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JP5967390B2

Exposure apparatus and exposure method

Abstract

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JP5967390B2, drawing sheet 1
Sheet 1 of 27

Term

Projected expiry 12 May 2035.

  1. Priority
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  3. Granted
  4. Today
  5. Projected expiry

20 claims: 14 independent, 6 dependent

  1. 1
    照明光でマスクを照明する照明光学系と、前記照明されたマスクのパターン像を基板上に投影する投影光学系と、を有し、前記投影光学系と液体とを介して前記照明光で前記基板を露光する液浸露光装置であって、 前記投影光学系を囲んで設けられ、前記液体を供給するノズル部材と、 前記投影光学系の上方に配置され、前記マスクを保持する第1移動体と、前記第1移動体を駆動する第1電磁モータと、を有する第1ステージシステムと、 前記マスクのマーク又は前記第1移動体のマークを検出する第1検出系と、 前記投影光学系の光軸と直交する所定面と実質的に平行に配置され、反射型格子を有する第1格子部に対して、それぞれ第1計測ビームを照射する複数の第1ヘッドを有し、前記第1電磁モータによって移動される前記第1移動体の位置情報を計測する第1エンコーダシステムと、 前記投影光学系の下方に配置され、前記基板を保持する第2移動体と、前記第2移動体を駆動する第2電磁モータとを有する第2ステージシステムと、 前記基板のマーク又は前記第2移動体のマークを検出する第2検出系と、 前記所定面と実質的に平行に配置され、反射型格子を有する第2格子部に対して、それぞれ第2計測ビームを照射する複数の第2ヘッドを有し、前記第2電磁モータによって移動される前記第2移動体の位置情報を計測する第2エンコーダシステムと、 前記基板の露光動作において、前記照明光に対して前記マスクと前記基板とをそれぞれ相対移動するために、前記第1エンコーダシステムの計測情報に基づいて前記第1電磁モータによる前記第1移動体の駆動を制御するとともに、前記第2エンコーダシステムの計測情報に基づいて前記第2電磁モータによる前記第2移動体の駆動を制御する制御システムと、を備え、 前記露光動作と、前記第1検出系による前記マークの検出動作とでそれぞれ、前記第1エンコーダシステムによって前記第1移動体の位置情報が計測され、 前記露光動作と、前記第2検出系による前記マークの検出動作とでそれぞれ、前記第2エンコーダシステムによって前記第2移動体の位置情報が計測され、 前記複数の第2ヘッドのうち前記第2格子部と対向する3つ又は4つの第2ヘッドによって前記第2移動体の位置情報が計測されるとともに、前記第2移動体の移動によって、前記第2格子部と対向する第2ヘッドが、前記3つの第2ヘッドと前記4つの第2ヘッドとの一方から他方に変化す る液浸露光装置。
  2. 2
    請求項1に記載の液浸露光装置において、 前記第1移動体に保持されるマスクの交換動作において、前記第1エンコーダシステムによって前記第1移動体の位置情報が計測される液浸露光装置。
  3. 3
    請求項1又は2に記載の液浸露光装置において、 前記第2移動体に保持される基板の交換動作において、前記第2エンコーダシステムによって前記第2移動体の位置情報が計測される液浸露光装置。
  4. 4
    請求項1~3のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、 前記制御システムは、前記第2格子部と前記第2ヘッドとの少なくとも一方に起因して生じる前記第2エンコーダシステムの計測誤差を補償しつつ前記第2移動体の駆動を制御する液浸露光装置。
  5. 5
    請求項4に記載の液浸露光装置において、 前記制御システムは、前記第2格子部に形成される格子のピッチと変形との少なくとも一方に関する補正情報を用いて前記第2移動体の駆動を制御する液浸露光装置。
  6. 6
    請求項4又は5に記載の液浸露光装置において、 前記制御システムは、前記第2ヘッドの倒れと光学特性との少なくとも一方に関する補正情報を用いて前記第2移動体の駆動を制御する液浸露光装置。
  7. 7
    請求項1~6のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、 前記第2ステージシステムは、それぞれ基板を保持する、前記第2移動体を含む複数の第2移動体を有し、 前記第2エンコーダシステムはその一部が前記第2検出系の周囲に配置されるとともに、前記複数の第2移動体の位置情報を計測する液浸露光装置。
  8. 8
    請求項1~ 7 のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、 前記第2格子部は、それぞれ格子が形成される複数のスケールを含み、 前記複数の第2ヘッドのうち前記複数のスケールにそれぞれ対向する第2ヘッドによって前記第2移動体の位置情報が計測される液浸露光装置。
