), 유기산 또는 그들의 조합을 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 착색된 산화물 층의 제조방법.
  8. 8
    제 1 항에 있어서, 상기 전해질은 전해질 1 리터당 2g 내지 11g의 알루미늄 이온을 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 착색된 산화물 층의 제조방법.
  9. 9
    제 1 항에 있어서, 상기 전해질은 전해질 1 리터당 5g 내지 40g의 옥살산 및 전해질 1 리터당 100g 내지 360g의 황산을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 착색된 산화물 층의 제조방법.
  10. 10
    제 9 항에 있어서, 상기 전해질은 전해질 1 리터당 12g 내지 20g의 옥살산 및 전해질 1 리터당 140g 내지 220g의 황산을 포함하는 것을 특징으로 하는 착색된 산화물 층의 제조방법.
  11. 11
    제 10 항에 있어서, 상기 전해질은 전해질 1 리터당 14g 내지 18g의 옥살산 및 전해질 1 리터당 160g 내지 200g의 황산을 포함하는 것을 특징으로 하는 착색된 산화물 층의 제조방법.
  12. 12
    제 1 항에 있어서, 상기 아노다이징 단계는 5℃ 내지 25℃의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 착색된 산화물 층의 제조방법.
  13. 13
    제 12 항에 있어서, 상기 아노다이징 단계는 10℃ 내지 15℃의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 착색된 산화물 층의 제조방법.
  14. 14
    제 1 항에 있어서, 상기 제조방법은 산화물 층의 표면을 Ra 값이 0.1 미크론 미만이 되도록 연마하는 단계를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 착색된 산화물 층의 제조방법.
  15. 15
    알루미늄 기재상에 착색된 산화물 층을 보유한 알루미늄 기재를 포함하는 물품(article)으로서, 상기 착색된 산화물 층은 (a) 물, 옥살산(oxalic acid) 및 황산을 포함하는 전해질 중에 알루미늄 기재를 애노드로 배치하는 단계;및 (b) 밀도 0.8 A/dm 2 미만의 제 1 전류로 1분 내지 1시간 동안 알루미늄 기재를 아노다이징한 다음, 밀도 1.5 A/dm 2 내지 2.5 A/dm 2 의 제 2 전류로 아노다이징하여 산화물 층을 제조하는 단계;를 포함하는 방법을 통해 제조되는 것을 특징으로 하는 물품.
  16. 16
    제 15 항에 있어서, 상기 착색된 산화물 층은 미세경도(microhardness)가 280 내지 1000 Hv인 것을 특징으로 하는 물품.
  17. 17
    제 15 항에 있어서, 상기 착색된 산화물 층은 두께가 15 미크론 내지 50 미크론인 것을 특징으로 하는 물품.
  18. 18
    제 15 항에 있어서, 상기 알루미늄 기재는 알루미늄 및, 선택적으로 실리콘, 붕소, 게르마늄, 비소, 안티몬, 텔루르, 구리, 마그네슘, 망간, 아연, 리튬, 철, 크롬, 바나듐, 티타늄, 비스무스, 갈륨, 주석, 납, 지르코늄, 니켈, 코발트 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 원소를 포함하는 것을 특징으로 하는 물품.
  19. 19
    제 15 항에 있어서, 상기 산화물층 위에 염료층을 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 물품.
  20. 20
    제 15 항에 있어서, 상기 착색된 산화물 층의 표면은 Ra값이 0.01 내지 0.1 미크론인 것을 특징으로 하는 물품.
Independent claims20