JP2005294833A

Circuit board and its manufacturing method, and electric assembly and information processing system using the same

Abstract

Problem to be solved.To provide a circuit board including a circuit board combined with another circuit board having a smaller density pattern of through holes, which also provides a method for making an electrical assembly and a board. Provided is an information processing system incorporating the circuit board of the present invention as a part. A circuit board comprising a first layer comprising a resin material having a certain amount of particles and having an electrical insulator that does not contain continuous fibers, semi-continuous fibers or the like. A circuit board in which one circuit layer is placed on an electrically insulating layer. [Selection diagram] Fig. 6

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34 claims: 5 independent, 29 dependent

  1. 1
    回路基板であって、 定量の粒子を有する樹脂材料を含み、連続的な繊維、半連続的な繊維、または同様のものを一部としても含まない電気的絶縁体を含む第1層を含み、前記第1層上に置かれた少なくとも一つの回路層を含むことを特徴とする回路基板。
  2. 2
    前記第1層は複数のスルーホールを含み、前記回路基板の厚みに対する前記スルーホールそれぞれの直径の比率が約2:1から20:1の範囲内にある請求項1記載の回路基板。
  3. 3
    前記複数の粒子は、シリカもしくはセラミックの少なくともいずれか一方を含む請求項1の回路基板。
  4. 4
    前記粒子それぞれの大きさが、約200Åから35μmの範囲内にある請求項3記載の回路基板。
  5. 5
    前記少なくとも一つの回路層が、銅を含む請求項3記載の回路基板。
  6. 6
    さらに、前記少なくとも一つの回路層の反対側の前記第1層上に置かれた第2回路層を含む請求項1記載の回路基板。
  7. 7
    前記第1層の中に複数の導電性スルーホールを含み、前記伝導性スルーホールの選択されたいくつかは、前記少なくとも一つの回路層の選択された部分を前記第2回路層の選択された部分に電気的に結合する、請求項6記載の回路基板。
  8. 8
    前記回路基板はチップキャリアを含む請求項7記載の回路基板。
  9. 9
    さらに、前記少なくとも一つの回路層及び前記第2回路層上にそれぞれに置かれた前記第2、第3の電気的絶縁体層を含み、第2、第3の電気的絶縁体層上にそれぞれに形成された第3、第四の回路層を含む請求項6記載の回路基板。
  10. 10
    前記粒子は、前記電気的絶縁体層の体積の約10~80パーセントから成る請求項1記載の回路基板。
  11. 11
    電気アセンブリであって、 定量の粒子を有する樹脂材料を含み、連続的な繊維、半連続的な繊維、または同様なものを一部一部としても含まない電気的絶縁体を含む第1層を含み、 前記第1層上に少なくとも一つの回路層を含み、 前記回路基板の上に電気的に結合された少なくとも一つの電子部品を含む、回路基板を有する電気アセンブリ。
  12. 12
    複数のスルーホールを含む前記回路基板の前記第1層を含み、前記回路基板の厚みの縦横比が2:1から20:1の範囲である請求項11記載の電気アセンブリ。
  13. 13
    前記複数の粒子が、シリカまたはセラミックの少なくともいずれか一方を含む請求項11記載の電気アセンブリ。
  14. 14