  9. 9
    請求項 8 に記載の液浸露光装置において、 前記第2格子部は、前記スケールを4つ含み、 前記4つのスケールの少なくとも3つとそれぞれ対向する第2ヘッドによって前記第2移動体の位置情報が計測される液浸露光装置。
  10. 10
    照明光でマスクを照明するとともに、投影光学系と液体とを介して前記照明光で基板を露光する液浸露光方法であって、 前記投影光学系を囲んで設けられるノズル部材によって、前記投影光学系と前記基板との間に前記液体を供給することと、 前記投影光学系の上方に配置され、前記マスクを保持する第1移動体と、前記第1移動体を駆動する第1電磁モータと、を有する第1ステージシステムによって、前記マスクのマーク又は前記第1移動体のマークが第1検出系で検出されるように前記第1移動体を移動することと、 前記投影光学系の光軸と直交する所定面と実質的に平行に配置され、反射型格子を有する第1格子部に対して、それぞれ第1計測ビームを照射する複数の第1ヘッドを有する第1エンコーダシステムによって、前記第1電磁モータで駆動される前記第1移動体の位置情報を計測することと、 前記投影光学系の下方に配置され、前記基板を保持する第2移動体と、前記第2移動体を駆動する第2電磁モータとを有する第2ステージシステムによって、前記基板のマーク又は前記第2移動体のマークが第2検出系で検出されるように前記第2移動体を移動することと、 前記所定面と実質的に平行に配置され、反射型格子を有する第2格子部に対して、それぞれ第2計測ビームを照射する複数の第2ヘッドを有する第2エンコーダシステムによって、前記第2電磁モータで駆動される前記第2移動体の位置情報を計測することと、 前記基板の露光動作において、前記照明光に対して前記マスクと前記基板とをそれぞれ相対移動するために、前記第1エンコーダシステムの計測情報に基づいて前記第1電磁モータによる前記第1移動体の駆動を制御するとともに、前記第2エンコーダシステムの計測情報に基づいて前記第2電磁モータによる前記第2移動体の駆動を制御することと、を含み、 前記露光動作と、前記第1検出系による前記マークの検出動作とでそれぞれ、前記第1エンコーダシステムによって前記第1移動体の位置情報が計測され、 前記露光動作と、前記第2検出系による前記マークの検出動作とでそれぞれ、前記第2エンコーダシステムによって前記第2移動体の位置情報が計測され、 前記複数の第2ヘッドのうち前記第2格子部と対向する3つ又は4つの第2ヘッドによって前記第2移動体の位置情報が計測されるとともに、前記第2移動体の移動によって、前記第2格子部と対向する第2ヘッドが、前記3つの第2ヘッドと前記4つの第2ヘッドとの一方から他方に変化す る液浸露光方法。
  11. 11
    請求項 10 に記載の液浸露光方法において、 前記第1移動体に保持されるマスクの交換動作において、前記第1エンコーダシステムによって前記第1移動体の位置情報が計測される液浸露光方法。
  12. 12
    請求項 10 又は 11 に記載の液浸露光方法において、 前記第2移動体に保持される基板の交換動作において、前記第2エンコーダシステムによって前記第2移動体の位置情報が計測される液浸露光方法。
  13. 13
    請求項 10 ~ 12 のいずれか一項に記載の液浸露光方法において、 前記第2格子部と前記第2ヘッドとの少なくとも一方に起因して生じる前記第2エンコーダシステムの計測誤差が補償されつつ前記第2移動体の駆動が制御される液浸露光方法。
  14. 14
    請求項 13 に記載の液浸露光方法において、 前記第2格子部に形成される格子のピッチと変形との少なくとも一方に関する補正情報を用いて前記第2移動体の駆動が制御される液浸露光方法。
  15. 15
    請求項 13 又は 14 に記載の液浸露光方法において、 前記第2ヘッドの倒れと光学特性との少なくとも一方に関する補正情報を用いて前記第2移動体の駆動が制御される液浸露光方法。
  16. 16
    請求項 10 ~ 15 のいずれか一項に記載の液浸露光方法において、 前記第2移動体を含む複数の第2移動体によってそれぞれ基板が保持されるとともに、前記第2検出系の周囲に一部が配置される前記第2エンコーダシステムによって、前記複数の第2移動体の位置情報が計測される液浸露光方法。
  17. 17
    請求項 10 ~ 16 のいずれか一項に記載の液浸露光方法において、 前記第2格子部は、それぞれ格子が形成される複数のスケールを含み、 前記複数の第2ヘッドのうち前記複数のスケールにそれぞれ対向する第2ヘッドによって前記第2移動体の位置情報が計測される液浸露光方法。
  18. 18
    請求項 17 に記載の液浸露光方法において、 前記第2格子部は、前記スケールを4つ含み、 前記4つのスケールの少なくとも3つとそれぞれ対向する第2ヘッドによって前記第2移動体の位置情報が計測される液浸露光方法。
  19. 19
    デバイス製造方法であって、 請求項1~ 9 のいずれか一項に記載の液浸露光装置を用いて基板にパターンを転写するリソグラフィ工程を含むデバイス製造方法。
  20. 20
    デバイス製造方法であって、 請求項 10 ~ 18 のいずれか一項に記載の液浸露光方法を用いて基板にパターンを転写するリソグラフィ工程を含むデバイス製造方法。
Independent claims20