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JP4932702B2

Methods of making an antistatic agent

Abstract

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JP4932702B2, drawing sheet 1
Sheet 1 of 21

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Expired 7 April 2025, 1.5 years ago.

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8 claims: 1 independent, 7 dependent

  1. 1
    以下の一般式(1)のスルホン酸ホスホニウム塩の製造方法であって、 水性媒質中で以下の一般式(2)の化合物を一般式(3)の化合物と混合 して、スルホン酸ホスホニウム生成物を水性媒質から沈殿させる 段階、及び 水性媒質から式(1)のスルホン酸ホスホニウムを 濾過及び洗浄によって 分離する段階を含んでなる方法。 (式中、各Xは、ハロゲン/水素のモル比が0.90超であることを条件として、独立にハロゲン又は水素であり、q+rが8未満であること及びpが0でないときはrが0を超えることを条件として、pは0又は1であり、q及びrは0~7の整数であり、各Rは炭素原子数1~18の同一又は異なる炭化水素基である。) (式中、MはLi又はNaであり、X、q、p及びrは上記で定義した通りである。) (式中、Zはハロゲンであり、Rは上記で定義した通りである。)
  2. 2
    Xがフッ素であり、Zが臭素又は塩素であり、3つのR基が炭素原子数1~8の同一の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数6~12の同一の芳香族炭化水素基であり、4番目のR基が炭素原子数1~18の炭化水素基である、請求項1記載の方法。
  3. 3
    pが0である、請求項2記載の方法。
  4. 4
    スルホン酸がペルフルオロメタンスルホン酸、ペルフルオロエタンスルホン酸、ペルフルオロプロパンスルホン酸、ペルフルオロブタンスルホン酸、ペルフルオロペンタンスルホン酸、ペルフルオロヘキサンスルホン酸、ペルフルオロヘプタンスルホン酸、ペルフルオロオクタンスルホン酸又はこれらのスルホン酸の1種以上を含む組合せであり、ホスホニウムがテトラメチルホスホニウム、テトラエチルホスホニウム、テトラブチルホスホニウム、トリエチルメチルホスホニウム、トリブチルメチルホスホニウム、トリブチルエチルホスホニウム、トリオクチルメチルホスホニウム、トリメチルブチルホスホニウム、トリメチルオクチルホスホニウム、トリメチルラウリルホスホニウム、トリメチルステアリルホスホニウム、トリエチルオクチルホスホニウム、テトラフェニルホスホニウム、トリフェニルメチルホスホニウム、トリフェニルベンジルホスホニウム、トリブチルベンジルホスホニウム、或いはこれらのホスホニウムの1種以上を含む組合せである、請求項1記載の方法。
  5. 5
    スルホン酸がペルフルオロメタンスルホン酸、ペルフルオロブタンスルホン酸、ペルフルオロヘキサンスルホン酸、ペルフルオロヘプタンスルホン酸、ペルフルオロオクタンスルホン酸又はこれらの有機スルホン酸陰イオンの1種以上を含む組合せであり、ホスホニウムがテトラブチルホスホニウムである、請求項4記載の方法。
  6. 6
    式(2)の化合物と式(3)の化合物とのモル比が1:1.001~1:1.5である、請求項1記載の方法。
  7. 7
    式(2)の化合物と式(3)の化合物とのモル比が1.001:1~1.5:1である、請求項1記載の方法。
  8. 8
    水性媒質が1体積%未満の非水性媒質を含む、請求項1記載の方法。
Independent claims8