Nova Patents
JP6399321B2

Position measurement method, position control method, measurement method, loading method, exposure method, exoposure apparatus, and device production method

Abstract

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JP6399321B2, drawing sheet 1
Sheet 1 of 20

Term

Projected expiry 15 May 2037.

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  5. Projected expiry

20 claims: 2 independent, 18 dependent

  1. 1
    投影光学系と液体とを介して照明光で基板を露光する露光装置であって、 前記投影光学系の複数の光学素子のうち最も像面側に配置されるレンズの近傍に設けられ、前記液体によって前記投影光学系の下に液浸領域を形成するノズル部材と、 前記液浸領域と接触可能な上面と、前記上面の凹部内に配置されるホルダと、を有し、前記基板の表面と前記上面との間に間隙が形成されるように前記凹部内で前記基板を保持するステージと、 前記ステージを移動するモータを有する駆動系と、 前記ステージの位置情報を計測する計測系と、 前記投影光学系から離れた前記基板の交換位置に配置される前記ステージの上方に前記基板を搬送する搬送系と、 前記ステージの一部を検出する検出系と、 前記計測系によって計測される位置情報に基づいて前記駆動系を制御する制御装置と、を備え、 前記検出系の検出動作において、前記検出系によって 、 前記凹部の一部 、 又は前記凹部の内周エッジとの位置関係が既知の目印が 、 検出されるとともに、前記計測系によって前記ステージの位置情報が計測され、 前記制御装置は、前記検出系の検出情報と前記計測系によって計測される前記位置情報に基づいて前記計測系の座標系での前記凹部の位置情報を取得し、前記搬送系によって前記ステージの上方に搬送される基板が前記凹部内の前記ホルダにロードされるように、前記凹部の位置情報に基づいて前記駆動系と前記搬送系との少なくとも一方を制御する露光装置。
  2. 2
    請求項1に記載の露光装置において、 前記ロードにおいて前記基板が前記ステージの上面と接触せず、かつ前記ステージの上面と前記基板の表面との間隙が所定値より小さくなるように前記基板と前記ステージとの位置関係が設定される露光装置。
  3. 3
    請求項1又は2に記載の露光装置において、 前記基板は、前記間隙が0.3mm程度以下となる、あるいは、前記間隙が実質的に一様となるように前記凹部内で保持される露光装置。
  4. 4
    請求項1~3のいずれか一項に記載の露光装置において、 前記凹部の位置情報は、前記凹部の中心位置又は形状に関する情報を含む露光装置。
  5. 5
    請求項1~4のいずれか一項に記載の露光装置において、 前記ステージは、前記基板の表面が前記上面と実質的に同一面となるように前記凹部内で前記基板を保持するとともに、前記上面によって、前記凹部内で保持される基板から外れる前記液浸領域の少なくとも一部を維持可能である露光装置。
  6. 6
    請求項1~5のいずれか一項に記載の露光装置において、 前記ステージと異なるステージを、さらに備え、 前記異なるステージは、前記駆動系によって移動されるとともに、前記計測系によって位置情報が計測され、 前記制御装置は、前記ステージと前記異なるステージとの相対移動において、前記計測系の座標系での前記ステージの外周位置情報に基づいて前記駆動系を制御する露光装置。
  7. 7
    請求項6に記載の露光装置において、 前記制御装置は、前記駆動系を制御して、前記投影光学系と対向して配置される前記ステージに対して前記異なるステージが接近するように前記ステージと前記異なるステージとを相対移動するとともに、前記液浸領域を維持しつつ前記ステージの代わりに前記異なるステージが前記投影光学系と対向して配置されるように前記投影光学系に対して前記接近したステージおよび異なるステージを相対移動する露光装置。
  8. 8
    請求項7に記載の露光装置において、 前記基板のロード動作中、前記投影光学系と対向して配置される前記異なるステージによって前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持される露光装置。
  9. 9
    請求項6~8のいずれか一項に記載の露光装置において、 前記検出系の検出動作において、前記計測系によって前記ステージの位置情報が計測され、 前記制御装置は、前記検出系の検出情報と前記計測系の位置情報に基づいて前記外周位置情報を取得する露光装置。
  10. 10
    請求項1~9のいずれか一項に記載の露光装置を用いるリソグラフィ工程を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
  11. 11
    投影光学系と液体とを介して照明光で基板を露光する露光方法であって、 前記投影光学系の複数の光学素子のうち最も像面側に配置されるレンズの近傍に設けられるノズル部材によって、前記投影光学系の下に前記液体で液浸領域を形成することと、 前記液浸領域と接触可能な上面と、前記上面の凹部内に配置されるホルダと、を有するステージによって、前記基板の表面と前記上面との間に間隙が形成されるように前記凹部内で前記基板を保持するために、 前記投影光学系から離れた前記基板の交換位置に配置される前記ステージの上方に搬送される前記基板を、前記ホルダにロードすることと、 前記ステージの位置情報を計測する計測系の出力に基づいて前記ステージを移動することと、を含み、 前記計測系の座標系での前記凹部の位置情報を取得するために、前記計測系によって前記ステージの位置情報を計測しつつ前記ステージの一部を検出する検出系により 、 前記凹部の一部 、 又は前記凹部の内周エッジとの位置関係が既知の目印が 、 検出され、 前記ロードにおいて、前記凹部の位置情報に基づいて前記ホルダと前記基板との位置関係が調整される露光方法。
  12. 12
    請求項11に記載の露光方法において、 前記ロードにおいて前記基板が前記ステージの上面と接触せず、かつ前記ステージの上面と前記基板の表面との間隙が0.3mm程度以下となる、あるいは、前記間隙が実質的に一様となるように前記ホルダと前記基板との位置関係が設定される露光方法。
  13. 13
    請求項11又は12に記載の露光方法において、 前記ステージは、前記基板の表面が前記上面と実質的に同一面となるように前記凹部内で前記基板を保持するとともに、前記上面によって、前記凹部内で保持される基板から外れる前記液浸領域の少なくとも一部を維持可能である露光方法。
  14. 14
    請求項11~13のいずれか一項に記載の露光方法において、 前記ステージと異なるステージは、前記計測系によって位置情報が計測されつつ移動され、 前記計測系の座標系での前記ステージの外周位置情報に基づいて前記ステージと前記異なるステージとが相対移動される露光方法。
  15. 15
    請求項14に記載の露光方法において、 前記投影光学系と対向して配置される前記ステージに対して前記異なるステージが接近するように前記ステージと前記異なるステージとが相対移動されるとともに、前記液浸領域を維持しつつ前記ステージの代わりに前記異なるステージが前記投影光学系と対向して配置されるように前記投影光学系に対して前記接近したステージおよび異なるステージが相対移動される露光方法。
  16. 16
    請求項15に記載の露光方法において、 前記基板のロード動作中、前記投影光学系と対向して配置される前記異なるステージによって前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持される露光方法。
  17. 17
    請求項14~16のいずれか一項に記載の露光方法において、 前記外周位置情報を取得するために、前記計測系によって前記ステージの位置情報を計測しつつ前記検出系によって前記ステージの一部が検出される露光方法。
  18. 18
    請求項11~17のいずれか一項に記載の露光方法を用いるリソグラフィ工程を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
  19. 19
    請求項1に記載の露光装置において、 前記検出系の検出動作において、前記検出系によって 、 前記凹部 の複数箇所、 又は前記目印の複数箇所が 、 検出される露光装置。
  20. 20
    請求項11に記載の露光方法において、 前記検出系により 、 前記凹部 の複数箇所、 又は前記目印の複数箇所が、検出される露光方法。
Independent claims20