Nova Patents
JP5114425B2

Fumed silanized silica

Abstract

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JP5114425B2, drawing sheet 1
Sheet 1 of 19

Term

Projected expiry 5 December 2026.

  1. Priority
  2. Filed
  3. Granted
  4. Today
  5. Projected expiry

4 claims: 1 independent, 3 dependent

  1. 1
    以下の物理化学的データを有する 、ジメチルジクロロシランによって シラン化されたヒュームドシリカ:粒ゲージ値 (グラインドメーター値) 20μm未満突き固め密度 25~85g/l であって、 以下の物理化学的データを有するヒュームドシリカ: BET表面積: 25~400m 2 /g 平均一次粒子サイズ: 5nm~50nm pH: 3~10 炭素含有率: 0.1~10% が、 ジメチルジクロロシランによってシラン化され、次に粉砕されることによって得られたものである、 シラン化されたヒュームドシリカ。
  2. 2
    請求項1に記載のシラン化されたヒュームドシリカを製造する方法 であっ て、 以下の物理化学的データ を有するヒュームドシリカ :BET表面積: 25~400m 2 /g 平均一次粒子サイズ: 5nm~50nm pH: 3~10 炭素含有率: 0.1~10% を、 ジメチルジクロロシランによって シラン化し、次に粉砕することを特徴とする、請求項1に記載のシラン化されたヒュームドシリカを製造する方法。
  3. 3
    シリコーンゴム中の充填剤としての、請求項1に記載のシラン化されたヒュームドシリカ 又は請求項2記載の方法により得られたシラン化されたヒュームドシリカ の使用。
  4. 4
    以下の物理化学的データの特徴:粒ゲージ値 (グラインドメーター値) 20μm未満突き固め密度 25~85g/lを有する 、請求項1に記載のシラン化されたヒュームドシリカ又は請求項2記載の方法により得られた シラン化されたヒュームドシリカ0.5質量%~60質量%と、 以下の 式: Z n Si R 3-n -O-[Si R 2 O] x -Si R 3-n -Z’ n [式中、Rは、1~50個の炭素原子を有し、非置換もしくはO、S、F、Cl、Br、 もしくは Iによって置換され、それぞれの場合において同一もしくは異なる、アルケニル、アルコキシ、アリール、オキシム、アセトキシ、 もしくは アルキル基、並びに/又は40~10000の繰返単位を有するポリスチレン、ポリビニルアセテート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート もしくは ポリアクリロニトリル基であり、Zは、OH、Cl、Br、アセトキシ、アミノ、アミンオキシ、オキシム、アルコキシアミド、アルケニルオキシ、アクリルオキシ又はホスフェート基であり、その有機基は、20個までの炭素原子を有することが可能であり、かつそれぞれの場合において同一もしくは異なり、 Z ’は、オキシム、アルコキシ、アセトキシ、アミノ、 もしくは アミドであり、nは、1~3であり、 かつ、 xは、100~15000である]で示されるオルガノポリシロキサン40質量%~99.5質量%とを含有するシリコーンゴム コンパウンド 。