JPH09248468A

Photocatalyst material, polyfunctional material using the same and its production

Abstract

[Task] Provided are a photocatalyst material capable of efficiently exerting purification and bactericidal action by the photocatalyst material, a method for producing the same, and a multifunctional material using the photocatalyst material.

Solution.The ultraviolet transmittance of the base material was 50% or more, the ultraviolet transmittance of the photocatalyst film was 3% or more, and the total ultraviolet transmittance of the laminated photocatalyst material was 0.1% or more. The photocatalytic material is produced by dipping in a liquid sol in which photocatalytic fine particles are dispersed, spray coating, or the like.

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Projected expiry passed 18 March 2016, 10.5 years ago.

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14 claims: 3 independent, 11 dependent

  1. 1
    【特許請求の範囲】 【請求項1】 基材に光触媒膜を形成することで構成される光触媒材であって、前記光触媒材の紫外線透過率が0.1%以上であることを特徴とする光触媒材。
  2. 2
    【請求項2】 基材に光触媒膜を形成することで構成される光触媒材であって、前記光触媒材の紫外線透過率が1%以上50%以下であることを特徴とする光触媒材。
  3. 3
    【請求項3】 請求項1または請求項2に記載の光触媒材において、前記基材は略球形状であることを特徴とする光触媒材。
  4. 4
    【請求項4】 請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の光触媒材において、前記基材の紫外線透過率は50%以上であることを特徴とすることを光触媒材。
  5. 5
    【請求項5】 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の光触媒材において、前記光触媒膜の紫外線透過率は3%以上であることを特徴とする光触媒材。
  6. 6
    【請求項6】 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の光触媒材において、前記光触媒膜の紫外線透過率は3%以上70%未満であることを特徴とする光触媒材。
  7. 7
    【請求項7】 請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の光触媒材において、前記光触媒膜はTiO 2 又はTiO 2 と金属塩の層からなることを特徴とする光触媒材。
  8. 8
    【請求項8】 請求項1乃至請求項7のいずれかに記載の光触媒材において、前記基材がガラスであることを特徴とする光触媒材。
  9. 9
    【請求項9】 請求項1乃至請求項8に記載の光触媒材が、直接或いはバインダ層を介して基板表面に保持されていることを特徴とする多機能材。
  10. 10
    【請求項10】 請求項9に記載の多機能材において、前記基板がタイル、ホーローまたは陶磁器であり、バインダー層は釉薬層または印刷層であることを特徴とする多機能材。
  11. 11
    【請求項11】 請求項1乃至請求項8に記載の光触媒材を製造する方法であって、この方法は、基材と光触媒分散液とを攪拌して基材表面に光触媒膜を形成した後、300°C以上900°C以下で焼成することを特徴とする光触媒材の製造方法。
  12. 12
    【請求項12】 請求項11に記載の光触媒材の製造方法において、前記基材を光触媒の金属塩水溶液に侵漬した後、光還元めっきし、さらに余剰金属塩を洗浄することを特徴とする光触媒材の製造方法。
  13. 13
    【請求項13】 請求項11又は請求項12に記載の光触媒材の製造方法において、前記基材と光触媒分散液との混合比は、基材100重量部に対し光触媒分散液を1.0重量部以上3.6重量部以下とすることを特徴とする光触媒材の製造方法。
  14. 14
    【請求項14】 請求項11乃至請求項13のいずれかに記載の光触媒材の製造方法において、前記基材を予め80°C以上110°C以下に加熱することを特徴とする光触媒材の製造方法。
Independent claims14