KR0124924B1

Method of forming a solder layer on pads of a circuit and method of mounting an electric part on a circuit board

Abstract

A paste-shaped composition containing organic acid Pb and Sn powder is applied to the pad arrangement portion of the circuit board. Then, the paste-like composition is heated to cause a solder alloy precipitation reaction, and a solder layer of a Sn-Pb alloy is selectively deposited on the pad. The precipitation reaction at this time proceeds in a state in which, when the paste-like composition becomes liquid by heating, a liquid atmosphere is formed on the pad arrangement portion, and Sn powder settles into the liquid. Mounting of the electronic component is performed by applying the paste composition again on the pad by this reaction, placing the electronic component thereon, and then heating the paste composition to solder the leads of the electronic component onto the pad.

KR0124924B1, drawing sheet 1
Sheet 1 of 9

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Expired 30 November 2010, 15.8 years ago.

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23 claims: 5 independent, 18 dependent

  1. 1
    회로기판의 패드배열부에 유기산 Pb와 Sn 분말을 함유하는 페이스트 형상 조성물을 도포하는 공정과, 상기 조성물을 가열하여 땜납합금 석출반응을 발생시키고, 패드위에 선택적으로 Sn-Pb 합급의 땜납층을 석출시키는 공정을 가지고, 상기 석출반응은 가열됨에 따라 상기 페이스트 형상 조성물이 액체형상이 되었을때에 패드배열부상에 액체대기실이 형성되고, 또한, Sn 분말이 이 액체중에 침강하고 있는 상태로 진행하는 것을 특징으로 하는 회로기판의 패드로의 땜납층 형성방법.
  2. 2
    제1항에 있어서, 상기 땜납층은 Pb가 풍부한 Sn-Pb 합금을 함유하고 있는 것을 특징으로 하는 회로기판의 패드로의 땜납층 형성방법.
  3. 3
    회로기판의 패드위에 선택적으로 Sn-Pb 합금의 예비땜납을 형성하는 공정과, 상기 예비땜납위에 유기산 Pb와 Sn 분말을 함유하는 페이스트 형상 조성물을 도포하는 공정과, 이 페이스트 형상 조성물위에 전자부품을 재치하는 공정과, 상기 페이스트 형상 조성물을 가열하여 땜납합금 석출반응을 발생시키고, 이 땜납합금에 의해 상기 패드와 상기 전자부품의 리드를 납땜하는 공정을 가지는 것을 특징으로 하는 회로기판으로의 전자부품의 실장방법.
  4. 4
    제3항에 있어서, 상기 예비땜납은 회로기판의 패드배열부에 유기산 Pb와 Sn 분말을 함유하는 페이스트를 도포하고, 이것을 가열함으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 회로기판의 전자부품의 실장방법.
  5. 5
    제3항에 있어서, 상기 예비땜납은 무전해 도금에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 회로기판의 전자부품의 실장방법.
  6. 6
    제3항에 있어서, 상기 석출반응은 가열에 의해 상기 페이스트 형상 조성물이 액체 형상이 되었을때에, 패드배열부상에 액체대기실이 형성되고, 또한 Sn 분말이 이 액체의 안에 침강하여 있는 상태로 진행하는 것을 특징으로 하는 회로기판으로의 전자부품의 실장방법.
  7. 7
    제3항에 있어서, 상기 땜납합금은 Pb가 풍부한 Sn-Pb 합금을 함유하고 있는 것을 특징으로 하는 회로기판으로의 전자부품의 실장방법.
  8. 8
    회로기판의 패드위에 선택적으로 Sn-Pb 합금의 예비땜납을 형성하는 공정과, 상기 패드의 납땜할 전자부품의 리드에 유기산 Pb와 Sn 분말을 함유하는 패이스트 형상 조성물을 도포하는 공정과, 상기 예비땜납위에 상기 전자부품을 재치하는 공정과, 상기 페이스트 형상 조성물을 가열하여 땜납합금 석출반응을 발생시키고, 이 땜납합금에 의해 상기 패드와 상기 전자부품의 리드를 납땜하는 공정을 가지는 것을 특징으로 하는 회로기판으로의 전자부품의 실장방법.
