JP2009514770A

Substrate which is equipped with a stack having thermal properties

Abstract

The present invention presents one modification of n functional layers (40) that have reflective properties in infrared and / or sunlight, in particular a metallic functional layer based on silver or a metal alloy containing silver, and (n + 1). A substrate (10) to which a thin film multilayer coating containing an individual dielectric film (20, 60) (where n 1) is attached, particularly a transparent glass substrate, wherein the dielectric film is one layer or It consists of multiple layers (22, 24, 62, 64), at least one of which is made of dielectric material, so each functional layer (40) is between at least two dielectric films (20, 60). In the substrate (10) placed in, the at least one functional layer (40) includes a blocker film (30, 50) consisting of at least one boundary layer (32, 52) in direct contact with the functional layer. Moreover, the present invention relates to a substrate (10) characterized in that the boundary layer is made of titanium oxide TiOx.

JP2009514770A, drawing sheet 1
Sheet 1 of 4

Term

Projected expiry 8 November 2026.

  1. Priority
  2. Filed
  3. Published
  4. Today
  5. Projected expiry

11 claims: 3 independent, 8 dependent

  1. 1
    赤外線及び/又は太陽光線で反射的性質を有するn個の機能層(40)の1変更、特に銀又は銀を含む金属合金をベースにした金属機能層と、(n+1)個の誘電体膜(20、60)(ここでn≧1)とを含む薄膜多層コーティングが取り付けられた基板(10)、特に透明のガラス基板であって、該誘電体膜は、誘電体材料でできた少なくとも1つを含む1つの層もしくは複数の層(22、24、62、64)からなり、従って各機能層(40)は、少なくとも2つの誘電体膜(20、60)の間に置かれている基板(10)において、 少なくとも1つの機能層(40)は、該機能層と直接接触した少なくとも1つの境界層(32、52)からなるブロッカー膜(30、50)を含み、かつ前記境界層は酸化チタンTiO 2 をベースとすることを特徴とする基板(10)。
  2. 2
    多層コーティングは、3つの膜(20、60、100)と互い違いの2つの機能層(40、80)を含むことを特徴とする、請求項1に記載の基板(10)。
  3. 3
    TiOxで作製された境界層(32、52)は部分的に酸化され、ここで1.5≦x≦1.98であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の基板(10)。
  4. 4
    境界層(32、52)は、5nm未満、好ましくは0.5~2nmの幾何学的厚さを有することを特徴とする、請求項1~3のいずれか1項に記載の基板(10)。
  5. 5
    境界層(32、52)は、次の物質:Ti、V、Mn、Co、Cu、Zn、Zr、Hf、Al、Nb、Ni、Cr、Mo、Taの少なくとも1つ、又はこれらの物質の少なくとも1つをベースにした合金から選択される1つ又はそれ以上の化学元素を含むことを特徴とする、請求項1~4のいずれか1項に記載の基板(10)。
  6. 6
    境界層(32、52)は、セラミックターゲットを使用して非酸化雰囲気中で沈着されることを特徴とする、請求項1~5のいずれか1項に記載の基板(10)。
  7. 7
    ブロッカー膜(30、50)は、1つ又はそれ以上の他の層をさらに含むことを特徴とする、請求項1~6のいずれか1項に記載の基板(10)。
  8. 8
    ブロッカー膜(30、50)は0.5~5nmの幾何学的厚さを有し、さらには、少なくとも2つの層を含む場合、1~10nmの厚さを有することを特徴とする、請求項1~7のいずれか1項に記載の基板(10)。
  9. 9
    任意に少なくとも1つの他の基板を組合せた、請求項1~8のいずれか1項に記載の少なくとも1つの基板(10)を組み込んだガラス。
  10. 10
    モノリシックガラス又は2重ガラス型もしくは積層ガラス型の多重ガラスとして取り付けられたガラスであって、多層コーティングを支持した少なくとも1つの基板は湾曲ガラス又は強化ガラスで作製されていることを特徴とする、請求項9に記載のガラス。
  11. 11
    薄膜多層コーティングを、スパッタリングの真空法、可能ならマグネトロンスパッタリングタイプにより基板(10)の上に沈積させること、及び境界層(32、52)を、セラミックターゲットを使用して非酸化雰囲気中で沈着させることを特徴とする、請求項1~8のいずれか1項に記載の基板(10)の製造方法。
Independent claims11