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JP2012248902A

Exposure apparatus and device manufacturing method

Abstract

Problem to be solved.To provide an exposure apparatus capable of forming a desired device pattern on a substrate by removing unnecessary liquid when a pattern is projected onto a substrate via a projection optical system and a liquid for exposure. An exposure device is an exposure device that projects an image of a pattern onto a substrate via a projection optical system and a liquid to expose the substrate, and is on a component arranged near the image plane of the projection optical system. It is equipped with a liquid removal mechanism that removes the liquid remaining in the screen. [Selection diagram] Fig. 3

JP2012248902A, drawing sheet 1
Sheet 1 of 28

Term

Projected expiry 18 September 2032.

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40 claims: 7 independent, 33 dependent

  1. 1
    投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影し、前記基板を露光する露光装置において、前記投影光学系の像面付近に配置された部品上に残留した液体を除去する液体除去機構を備えたことを特徴とする露光装置。
  2. 2
    前記液体除去機構は前記部品に付着した液体を吸引する吸引装置を有することを特徴とする請求項1記載の露光装置。
  3. 3
    前記液体除去機構は前記部品に気体を吹き付けることを特徴とする請求項1又は2記載の露光装置。
  4. 4
    前記部品は、前記投影光学系の先端の部品を含むことを特徴とする請求項1~3のいずれか一項記載の露光装置。
  5. 5
    液体の供給を行う液体供給機構を更に備え、前記部品は、前記液体供給機構の供給ノズルを含むことを特徴とする請求項1~4のいずれか一項記載の露光装置。
  6. 6
    液体の回収を行う液体回収機構を更に備え、前記部品は、前記液体回収機構の回収ノズルを含むことを特徴とする請求項1~5のいずれか一項記載の露光装置。
  7. 7
    前記部品は、前記基板の露光中に液体に接触することを特徴とする請求項1~6のいずれか一項記載の露光装置。
  8. 8
    前記投影光学系の像面側で移動可能なステージを更に含むことを特徴とする請求項1~7のいずれか一項記載の露光装置。
  9. 9
    前記部品は、前記ステージの少なくとも一部、又は前記ステージに設けられている部品を含むことを特徴とする請求項8記載の露光装置。
  10. 10
    前記部品は、前記基板ステージに設けられている計測部材を含むことを特徴とする請求項9記載の露光装置。
  11. 11
    前記部品は、前記基板ステージに設けられている基準部材を含むことを特徴とする請求項9又は10記載の露光装置。
  12. 12
    前記投影光学系からの露光光を透過する光透過部を有する上板と、該上板の光透過部を通過した光を受光する受光系とを有する計測系を更に備え、前記部品は、前記計測系の上板を含むことを特徴とする請求項9~11のいずれか一項記載の露光装置。
  13. 13
    前記液体除去機構の少なくとも一部は、前記基板ステージに設けられていることを特徴とする請求項8~12のいずれか一項記載の露光装置。
  14. 14
    前記部品表面は撥液性であることを特徴とする請求項1~13のいずれか一項記載の露光装置。
  15. 15
    前記液体除去機構は、前記部品表面の所定領域に残留している液体を、その所定領域の外側へ移動させることを特徴とする請求項1、3~14のいずれか一項記載の露光装置。
  16. 16
    前記液体除去機構は、清浄な気体又は乾燥気体を使って、前記液体の除去を行うことを特徴とする請求項1、3~15のいずれか一項記載の露光装置。
  17. 17
    前記液体除去機構は、清浄な窒素ガスを使用することを特徴とする請求項16記載の露光装置。