  9. 9
    제8항에 있어서, 상기 예비땜납은 회로기판의 패드배열부에 유기산 Pb와 Sn 분말을 함유하는 페이스트를 도포하고, 이것을 가열함으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 회로기판으로의 전자부품의 실장방법.
  10. 10
    제8항에 있어서, 상기 예비땜납은 무전해 도금에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 회로기판으로의 전자부품의 실장방법.
  11. 11
    제8항에 있어서, 상기 석출반응은 가열에 의해 상기 폐이스트 형상 조성물이 액체형상이 되었을때에, 패드 배열부상에 액체대기실이 형성되고, 또한 Sn 분말이 이 액체의 안으로 침강하여 있는 상태로 진행하는 것을 특징으로 하는 회로기판으로의 전자부품의 실장방법.
  12. 12
    제8항에 있어서, 상기 땜납합금은 Pb가 풍부한 Sn-Pb 합금을 함유하고 있는 것을 특징으로 하는 회로기판으로의 전자부품의 실장방법.
  13. 13
    회로기판의 패드위에 선택적으로 Sn-Pb 합금의 예비땜납을 형성하는 공정과, 상기 패드에 납땜할 전자부품의 리드에 유기산 Pb와 Sn 분말을 함유하는 페이스트 형상 조성물을 도포하는 공정과, 상기 페이스트 형상 조성물을 가열하여 땜납합금 석출반응을 발생시키고, 예비땜납층을 형성하는 공정과, 상기 패드위의 예비땜납의 위 및 상기 리드에 형성된 예비땜납층 위의 적어도 한쪽에 용제를 도포하는 공정과, 상기 패드위에 상기 전자부품을 재치하는 공정과, 상기 패드위의 예비땜납 및 상기 리드에 형성된 예비땜납층을 가열하여 상기 패드와 상기 전자부품의 리드를 납땜하는 공정을 가지는 것을 특징으로 하는 회로기판으로의 전자부품의 실장방법.
  14. 14
    제13항에 있어서, 상기 패드위의 예비땜납은 회로기판의 패드배열부에 유기산 Pb와 Sn 분말을 함유하는 페이스트를 도포하고, 이것을 가열함으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 회로기판으로의 전자부품의 실장방법.
  15. 15
    제13항에 있어서, 상기 패드위의 예비땜납은 무전해 도금에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 회로기판으로의 전자부품의 실장방법.
  16. 16
    제13항에 있어서, 상기 석출반응은 가열에 의해 상기 페이스트 형상 성형물이 액체형상이 되었을때에 패드배열부상에 액체대기실이 형성되고, 또한 Sn 분말이 이 액체안으로 침강하여 있는 상태로 진행하는 것을 특징으로 하는 회로기판으로의 전자부품의 실장방법.
  17. 17
    제13항에 있어서, 상기 땜납합금은 Pb가 풍부한 Sn-Pb 합금을 함유하고 있는 것을 특징으로 하는 회로기판으로의 전자부품의 실장방법.
  18. 18
    회로기판의 패드배열부에 유기산 Pb와 Sn 분말을 함유하는 페이스트 형상 조성물을 도포하는 공정과, 상기 페이스트 형상 조성물을 가열하여 땜납합금 석출반응을 발생시키고, 폐드위에 전자부품을 실장하는데 필요한 양의 Sn-Pb 합금의 땜납층을 형성하는 공정과, 상기 땜납층의 위 또는 상기 패드에 납땜할 전자부품의 리드위에 용제를 도포하는 공정과, 상기 패드위에 상기 전자부품을 재치하는 공정과, 상기 땜납층을 가열하여 상기 패드와 상기 전자부품의 리드를 납땜하는 공정을 가지는 것을 특징으로 하는 회로기판으로의 전자부품의 실장방법.
  19. 19
    제18항에 있어서, 상기 석출반응은 가열에 의해 상기 페이스트 형상 조성물이 액체형성이 되었을때에 패드배열부상에 액체대기실이 형성되고, 또한 Sn 분말이 이 액체의 안으로 침강하여 있는 상태로 진행하는 것을 특징으로 하는 회로기판으로의 전자부품의 실장방법.
  20. 20
    제18항에 있어서, 상기 용제는 무 할로겐타입인 것을 특징으로 하는 회로기판으로의 전자부품의 실장방법.
  21. 21
    제18항에 있어서, 상기 땜납합금은 Pb가 풍부한 Sn-Pb 합금을 함유하고 있는 것을 특징으로 하는 회로기판으로의 전자부품의 실장방법.
  22. 22
    제18항에 있어서, 또한 상기 땜납층을 형성한 후 전자부품 재치전에 땜납층을 상면에서 가압하여 평탄화하는 공정을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 회로기판으로의 전자부품의 실장방법.
  23. 23
    제22항에 있어서, 상기 가압공정은 땜납층을 가열하면서 행하는 것을 특징으로 하는 회로기판으로의 전자부품의 실장방법.
Independent claims23