JP3614079B2

Semiconductor device and method of manufacturing the same

Abstract

This record has no abstract on file.

JP3614079B2, drawing sheet 1
Sheet 1 of 3

Term

Term ended

Expired 24 March 2020, 6.5 years ago.

  1. Priority and filed
  2. Granted
  3. Expired
  4. Today

6 claims: 5 independent, 1 dependent

  1. 1
    第1の導体部材(3)の上に、第1の半田部材(4)を介して半導体素子(1、2)を接合する工程と、前記半導体素子の上に、前記第1の半田部材よりも融点の低い第2の半田部材(6)を介して第2の導体部材(7)を接合する工程と、しかる後、前記第2の半田部材のみをリフローさせた状態で、前記第2の導体部材の上方から加圧することにより、前記第1の導体部材と前記第2の導体部材との平行度を調整する工程とを備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。
  2. 2
    前記第2の半田部材(6)として、Snを90wt%以上含有してなるものを用いることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
  3. 3
    一対の導体部材(3、7)により、半導体素子(1、2)の両面を半田部材(4、6)を介して挟んでなる半導体装置において、 前記半導体素子は、2種類の半導体素子からなり、これら2種類の半導体素子のそれぞれの両面を前記半田部材を介して前記一対の導体部材により共通に挟んだ構成となっており、 前記一対の導体部材のうち一方側に位置する半田部材(6)は、他方側に位置する半田部材(4)よりも、融点が低いことを特徴とする半導体装置。
  4. 4
    一対の導体部材(3、7)により、半導体素子(1、2)の両面を半田部材(4、6)を介して挟んでなる半導体装置において、 前記一対の導体部材のうち一方側に位置する半田部材(6)は、他方側に位置する半田部材(4)よりも、融点が低く、この 融点の低い方の半田部材(6)は、Snを90wt%以上含有してなるものであることを特徴とす る 半導体装置。
  5. 5
    一対の導体部材(3、7)により、半導体素子(1、2)の両面を半田部材(4、6)を介して挟んでなる半導体装置において、 前記一対の導体部材のうち一方側に位置する半田部材(6)は、他方側に位置する半田部材(4)よりも、融点が低く、この 融点の低い方の半田部材(6)が配設される方の前記導体部材(7)には、凹部(7c)が形成され、この凹部内に前記融点の低い方の半田部材が配設されていることを特徴とす る 半導体装置。
  6. 6
    前記一対の導体部材(3、7)は、前記半導体素子(1、2)の電極として機能するとともに、前記半導体素子の放熱を行う放熱部材の機能を有するものであることを特徴とする請求項3ないし5のいずれか1つに記載の半導体装置。
Independent claims6