  18. 18
    前記液体除去機構は、前記部品を洗浄した後に液体除去を行うことを特徴とする請求項1~17のいずれか一項記載の露光装置。
  19. 19
    前記部品表面の状態を検出する検出装置を更に備えたことを特徴とする請求項1~18のいずれか一項記載の露光装置。
  20. 20
    前記液体除去機構は、露光前または露光後に、前記投影光学系の像面付近に配置された部品上に残留した液体を除去することを特徴とする請求項1~19のいずれか一項記載の露光装置。
  21. 21
    更に、露光中に基板上の液体を回収する液体回収機構を備えることを特徴とする請求項1~20のいずれか一項記載の露光装置。
  22. 22
    前記液体除去機構は、前記ステージ上に設けられた部品上に残留した液体を除去する第1液体除去機構と、前記投影光学系の先端に残留した液体を除去する第2液体除去機構とを備えることを特徴とする請求項8~21のいずれか一項記載の露光装置。
  23. 23
    前記液体除去機構は、前記ステージに設けられ且つ前記ステージから上方に向かって気体を噴出す気体吹き付けノズルを備えることを特徴とする請求項8~22のいずれか一項記載の露光装置。
  24. 24
    前記液体除去機構を制御する制御装置を備え、前記制御装置は基板のアンロード時に液体除去機構による液体除去を実行するように前記液体除去機構を制御することを特徴とする請求項1~23のいずれか一項記載の露光装置。
  25. 25
    更に、液浸領域の液体に接触する光学部材と、フォーカス検出系とを備え、前記フォーカス検出系から射出された光が光学部材と液体とを透過して基板に到達することを特徴とする請求項1記載の露光装置。
  26. 26
    前記液体除去機構は、基板面方向に移動可能な気体噴出し部を有することを特徴とする請求項1記載の露光装置。
  27. 27
    前記液体除去機構は、前記液体と気体とを選択的に噴射するノズルを備える装置であることを特徴とする請求項1記載の露光装置。
  28. 28
    更に、前記液体を供給する液体供給機構を備え、液体供給機構からの液体と、前記液体除去機構のノズルからの気体との流路を切り換える流路切換装置を備えることを特徴とする請求項27記載の露光装置。
  29. 29
    更に、前記気体噴出しノズルを備えた液体受け部材と、液体受け部材を投影光学系に相対して移動させるアクチュエータとを備えることを特徴とする請求項26に記載の露光装置。
  30. 30
    前記気体噴出し部に、基板に正又は負の圧力を選択的に加える系を備えることを特徴とする請求項26記載の露光装置。
  31. 31
    基板上の一部に液浸領域を形成し、投影光学系と液体とを介して前記基板上にパターンの像を投影することによって、前記基板を露光する露光装置において、前記基板を保持して移動可能な基板ステージと、前記液浸領域を形成するために液体の供給を行う液体供給機構と、前記基板上の液体を回収する第1液体回収機構と、前記基板ステージに設けられた回収口を有し、前記基板の露光終了後に液体の回収を行う第2液体回収機構とを備えたことを特徴とする露光装置。
  32. 32
    前記基板の露光終了後に、前記第1及び第2液体回収機構の両方を使って液体の回収を行うことを特徴とする請求項31記載の露光装置。
  33. 33
    前記基板の露光中に前記液浸領域を形成するために、前記液体供給機構による液体供給と前記第1液体回収機構による液体回収とを同時に行うことを特徴とする請求項31又は32記載の露光装置。
  34. 34
    前記第2液体回収機構は、前記基板の露光中に前記基板の外側に流出した液体の回収を行うことを特徴とする請求項31~33のいずれか一項記載の露光装置。
  35. 35
    更に、前記第1及び第2液体回収機構とは異なる液体除去機構を備えることを特徴とする請求項31~34のいずれか一項記載の露光装置。
  36. 36
    投影光学系と液体とを介して基板上に露光光を照射することによって、前記基板を露光する露光装置において、前記投影光学系の像面側付近に配置される部品の表面状態を検出する検出装置を備えたことを特徴とする露光装置。
  37. 37
    前記検出装置は、前記部品表面に付着した異物を検出することを特徴とする請求項36記載の露光装置。
  38. 38
    前記部品表面は、前記投影光学系の最も像面側の光学素子表面を含むことを特徴とする請求項36又は37記載の露光装置。
  39. 39
    更に、前記部品表面を洗浄する洗浄装置と、前記洗浄装置を制御する制御装置とを備え、前記制御装置は前記検出装置の検出結果に応じて洗浄装置を動作することを特徴とする請求項36~38のいずれか一項記載の露光装置。
  40. 40
    請求項1~請求項39のいずれか一項記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイス製造方法。
Independent claims40