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JP4875708B2

Novel phase change magnetic material

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Expired 17 October 2025, 0.9 years ago.

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16 claims: 10 independent, 6 dependent

  1. 1
    磁気効果及び相変化効果の両方を示す均一な相変化磁性複合材材料であって、 相変化材料成分及び強磁性材料成分を含み、 前記相変化材料成分がカルコゲニド合金を含み、 前記カルコゲニド合金が、Ge 2 Sb 2 Te 5 、GeSb 2 Te 4 、GeSb 3 Te 4 、GeSb 4 Te 7 、In 3 SbTe 2 、Ag 5 In 5 Sb 60 Te 30 、Sb 2 Se 3 、Sb 2 Te 3 、Sb 70 Te 30 、GeTe、GeSb及びSb 2 Te 3 -GeTeからなる群から選択される式を有する一つの系を含み、 磁性材料成分の原子群が、相変化材料成分の単位格子においてその結晶構造の乱れ/破壊を伴うことなく相変化材料成分の原子を置換する原子を含む、第1の磁気特性及び第1の相変化特性を伴う一つの単結晶相と、 第2の磁気特性及び第2の相変化特性を伴う非晶質相と、を有し、 前記材料が結晶相から非晶質相への相変化するとき、その相変化特性及びその磁気特性の両方における対応する変化を示す、相変化磁性複合材材料。
  2. 2
    前記第1及び前記第2の相変化特性はそれぞれが、電気抵抗率、熱伝導率、光反射率、屈折率、吸収係数、誘電率及び熱拡散係数から選択される少なくとも1つの特性を含む、請求項1に記載の相変化磁性材料。
  3. 3
    前記第1及び前記第2の磁気特性はそれぞれが、飽和磁化、保持磁界、異方性磁界、一軸異方性、スクエアネス、残留磁化、飽和磁束密度、キュリー温度及び補償温度から選択される少なくとも1つの特性を含む、請求項1又は2に記載の相変化磁性材料。
  4. 4
    結晶性状態、非晶質状態及び部分的結晶性状態から選択される少なくとも1つの物理的状態を示す、請求項1~3のいずれか一項に記載の相変化磁性材料。
  5. 5
    前記少なくとも1つの物理的状態のそれぞれにおいて、異なる電気特性、磁気特性、熱特性、結晶化特性及び光学特性を示す、請求項4に記載の相変化磁性材料。
  6. 6
    結晶性状態における前記材料が少なくとも約1エルステッドの保磁力を有する、請求項1~5のいずれか一項に記載の相変化磁性材料。
  7. 7
    前記材料の抵抗率ρが非晶質状態で1×10 -3 Ωcm ρ 1×10 3 Ωcmの範囲であり、結晶性状態で1×10 -4 Ωcm ρ 1×10 -1 Ωcmの範囲であり、非晶質状態と結晶性状態との間の前記材料の抵抗率の差が2~10 6 の大きさである、請求項1~6のいずれか一項に記載の相変化磁性材料。
  8. 8
    前記強磁性材料成分が、Fe、Co、Ni、FePt、CoPt、PdCo、TbFeCo、GdFeCo、CoCrPtB、CoCrPtTaからなる群から選択される、請求項1~ 7 のいずれか一項に記載の相変化磁性材料。
  9. 9
    下記の式(I)の組成:A x B y (式中、 Aは強磁性材料成分を示し;Bは相変化材料成分を示し;xはAの総原子パーセントを示し、ただし、1%≦x≦50%であり;yはBの総原子パーセントを示し、ただし、50%≦y≦99%である)を有する、請求項1~ 8 のいずれか一項に記載の相変化磁性材料。
  10. 10
    下記の式(II)の組成:A x B y C z (式中、 Aは強磁性 材料 成分を示し;Bは相変化 材料 成分を示し;Cはマンガン化合物成分を示し;xはAの総原子パーセントを示し、ただし、1%≦x≦40%であり;yはBの総原子パーセントを示し、ただし、40%≦y≦98%であり;zはCの総原子パーセントを示し、ただし、1%≦y≦20%である)を有する、請求項1~ 8 のいずれか一項に記載の相変化磁性材料。
