JP2014123761A

Substrate processing apparatus with motors integral to chamber walls

Abstract

Problem to be solved.To provide a miniaturized device by accommodating a drive unit of a substrate transport device in a chamber wall. A substrate transfer device (20, 22) is located in a peripheral wall between a peripheral wall having an inner surface that defines a substrate transfer chamber 14T1 (2) capable of maintaining an isolated atmosphere, and an inner surface and an adjacent outer surface of the peripheral wall. At least one substantially ring-shaped motor having at least one stator module and the surface of the peripheral wall surrounded by the ring-shaped motor are connected to a predetermined device and at least one rotor and at least one substrate. At least one rotor suspended in the transport chamber with virtually no contact to be configured for mounting at least one board transport arm with at least one end effector configured to hold And are included. [Selection diagram] Fig. 1

JP2014123761A, drawing sheet 1
Sheet 1 of 31

Term

7.4 yearsto projected expiry

Projected expiry 17 February 2034, counted from filing; an application has no term until it is granted.

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  5. Projected expiry

11 claims: 2 independent, 9 dependent

  1. 1
    基板処理装置であって、 所定の雰囲気を保持できる少なくとも1つの隔離可能なチャンバを有するフレームと、少なくとも1枚の基板を搬送するよう構成されている、前記少なくとも1つの隔離可能なチャンバ内に少なくとも部分的に位置する基板搬送装置と、 を含み、前記基板搬送装置は、 前記少なくとも1つの隔離可能なチャンバの周壁内に取り外し可能に埋め込まれた少なくとも2つのネスト化されたステータモジュールセットと、前記少なくとも1つの隔離可能なチャンバ内に位置する少なくとも2つのリング形状のロータと、前記少なくとも2つのリング形状のロータに結合され、基板を保持するための少なくとも1つのエンドエフェクタを有する少なくとも1本の搬送アームと、を含み、 前記少なくとも2つのネスト化されたステータモジュールセットのうちの少なくとも1つのセットは、前記少なくとも2つのネスト化されたステータモジュールセットのうちの他のセット内にネスト化された2つ以上のステータモジュールを含み、 前記少なくとも2つのリング形状のロータの各々は、前記少なくとも2つのネスト化されたステータモジュールセットによって少なくとも2つのネスト化されたモータに接触することなく支持されており、前記少なくとも2つのネスト化されたモータの1つは、前記少なくとも2つのネスト化されたモータの他の1つにより包囲されており、 前記少なくとも2つのネスト化されたモータは、前記少なくとも1本の搬送アームに少なくとも2自由度の動きをもたらすことを特徴とする基板処理装置。
  2. 2
    前記少なくとも1つの隔離可能なチャンバの妨げのない底面を介して、前記少なくとも1つの隔離可能なチャンバに結合された、真空/通気システムをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
  3. 3
    前記少なくとも2つのネスト化されたステータモジュールセットは、前記リング形状のロータの各々にトルク及び自己支持力を印可し、前記少なくとも1本の搬送アームの動きを生じさせるように構成されていることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
  4. 4
    前記少なくとも1つの隔離可能なチャンバは、前記少なくとも1つのステータモジュールを前記周壁内に挿入するために、前記少なくとも1つの隔離可能なチャンバの少なくとも1つの側面上に少なくとも1つの開口部を備えることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
  5. 5
    前記少なくとも1つの隔離可能なチャンバは、直列構成で配置された少なくとも2つの隔離可能なチャンバを備えることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
  6. 6
    前記少なくとも2つの隔離可能なチャンバの1つは、対称的な基板搬送装置を含み、前記少なくとも2つの隔離可能なチャンバの他の1つは、左右相称の基板搬送装置を含むことを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
  7. 7
    基板搬送装置であって、 基板搬送チャンバを形成するフレームと、 前記基板搬送チャンバの周壁上に互いに離間して周方向に分配された2つ以上のステータモジュールからなるステータモジュールセットを含み、少なくとも1つの共通リングロータを含む少なくとも1つのモータと、 前記少なくとも1つの共通リングロータに接続され、各々が基板を支持するように構成された少なくとも1つのエンドエフェクタと、を含み、 前記ステータモジュールの各々は前記周壁に独立して取り付けられることが可能であり、前記少なくとも1つの共通リングロータは、接触することなく前記共通のリングロータを支持する前記ステータモジュールの各々と共に動作し、 前記ステータモジュールセットおよび前記少なくとも1つの共通リングロータは、前記少なくとも1つのエンドエフェクタのモータに少なくとも1自由度の動きをもたらすよう構成されていることを特徴とする基板搬送装置。
  8. 8
    前記少なくとも1つの共通リングロータは、前記ステータモジュールの各々のステータの巻線と共に動作することを特徴とする請求項7に記載の基板搬送装置。
  9. 9
    前記少なくとも1つのロータは、前記少なくとも1つのステータモジュールのステータの巻線によって支持されていることを特徴とする請求項7に記載の基板搬送装置。
  10. 10
    前記ロータの各々は、前記ステータモジュールセットの各1つのステータの巻線によって支持されていることを特徴とする特徴とする請求項7に記載の基板搬送装置。
  11. 11
    前記少なくとも2つのロータの各々は、前記少なくとも2つのネスト化されたステータモジュールの各1つのステータの巻線によって支持されていることを特徴とする特徴とする請求項7に記載の基板処理装置。
Independent claims11