Nova Patents
JP5964594B2

Microchannel Apparatus

Abstract

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JP5964594B2, drawing sheet 1
Sheet 1 of 4

Term

Projected expiry 13 January 2032.

  1. Priority
  2. Filed
  3. Granted
  4. Today
  5. Projected expiry

6 claims: 4 independent, 2 dependent

  1. 1
    装置の 金属 内壁の少なくとも1つを、蒸着により形成されたAl 2 O 3 、SiO 2 、ZrO 2 、TiO 2 、およびこれらの組合せから選ばれた、0.05~10μmの厚さを有する金属酸化物層を含む緩衝層で被覆したマイクロチャネル装置であって、 前記緩衝層上に配置された、コロイド分散液を被覆して乾燥、焼成して堆積された金属酸化物を含有する金属酸化物界面層を含み、 かつ当該緩衝層は前記界面層とは異なる組成または異なる密度を有し、 前記内壁が反応室の少なくとも1つの壁を含み、且つ前記界面層上に配置された触媒活性材料を更に含む、マイクロチャネル装置。
  2. 2
    前記マイクロチャネル装置が、該装置に対する接続 部 また当該装置内における接続 部 を形成する 金属 チューブおよび 金属 パイプを有し、該装置に対する接続 部 または該装置内における接続 部 が蒸着により形成された前記緩衝層で被覆された内部金属表面を有する、請求項1に記載のマイクロチャネル装置。
  3. 3
    装置の 金属 内壁の少なくとも1つが反応室の少なくとも1つの壁を含み、かつ該壁を0.05~10μmの厚さを有する蒸着した金属酸化物層を含む緩衝層であって、Al 2 O 3 、TiO 2 、SiO 2 、ZrO 2 、およびこれらの組合せからなる群より選択された金属酸化物を含む緩衝層で被覆した装置であって、 前記 緩衝層の上に 金属酸化物を含む界面層を含み、 前記緩衝層は前記界面層と異なる組成または異なる密度を有し、且つ 前記界面層上に配置された触媒活性材料を更に含む、装置。
  4. 4
    装置の 金属 内壁の少なくとも1つが反応室の少なくとも1つの壁を含み、かつ該壁を0.05~10μmの厚さを有する蒸着した金属酸化物層を含む緩衝層であって、Al 2 O 3 、TiO 2 、SiO 2 、ZrO 2 、およびこれらの組合せからなる群より選択される金属酸化物を含む緩衝層で被覆した装置であって、 前記反応室が多孔質触媒モノリス又は一緒に積み重ねられているいくつもの多孔質触媒モノリスを備え、 該多 孔質触媒モノリスまたは一緒に積み重ねられているいくつもの多孔質触媒モノリスの厚みは1cm未満であ り 、 前記モノリスは充填された粉末床又はペレット又はマイクロチャネル壁上の被覆ではない、 装置。
  5. 5
    装置の 金属 内壁の少なくとも1つが反応室の少なくとも1つの壁を含み、かつ該壁を0.05~10μmの厚さを有する蒸着した金属酸化物層を含む緩衝層であって、Al 2 O 3 、TiO 2 、SiO 2 、ZrO 2 、およびこれらの組合せ からなる群より選択される金属酸化物 を含む緩衝層で被覆した装置であって、 前記緩衝層上に配置された、コロイド分散液を被覆して乾燥、焼成して堆積された金属酸化物を含有する金属酸化物界面層を更に含み、 前記内壁が反応室の少なくとも1つの壁を含み、且つ前記界面層上に配置された触媒活性材料を更に含む、装置。
  6. 6
    該 多孔質触媒モノリスまたは一緒に積み重ねられているいくつもの多孔質触媒モノリスの厚みは1~3mmである、請求項4に記載の装置。
Independent claims6