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JP4204331B2

Projection aligner

Abstract

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Expired 10 January 2023, 3.7 years ago.

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8 claims: 2 independent, 6 dependent

  1. 1
    所定位置に固定された光源によってプリント配線基板上に所定のパターンが形成されたマスクの像を転写しながら、前記マスクと前記プリント配線基板とを主走査方向に駆動して走査を行い、前記プリント配線基板に前記所定のパターンを形成する、投影露光装置であって、 前記マスクの像を前記プリント配線基板上に結像させる投影光学系と、 前記プリント配線基板の伸縮率を主走査方向および該主走査方向と垂直な副走査方向別に計測可能な伸縮率計測手段と、 前記伸縮率計測手段の前記プリント配線基板の主走査方向および副走査方向の伸縮率に基づいて投影光学系の伸縮率を設定する伸縮率設定手段と、 前記マスクと前記プリント配線基板とを主走査方向に駆動する駆動機構と、 前記伸縮率設定手段と前記駆動機構とを制御し、 前記マスクに対する前記プリント配線基板の駆動速度比をSR、 前記投影光学系の伸縮率をMgn p 、 前記プリント配線基板に露光される線幅によって決まる許容値をA、 前記プリント配線基板の主走査方向および副走査方向の伸縮率をそれぞれR x ,R y とすると、(R x -R y ) Aの時は、前記駆動速度比SRと前記伸縮率Mgn p は式、SR=(R x +R y +A)/2、およびMgn p =(R x +R y -A)/2、を満たし、|R x -R y |≦Aの時は、前記駆動速度比SRと前記伸縮率Mgn p は式SR=R x、 Mgn p =R y を満たし(R x -R y ) -Aの時は、前記駆動速度比SRと前記伸縮率Mgn p は式、SR=(R x +R y -A)/2、およびMgn p =(R x +R y +A)/2、を満たすようにする制御手段と、 を有することを特徴とする投影露光装置。
  2. 2
    前記伸縮率計測手段が前記プリント配線基板上の前記主走査方向と前記副走査方向にそれぞれ少なくとも2つ形成されたマーク間の距離をそれぞれ計測する基板観察手段を有し、前記伸縮率計測手段は前記基板観察手段の計測結果を用いて前記プリント配線基板の伸縮率を計測することを特徴とする、請求項1に記載の投影露光装置。
  3. 3
    前記プリント配線基板はその長手方向が前記主走査方向と平行になり、かつその短手方向が前記副走査方向と平行になるよう設置されており、前記マークは、前記プリント配線基板の4隅を頂点とする長方形の4頂点の位置に形成されており、前記伸縮率計測手段は前記プリント基板の長手および短手方向長さを前記プリント配線基板上の前記長方形の各2辺の平均値により求め、前記長手および短手方向長さをもとに前記プリント配線基板の伸縮率を計測することを特徴とする、請求項2に記載の投影露光装置。
  4. 4
    前記基板観察手段は、前記プリント配線基板を撮影する第1のカメラ手段と、前記第1のカメラ手段によって撮影された画像を画像処理して前記プリント配線基板上に形成されたマーク間の距離を計測する、第1の画像処理手段と、を有することを特徴とする、請求項2または請求項3のいずれかに記載の投影露光装置。
  5. 5
    前記伸縮率計測手段は、前記マスク上の前記主走査方向と前記副走査方向にそれぞれ少なくとも2つ形成されたマーク間の距離をそれぞれ計測するマスク観察手段を有し、前記伸縮率計測手段は前記基板観察手段の計測結果と前記マスク観察手段の計測結果を比較することによって前記プリント配線基板の伸縮率を計測することを特徴とする、請求項2から請求項4のいずれかに記載の投影露光装置。
  6. 6
    前記マスクはその長手方向が主走査方向と平行になりかつその短手方向が副走査方向と平行になるよう設置されており、前記マークは、前記マスクの4隅を頂点とする長方形の4頂点の位置に形成されており、前記伸縮率計測手段は前記マスクの長方形の各2辺の平均値を前記マスクの長手および短手方向長さとすることを特徴とする、請求項5に記載の投影露光装置。
  7. 7
    前記マスク観察手段は、前記マスクを撮影する第2のカメラ手段と、前記第2のカメラ手段によって撮影された画像を画像処理して前記マスク上に形成された前記マークを計測する、第2の画像処理手段と、を有することを特徴とする、請求項5または請求項6に記載の投影露光装置。
  8. 8
    所定位置に固定された複数の光源によってプリント配線基板上に所定のパターンが形成されたマスクの像を転写しながら、前記マスクと前記プリント配線基板とを主走査方向に駆動して走査を行い、前記プリント配線基板に前記所定のパターンを形成する、投影露光装置であって、 前記投影露光装置が、前記マスクの像を前記プリント配線基板上に結像させる複数の投影光学系と、 前記投影光学系の伸縮率を設定する伸縮率設定手段と、前記マスクと前記プリント配線基板とを主走査方向に駆動する駆動機構と、 前記伸縮率設定手段と前記駆動機構とを制御し、 前記マスクに対する前記プリント配線基板の駆動速度比をSR、前記投影光学系の伸縮率をMgn p 、前記プリント配線基板に露光される線幅によって決まる許容値をA、前記プリント配線基板の主走査方向および副走査方向の伸縮率をそれぞれR x ,R y とすると、(R x -R y ) Aの時は、前記駆動速度比SRと前記伸縮率Mgn p は式、SR=(R x +R y +A)/2、およびMgn p =(R x +R y -A)/2、を満たし、|R x -R y |≦Aの時は、前記駆動速度比SRと前記伸縮率Mgn p は式SR=R x、 Mgn p =R y を満たし(R x -R y ) -Aの時は、前記駆動速度比SRと前記伸縮率Mgn p は式、SR=(R x +R y -A)/2、およびMgn p =(R x +R y +A)/2、を満たすよう にする制御手段と、を有し、 前記マスクの像は、前記複数の投影光学系の伸縮率計測手段の計測結果に基づいて設定された伸縮率で前記プリント配線基板上に結像されることを特徴とする投影露光装置。
Independent claims8