JP2001089141A

Coating agent for forming inorganic film, method of producing the same and method of forming the same inorganic film

Abstract

[Task] A coating agent for forming an inorganic film is provided.

Solution.A coating agent for forming an inorganic film, which is obtained by reacting a titanium monomer containing a group that hydrolyzes to a hydroxyl group and / or a low condensate thereof with a hydrogen peroxide solution in the presence of a titanium oxide sol.

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16 claims: 2 independent, 14 dependent

  1. 1
    【特許請求の範囲】 【請求項1】 酸化チタンゾルの存在下で、加水分解して水酸基になる基を含有するチタンモノマー及び/又はその低縮合物を過酸化水素水と反応させて得られることを特徴とする無機膜形成用塗布剤。
  2. 2
    【請求項2】 上記加水分解して水酸基になる基を含有するチタンモノマーが、一般式 Ti(OR) 4 (式中、Rは同一もしくは異なって炭素数1~5のアルキル基を示す)であることを特徴とする請求項1に記載の無機膜形成用塗布剤。
  3. 3
    【請求項3】 上記低縮合物が、縮合度2~30であることを特徴とする請求項1又は2に記載の無機膜形成用塗布剤。
  4. 4
    【請求項4】 加水分解して水酸基になる基を含有するチタンモノマー及び/又はその低縮合物と過酸化水素水との混合割合が、チタンモノマー及び/又はその低縮合物10重量部に対して過酸化水素換算で0.1~100重量部の範囲内であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の無機膜形成用塗布剤。
  5. 5
    【請求項5】 過酸化水素水中に加水分解して水酸基になる基を含有するチタンモノマー及び/又はその低縮合物を添加することを特徴とする無機膜形成用塗布剤の製造方法。
  6. 6
    【請求項6】 請求項1の無機膜形成用塗布剤を、基材に塗布あるいは含浸させ、乾燥あるいは加熱処理して形成させて得られることを特徴とする無機膜形成方法。
  7. 7
    【請求項7】 請求項1の酸化チタンゾルがアナターゼ型である場合、無機膜形成用塗布剤を、基材に塗布あるいは含浸させ、乾燥あるいは加熱処理して形成させて得られる光に対して活性な膜であることを特徴とする無機膜形成方法。
  8. 8
    【請求項8】 請求項1の酸化チタンゾルがアナターゼ型である場合、無機膜形成用塗布剤を、基材に塗布あるいは含浸させ、乾燥あるいは加熱処理して形成させて得られる抗菌性に優れた膜であることを特徴とする無機膜形成用方法。
  9. 9
    【請求項9】 請求項1の酸化チタンゾルがアナターゼ型である場合、無機膜形成用塗布剤を、基材に塗布あるいは含浸させ、乾燥あるいは加熱処理して形成させて得られる親水性に優れた膜であることを特徴とする無機膜形成方法。
  10. 10
    【請求項10】 請求項1の酸化チタンゾルがアナターゼ型である場合、無機膜形成用塗布剤を、基材に塗布あるいは含浸させ、乾燥あるいは加熱処理して形成させて得られる耐汚染性に優れた膜であることを特徴とする無機膜形成方法。
  11. 11
    【請求項11】 請求項1の酸化チタンゾルがアナターゼ型である場合、無機膜形成用塗布剤を、基材に塗布あるいは含浸させ、乾燥あるいは加熱処理して形成させて得られる防曇性に優れた膜であることを特徴とする無機膜形成方法。
  12. 12
    【請求項12】 請求項1の酸化チタンゾルがアナターゼ型である場合、無機膜形成用塗布剤を、基材に塗布あるいは含浸させ、乾燥あるいは加熱処理して形成させて得られるガス分解性膜であることを特徴とする無機膜形成方法。
  13. 13
    【請求項13】 請求項1の酸化チタンゾルがアナターゼ型である場合、無機膜形成用塗布剤を、基材に塗布あるいは含浸させ、乾燥あるいは加熱処理して形成させて得られる脱臭性に優れた膜であることを特徴とする無機膜形成方法。
  14. 14
    【請求項14】 請求項1の酸化チタンゾルがアナターゼ型である場合、無機膜形成用塗布剤を、基材に塗布あるいは含浸させ、乾燥あるいは加熱処理して形成させて得られる水処理に優れた膜であることを特徴とする無機膜形成方法。
  15. 15
    【請求項15】 請求項1の酸化チタンゾルがアナターゼ型である場合、無機膜形成用塗布剤を、基材に塗布あるいは含浸させ、乾燥あるいは加熱処理して形成させて得られるエネルギー変換膜であることを特徴とする無機膜形成方法。
  16. 16
    【請求項16】 請求項1の酸化チタンゾルがアナターゼ型である場合、無機膜形成用塗布剤を、基材に塗布あるいは含浸させ、乾燥あるいは加熱処理して形成させて得られる脱色性に優れた膜であることを特徴とする無機膜形成方法。
Independent claims16