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JP4444469B2

Optical displacement-measuring apparatus

Abstract

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JP4444469B2, drawing sheet 1
Sheet 1 of 16

Term

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Expired 7 August 2020, 6.1 years ago.

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11 claims: 3 independent, 8 dependent

  1. 1
    二軸方向に光学格子が形成されたスケールと、このスケールに対向して二軸方向に相対移動可能に配置されて相対移動を光学的に検出して変位信号を出力する受光素子アレイを有するセンサヘッドとを備え、前記センサヘッドの受光素子アレイは、基板と、この基板上に堆積された半導体膜により形成された、前記光学格子の第1軸方向に所定ピッチで配列されて第1軸方向の変位に対応する変位信号を出力する第1の受光素子群と、この第1の受光素子群を覆って形成された絶縁層と、この絶縁層上に堆積された半導体膜により形成された、前記光学格子の第2軸方向に所定ピッチで配列されて第2軸方向の変位に対応する変位信号を出力する第2の受光素子群とを有することを特徴とする光学式変位測定装置。
  2. 2
    前記基板は、前記第1及び第2の受光素子群が積層された面と反対側の面を光入射面とする透明基板であることを特徴とする請求項1記載の光学式変位測定装置。
  3. 3
    前記基板は、フレキシブル樹脂基板であることを特徴とする請求項1記載の光学式変位測定装置。
  4. 4
    前 記スケール及び受光素子アレイの少なくとも一方がフレキシブル樹脂基板に形成されている ことを特徴とする 請求項1記載の 光学式変位測定装置。
  5. 5
    前記センサヘッドの受光素子アレイは、フレキシブル樹脂基板と、このフレキシブル樹脂基板上に堆積された半導体膜により形成されて異なる位相の変位信号を出力する複数の受光素子とを有することを特徴とする請求項4記載の光学式変位測定装置。
  6. 6
    前記スケールは、一次元又は二次元の光学格子が形成された平面スケールであることを特徴とする請求項4記載の光学式変位測定装置。
  7. 7
    前記スケールは、一次元又は二次元の光学格子が形成された円筒スケールであることを特徴とする請求項4記載の光学式変位測定装置。
  8. 8
    前記スケールは、二次元の光学格子が形成された球面スケールであることを特徴とする請求項4記載の光学式変位測定装置。
  9. 9
    前記スケールは、二次元の光学格子が形成された自由曲面スケールであることを特徴とする請求項4記載の光学式変位測定装置。
  10. 10
    前記スケールは二次元の光学格子を有し、前記受光素子アレイは前記二次元の光学格子に対応して基板の異なる位置に形成された第1及び第2の受光素子群を有することを特徴とする請求項4記載の光学式変位測定装置。
  11. 11
    前記スケールは二次元の光学格子を有し、前記受光素子アレイは前記二次元の光学格子に対応して基板の同じ位置に絶縁層を介して積層形成された第1及び第2の受光素子群を有することを特徴とする請求項4記載の光学式変位測定装置。
Independent claims11