  11. 11
    Aが、Co、Fe、Ni及びFe-Ptからなる群から選択され、 Bが、Ge-Sb-Te、Ge-Te、GeSb、InSbTe、Sb 70 Te 30 、Sb 2 Te 3 、Sb、Te及びAg-In-Sb-Teからなる群から選択される、 請求項 9又は10 に記載の相変化磁性材料。
  12. 12
    Co 6.3 Ge 31.1 Sb 27.1 Te 35.5 、Co 3.6 Ge 20.8 Sb 30.5 Te 44.9 、Co 2.8 Ge 17.9 Sb 31.9 Te 47.1 、Co 6.1 Ge 14.3 Sb 33 Te 46.5 、Co 3.0 Ge 18.5 Sb 30.1 Te 48.2 、Co 5.0 Ge 16.9 Sb 31.6 Te 46.5 、Co 1.5 Ge 17.3 Sb 32.9 Te 48.3 、Co 5.4 Ge 17.2 Sb 30.5 Te 46.9 、Co 2.0 Ge 17.7 Sb 32.5 Te 47.8 、Co 5.8 Ge 17.1 Sb 32.3 Te 44.8 、Co 4.6 Ge 14.9 Sb 33.4 Te 47.1 、Co 10.1 Ge 14.4 Sb 34.6 Te 40.9 、Co 26.1 Ge 17.2 Sb 22.1 Te 34.6 、Co 5.6 Ge 15.8 Sb 33.6 Te 45 、Fe 20.2 Ge 21.5 Sb 16.9 Te 41.4 、Fe 9.2 Ge 16.3 Sb 27.4 Te 47.2 、Fe 4.7 Ge 18.5 Sb 28.1 Te 48.6 、Fe 4.4 Ge 14.8 Sb 34.2 Te 46.6 、Fe 11.1 Ge 16 Sb 25.9 Te 47.1 、Fe 1.0 Ge 15.7 Sb 35.2 Te 48.2 、Fe 7.2 Ge 14.7 Sb 32.9 Te 45.2 、Fe 28.2 Pt 32.4 Ge 30.0 Te 9.3 、Fe 4.1 Pt 4.2 Ge 64.5 Te 27.1 、Fe 2.1 Pt 5.5 Ge 63.9. Te 28.4 、Fe 1.1 Pt 2.7 Ge 64.3 Te 31.9 、Fe 4.6 Pt 7.3 Ge 59.5 Te 28.6 、Fe 5.0 Pt 6.8 Ge 59.6 Te 28.6 、Fe 1.1 Pt 1.1 Ge 50.4 Te 31.1 、Fe 4.8 Pt 4.6 Ge 58.2 Te 32.4 、Fe 1.2 Pt 2.5 Ge 54.2 Te 41.9 、及びFe 1.0 Pt 2.0 Ge 62.1 Te 34.9 からなる群から選択される、請求項 9~11 のいずれか一項に記載の相変化磁性材料。
  13. 13
    材料の類似する結晶構造が前記相変化材料成分に少なくとも実質的に類似する、請求項1~ 12 のいずれか一項に記載の相変化磁性材料。
  14. 14
    前記材料の結晶構造の単位格子が相変化材料成分の少なくとも1個の原子及び磁性材料成分の少なくとも1個の原子を含む、請求項1~ 13 のいずれか一項に記載の相変化磁性材料。
  15. 15
    レーザーアブレーション、レーザー合成、スパッタリング、イオンプレーティング、化学気相成長(CVD)、プラズマ化学気相成長、有機金属気相成長、スピンコーティング、分子線エピタキシー、溶液ひきあげ法、熱加圧、真空溶融及び結晶成長から選択される方法によって合成される、請求項1~ 14 のいずれか一項に記載の相変化磁性材料。
  16. 16
    光学媒体、相変化ランダムアクセスメモリ(PCRAM)デバイス、磁気ランダムアクセスメモリ(MRAM)デバイス、固体メモリデバイス、センサーデバイス、論理デバイス、人工ニューロンネットワーク、認知デバイス、三レベルデバイス、制御デバイス、SOCデバイス及び半導体から選択されるデバイスにおける、請求項1~ 15 のいずれか一項に記載の相変化磁性材料の使用。
Independent claims16