Nova Patents
JPS632887B2

Silicic acid preparation

Abstract

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Expired 7 February 2001, 25.6 years ago.

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7 claims: 7 independent, 0 dependent

  1. 1
    【特許請求の範囲】 1 下記の性質:【表】いて)【表】を有することを特徴とする疎水性沈殿ケイ酸。
  2. 2
    2 下記の性質:【表】て)を有する沈殿ケイ酸を10:0.5ないし10:3の割合の疎水化剤と共に処理しそして撹拌し、次いで得られた生成物を200ないし400°Cの温度において60ないし180分間熱処理にかけそして砕粉して微細な生成物を得ることを特徴とする、下記性質: 【表】を有する疎水性沈殿ケイ酸を製造する方法。
  3. 3
    3 下記の性質:【表】を有する疎水性沈殿ケイ酸を含有することを特徴とする、エラストマー用の補強充填剤。
  4. 4
    4 エラストマーとして加熱加硫性ジオルガノポリシロキサン-エラストマーを使用する特許請求の範囲第3項に記載の補強充填剤。
  5. 5
    5 エラストマーとして室温において硬化しうるオルガノポリシロキサンエラストマーを使用する特許請求の範囲第3項記載の補強充填剤。
  6. 6
    6 室温において硬化しうるオルガノポリシロキサンエラストマーとして2成分系-シリコーン樹脂成形用組成物を使用する特許請求の範囲第5項記載の補強充填剤。
  7. 7
    7 室温において硬化しうるオルガノポリシロキサンエラストマーとして一成分系-目地シーリング用組成物を使用する特許請求の範囲第5項記載の補強充填剤。
Independent claims7