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JP4968076B2

Exposure apparatus and method

Abstract

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JP4968076B2, drawing sheet 1
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Expires 8 December 2026.

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32 claims: 6 independent, 26 dependent

  1. 1
    露光光が照射される基板を保持する基板保持装置であって、 基部と、 前記基部上に形成され、前記基板の裏面を支持する支持部と、 前記基部上に形成され、前記支持部に支持された前記基板の裏面と対向する第1上面を有し、前記支持部に支持された前記基板と前記基部との間の第1空間を囲む第1周壁と、 前記基部上に形成され、前記支持部に支持された前記基板の裏面とギャップを介して対向する第2上面を有し、前記第1周壁を囲む第2周壁と、 前記基部上に形成され、前記支持部に支持された前記基板の裏面と対向する第3上面を有し、前記支持部及び前記第2周壁を囲む第3周壁と、 前記第1周壁と前記第2周壁との間の第2空間へ気体を供給可能な流通口と、 前記第2周壁と前記第3周壁との間の第3空間の流体を吸引する第1吸引口と、を備えた基板保持装置。
  2. 2
    前記第1吸引口の吸引動作により、前記第2空間から前記ギャップを介して前記第3空間に向かう気体の流れを生成する請求項1記載の基板保持装置。
  3. 3
    前記気体の流れにより、前記第1空間及び前記第2空間に液体が浸入することを抑制する請求項2記載の基板保持装置。
  4. 4
    前記第2空間は、前記流通口を介して大気開放されている請求項1~3のいずれか一項記載の基板保持装置。
  5. 5
    前記流通口は、前記第1周壁と前記第2周壁との間の前記基部上で前記第1周壁の周方向に沿って所定間隔で複数形成されている請求項1~4のいずれか一項記載の基板保持装置。
  6. 6
    前記第1周壁と前記第2周壁との間の前記基部上に形成され、前記第1周壁を囲むように形成された第1溝をさらに備え、 前記流通口は、前記第1溝内に形成されている請求項1~5のいずれか一項記載の基板保持装置。
  7. 7
    前記第1吸引口は、前記第2周壁と前記第3周壁との間の前記基部上に形成され、前記第2周壁に沿って所定間隔で複数形成されている請求項1~6のいずれか一項記載の基板保持装置。
  8. 8
    前記第2周壁と前記第3周壁との間の前記基部上に形成され、前記第2周壁を囲むように形成された第2溝をさらに備え、 前記第1吸引口は、前記第2溝内に形成されている請求項1~7のいずれか一項記載の基板保持装置。
  9. 9
    前記支持部は、前記基部上において、前記第2周壁と前記第2溝との間、及び前記第2溝と前記第3周壁との間に配置された複数のピン状突起部を含む請求項8記載の基板保持装置。
  10. 10
    前記第3周壁は、前記支持部に支持された前記基板の裏面と前記第3上面とが接触するように形成される請求項1~9のいずれか一項記載の基板保持装置。
  11. 11
    前記第1周壁の内側、及び前記第2周壁と前記第3周壁との間の前記基部上に設けられ、前記第1空間及び前記第3空間を負圧にするために前記第1空間及び前記第2空間のそれぞれから流体を吸引する第2吸引口をさらに備えた請求項1~10のいずれか一項記載の基板保持装置。
  12. 12
    前記第1空間及び前記第3空間を負圧にすることによって、前記基板の裏面を前記支持部材で吸着保持する請求項11記載の基板保持装置。
  13. 13
    前記第2周壁と第3周壁との間において、前記第2吸引口は、前記第2周壁に対して前記第1吸引口よりも離れて形成される請求項11又は12記載の基板保持装置。
  14. 14
    前記基部上に形成され、前記支持部に支持された前記基板の裏面と対向する第4上面を有し、前記第3周壁を囲む第4周壁と、 前記第3周壁と前記第4周壁との間の流体を吸引する第3吸引口とをさらに備えた請求項1~13のいずれか一項記載の基板保持装置。
  15. 15