    前記粒子それぞれの大きさが、約200Åから35μmの範囲内にある請求項13記載の電気アセンブリ。
  15. 15
    前記少なくとも一つの回路層が、銅を含む請求項14記載の電気アセンブリ。
  16. 16
    さらに、前記第1層の少なくとも一つの回路層の反対側に前記第1層上に置かれた第2回路層を含む請求項11記載の電気アセンブリ。
  17. 17
    さらに、前記第1層の中に複数の導電性スルーホールを含み、前記伝導性スルーホールの選択されたいくつかは、前記少なくとも一つの回路層の選択された部分を前記第2回路層の選択された部分に電気的に結合する、請求項16記載の電気アセンブリ。
  18. 18
    前記回路基板は、チップキャリアを含み、前記の少なくとも一つの回路層は、半導体チップを含む請求項17記載の電気アセンブリ。
  19. 19
    さらに、前記少なくとも一つの回路層及び前記第2回路層上にそれぞれに置かれた前記第2、第3の電気的絶縁体層を含み、第2、第3の電気的絶縁体層上にそれぞれに形成された第3、第4の回路層を含む請求項16記載の電気アセンブリ。
  20. 20
    前記粒子は、前記電気的絶縁体層の体積の約10~80パーセントから成る請求項16記載の電気アセンブリ。
  21. 21
    回路基板を作る方法であって、 定量の粒子を有する樹脂材料を含み、連続的な繊維、半連続的な繊維、または同様のものを、一部としても含まない電気的絶縁体を有する第1層を提供し、 前記電気的絶縁体の前記第1層上に、少なくとも一つの回路層を置くことを含む回路基板の製造方法。
  22. 22
    前記第1層の中に、前記回路基板の厚みの縦横比が2:1から20:1の範囲内である複数のスルーホールを提供する請求項21記載の回路基板の製造方法。
  23. 23
    前記複数のスルーホールを、レーザを使用することにより前記第1層の中に設ける請求項22記載の回路基板の製造方法。
  24. 24
    さらに、前記の少なくとも一つの回路層の反対側の前記第1層上に置かれた第2回路層を含む請求項21記載の回路基板の製造方法。
  25. 25
    前記第1層の中に複数の導電性スルーホールを提供することを含み、前記第1層は、前記伝導性スルーホールの選択されたいくつかが、前記少なくとも一つの回路層の選択された部分を前記第2回路層の選択された部分に電気的に結合するような層である請求項24記載の回路基板の製造方法。
  26. 26
    さらに、少なくとも一つの電気部品を、前記第1電気的絶縁体の前記第1層上に少なくとも一つの前記回路層を電気的に結合することを含む請求項19記載の回路基板の製造方法。
  27. 27
    多層回路構造であって、定量の粒子を有する樹脂材料を含み、連続的な繊維、半連続的な繊維、または同様のものを、一部としても含まない電気的絶縁体を有する第1層を含む第1回路基板を含み、前記第1層上に少なくとも一つの回路基板が置かれており、前記回路基板が結合された伝導性スルーホールの第1密度の第1パターンを有し、 前記第1回路基板部の反対側に置かれた回路基板部を含み、その第2、第3の回路基板それぞれが、前記第1回路基板部の前記伝導スルーホール接続前記第1密度より低密度なスルーホール接続第2パターンを有し、前記第1回路基板部は、前記第2、第3回路基板部間の電気的接続を備えることを含む多層回路構造。
  28. 28
    前記多層回路構造はプリント回路基板である請求項27記載の多層回路構造。
  29. 29
    前記多層回路構造はチップキャリアである請求項27記載の多層回路構造。
  30. 30
    前記チップキャリア及びその形成部上または内に少なくとも一つの半導体チップを有する請求項29記載の多層回路構造。
  31. 31
    情報処理システムであって、定量の粒子を有する樹脂材料を含み、連続的な繊維、半連続的な繊維または同様のものを、一部としても含まない電気的絶縁体を含む第1層を含み、少なくとも一つの回路層が、前記第1層に置かれている回路基板と、前記回路基板上に置かれ、電気的に結合された少なくとも一つの電気部品を一部として含むことを特徴とする情報処理システム。
  32. 32
    前記情報処理システムはパーソナルコンピュータを含む請求項31記載の情報処理システム。
  33. 33
    前記情報処理システムは、メインフレームコンピュータを含む請求項31記載の情報処理システム。
  34. 34
    前記情報処理システムは、コンピュータサーバーを含む請求項31記載の情報処理システム。
Independent claims34