KR20010105694A

film coated with photochemical active catalyst layer

Abstract

The present invention relates to a photocatalytic active film, which is prepared by coating a silicon-reinforced resin or polysiloxane on a base film as a protective adhesive layer, then applying a photocatalyst layer in which a photocatalyst such as titanium dioxide is mixed and dispersed on silica gel and baking at 110° C. or higher. To an active film and a method for manufacturing the same, the photocatalytic active film can be used in various ways as interior and exterior materials for buildings and exterior materials for household goods.

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6 claims: 2 independent, 4 dependent

  1. 1
    1) 변형 온도 110 ℃ 이상의 종이 또는 플라스틱 기재 필름을 준비하는 단계;2) 상기 필름 위에 규소-개질 수지 또는 하기식(1)의 중축합물인 폴리실록산 1 내지10 μm로 적층시키고 건조시키는 단계;3) 실리카졸에 광촉매 산화물이 실리카에 대한 몰비로 1/10 내지 10 이 되도록 분산된 촉매 분산액을 상기 2) 단계의 필름상에 0.5 내지 20 μm로 도포하는 단계;4) 3)단계의 필름을 100 ℃ 이하의 온도에서 예비 건조 시키는 단계;및 5) 상기 예비처리된 필름을 110 ℃ 이상 상기 기재 필름이 변형되지 않는 범위에서 베이킹하는 단계로 이루어 지는 광촉매 활성 필름의 제조방법. 식(1) SiCl a (OH) b R c (OR′) d (식중, R은 아미노, 카르복실 또는 염소로 치환될 수 있는 탄소수 1-8 의 알킬 또는 1-8 탄소수의 알콕시로 치환될 수 있는 탄소수 1-8 의 알킬이고 R′는 탄소수 1-8의 알킬이며 a, b 및 c는 0,1 또는 2 이고, d는 2-4 의 정수이고 a + b + c + d = 4이다.)
  2. 2
    제 1 항에 있어서, 상기 기재 필름이 나일론, 아크릴, 폴리에스테르, 폴리아세탈,이들의 공중합체,폴리페닐렌 설파이드, 폴리페닐렌 옥사이드 또는 폴리에테르이미드 인 광촉매 활성 필름의 제조방법.
  3. 3
    제 2 항에 있어서, 상기 기재 필름이 폴리에스테르, 폴리페닐렌 설파이드, 폴리페닐렌 옥사이드, 폴리에테르 이미드 인 광촉매 활성 필름의 제조방법.
  4. 4
    제 1 항 내지 제 3 항에 있어서, 상기 폴리실록산이 하기식 (1) 표시되는 폴리실록산인 광촉매 활성 필름의 제조방법.
  5. 5
    제 4 항에 있어서, 상기 규소-개질 수지가 아크릴 개질된 규소수지인 광촉매 활성 필름의 제조방법.
  6. 6
    1) 변형 온도 110℃ 이상의 종이 또는 플라스틱 기재 필름;2) 상기 필름 위에 규소 수지 1 내지 10μm의 두께로 적층된 규소 개질 수지층 또는 하기식(1)의 중축합물인 폴리실론산 수지층;3) 상기 수지층 상에 0.5 내지 20 μm로 도포된 실리카졸에 광촉매 산화물이 실리카에 대한 몰비로 1/10 내지 10 이 되도록 분산된 촉매 분산층을 포함하고 상기층은 110 ℃ 이상의 온도에서 베이킹 처리되고 규소수지층에 결합되어 있는 광촉매 활성 필름. 식(1) SiCl a (OH) b R c (OR′) d (식중, R은 아미노, 카르복실 또는 염소로 치환될 수 있는 탄소수 1-8 의 알킬 또는 1-8 탄소수의 알콕시로 치환될 수 있는 탄소수 1-8 의 알킬이고 R′는 탄소수 1-8의 알킬이며 a, b 및 c는 0,1 또는 2 이고, d는 2-4 의 정수이고 a + b + c + d = 4이다.)