Nova Patents
JP6006594B2

Compositions and antireflective coatings for photolithography

Abstract

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JP6006594B2, drawing sheet 1
Sheet 1 of 38

Term

Projected expiry 20 September 2032.

  1. Priority and filed
  2. Granted
  3. Today
  4. Projected expiry

14 claims: 10 independent, 4 dependent

  1. 1
    少なくとも下記の:A)式1: (式中、Raは、1つまたは複数の多重結合を含み、ただし、Raが、2つ以上の多重結合を含む場合、これらの多重結合は、共役配置にはなく;R1、R2、およびR3は、各々独立して、アルコキシル、ヒドロキシル、ハライド、OC(O)R、またはOC(O)OR(式中、Rは、アルキルまたは置換アルキルである)から選択される)から選択される化合物F1;および B)式2: (式中、Rbは、Hまたはアルキル、アルキレン、もしくはアルキリデンを含む飽和基から選択され;R4、R5、およびR6は、各々独立して、アルコキシル、ヒドロキシル、ハライド、OC(O)R、またはOC(O)OR(式中、Rは、アルキルまたは置換アルキルである)から選択される)から選択される化合物F2;および C)式3: (式中、Rcは2つ以上の多重結合を含み、これらの多重結合は、共役配置にあり;R7、R8、およびR9は、各々独立して、アルコキシル、ヒドロキシル、ハライド、OC(O)R、またはOC(O)OR(式中、Rは、アルキルまたは置換アルキルである)から選択される)から選択される化合物F3;および D)式4: (式中、R10、R11、R12、およびR13は、各々独立して、アルコキシル、ヒドロキシル、ハライド、OC(O)R、またはOC(O)OR(式中、Rは、アルキルまたは置換アルキルである)から選択される)から選択される化合物F4を含 み、化合物F1が、化合物F1、F2、F3およびF4の合計モルを基準として、12モルパーセントを超える量で存在する、 第一組成物。
  2. 2
    化合物F1、F2、F3およびF4の合計重量を基準として、Si5重量パーセント以上を含む、請求項1に記載の第一組成物。
  3. 3
    化合物F2と化合物F4の合計モル量が、化合物F1、F2、F3およびF4の合計モルを基準として、40モルパーセント以上である、請求項1または請求項2に記載の第一組成物。
  4. 4
    化合物F4が、化合物F1、F2、F3およびF4の合計モルを基準として、10モルパーセントを超える量で存在する、請求項1から4のいずれかに記載の第一組成物。
  5. 5
    化合物F4が、化合物F1、F2、F3およびF4の合計モルを基準として、65モルパーセント未満の量で存在する、請求項 1~4 のいずれかに記載の第一組成物。
  6. 6
    請求項 1~5 のいずれかに記載の第一組成物から形成されるプレポリマー。
  7. 7
    プレポリマー請求項 6 、および下記の:アミン含有化合物、ハライド含有化合物、塩酸塩、アンモニウム含有化合物、またはそれらの混合物のうちの少なくとも1つを含む第二組成物。
  8. 8
    請求項 7 に記載の第二組成物から形成される架橋組成物。
  9. 9
    請求項 1~8 のいずれかに記載の組成物から形成される少なくとも1つの成分を含む物品。
  10. 10
    請求項1~ 8 のいずれかに記載の組成物から形成される少なくとも1つの層を含む膜。
  11. 11
    ポリマーを含む第三組成物から形成される第二の層をさらに含む、請求項 10 に記載の膜。
  12. 12
    基板上でコーティングを形成する方法であって、少なくとも下記の:基板を準備すること、 基板上で下層を形成すること(下層は、少なくとも1つのポリマーを含む)、 下層の上に請求項1~ 5 のいずれかに記載の第一組成物または請求項 7 に記載の第二組成物を塗布すること、および 第一組成物または第二組成物を硬化させ、コーティングを形成することを含む方法。
  13. 13
    第一組成物または第二組成物の複数の層が、下層の上に塗布される、請求項 12 に記載の方法。
  14. 14
    コーティングが、反射防止層である、請求項 12 または請求項 13 に記載の方法。
Independent claims14