    前記第3吸引口は、前記第3周壁と前記第4周壁との間の前記基部上に形成され、前記第3周壁の周方向に沿って所定間隔で複数形成されている請求項14記載の基板保持装置。
  16. 16
    前記第3周壁と前記第4周壁との間の前記基部上に形成され、前記第3周壁を囲むように形成された第3溝をさらに備え、 前記第3吸引口は、前記第3溝内に形成されている請求項14又は15記載の基板保持装置。
  17. 17
    前記第3周壁と前記第4周壁との間の第4空間と、前記第3周壁に対して前記第4周壁の外側の外部空間との間で気体を流通可能な流路をさらに備える請求項14~16のいずれか一項記載の基板保持装置。
  18. 18
    前記流路は、前記第4周壁の一部に設けられたスリットを含む請求項17記載の基板保持装置。
  19. 19
    前記流路は、前記第4周壁の前記第4上面により形成される請求項17又は18記載の基板保持装置。
  20. 20
    前記支持部材に支持された前記基板の裏面と前記第1周壁の第1上面との間にはギャップが形成される請求項1~19のいずれか一項記載の基板保持装置。
  21. 21
    前記第1、第2、及び第3周壁はそれぞれ、前記基板の外形と実質的に相似な環状である請求項1~20のいずれか一項記載の基板保持装置。
  22. 22
    前記第1空間の中心と前記基板の中心とがほぼ一致するように前記基板を保持する請求項21記載の基板保持装置。
  23. 23
    請求項1~請求項22のいずれか一項記載の基板保持装置を備え、当該基板保持装置に保持された基板を液体を介して露光する露光装置。
  24. 24
    前記基板保持装置に対して前記基板を搬送可能な搬送装置を備え、 前記第1空間は、前記基板の裏面のうち前記搬送装置と接触する領域に応じて設定されている請求項23記載の露光装置。
  25. 25
    請求項23又は請求項24記載の露光装置を用いて基板を露光することと、 該露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
  26. 26
    液浸露光を行う露光方法において、 基板保持装置に基板を保持することと、 前記基板保持装置に保持された前記基板を露光することとを含み、 前記基板保持装置は、 基部と、 前記基部上に形成され、前記基板の裏面を支持する支持部と、 前記基部上に形成され、前記支持部に支持された前記基板の裏面と対向する第1上面を有し、前記支持部に支持された前記基板と前記基部との間の第1空間を囲む第1周壁と、 前記基部上に形成され、前記支持部に支持された前記基板の裏面とギャップを介して対向する第2上面を有し、前記第1周壁を囲む第2周壁と、 前記基部上に形成され、前記支持部に支持された前記基板の裏面と対向する第3上面を有し、前記支持部及び前記第2周壁を囲む第3周壁と、 前記第1周壁と前記第2周壁との間の第2空間へ気体を供給可能な流通口と、 前記第2周壁と前記第3周壁との間の第3空間の流体を吸引する第1吸引口と、を備える露光方法。
  27. 27
    前記基板の表面の一部に液体の液浸領域を形成することをさらに含み、 前記基板は前記液体を介して露光される請求項26記載の露光方法。
  28. 28
    前記基板の露光中に、前記第1吸引口を介して前記第3空間内の流体を吸引することをさらに含む請求項26又は27記載の露光方法。
  29. 29
    前記基板保持装置は、前記基部上に形成され、前記基板を吸着保持するために前記第1空間内の気体を吸引する第2吸引口をさらに備え、 前記第2吸引口を用いた吸引動作を開始した後に、前記第1吸引口を用いた吸引動作が開始される請求項26~28のいずれか一項記載の露光方法。
  30. 30
    前記基板の露光終了後、前記第2吸引口を用いた吸引動作を停止することと、 前記第2吸引口を用いた吸引動作を終了後に、前記第1吸引口を用いた吸引動作を停止することとを含む請求項29記載の露光方法。
  31. 31
    前記基板保持装置は、前記基部上に設けられ、前記第3周壁の外側に設けられた第3吸引口をさらに備え、 前記基板の露光終了後、前記第2吸引口を用いた吸引動作を停止する前に、前記第3吸引口を用いて、前記第3周壁の外側の流体を吸引することをさらに含む請求項30記載の露光方法。
  32. 32
    請求項26~請求項31のいずれか一項の露光方法を用いて基板を露光することと、 該露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
Independent claims32