Nova Patents
FI79917C

Rotatable sputtering apparatus.

Abstract

A magnetron cathode for sputter-coating non-planar substrates, which includes a rotatable elongated tubular member having a layer of the coating material to be sputtered applied to the outer surface thereof, and magnetic means mounted in said tubular member, said tubular member being contoured longitudinally to provide a non-cylindrical sputtering surface.

FI79917C, drawing sheet 1
Sheet 1 of 3

Term

Term ended

Expired 16 April 2005, 21.4 years ago.

  1. Priority
  2. Filed
  3. Granted
  4. Expired
  5. Today

11 claims: 2 independent, 9 dependent

  1. 1
    Patenttivaatimukset 1. Sputterointikatodi ei-tasomaisten alustojen (S) sputterointipäällystystä varten, joka katodi (11) käsittää pyöritettävän, pitkänomaisen putkimaisen osan (16), jossa on sputteroitavan päällystysaineen (20) kerros levitettynä sen ulkopinnalle, tunnettu siitä, että putkimainen osa (16) on muotoiltu pitkittäissuunnassa siten, että se muodostaa ei-sylinterimäisen sputterointipinnan.
  2. 2
    Patenttivaatimuksen 1 mukainen sputterointikatodi, tunnettu siitä, että putkimainen osa (16) on muodoltaan olennaisesti tynnyrimäinen.
  3. 3
    Patenttivaatimuksen 1 mukainen sputterointikatodi, tunnettu siitä, että putkimaisella osalla (16) on ei-sylinterimäinen profiili.
  4. 4
    Patenttivaatimuksen 1 mukainen sputterointika- todi, tunnettu siitä, että putkimainen osa (16) vaihtelee läpimitaltaan sen pituussuunnassa.
  5. 5
    Patenttivaatimuksen 1 mukainen sputterointika- todi, tunnettu siitä, että siihen kuuluu magneettilaite (55), joka on kiinnitetty putkimaiseen osaan (16).
  6. 6
    Patenttivaatimuksen 5 mukainen sputterointikatodi, tunnettu siitä, että magneettilaite (55) ulottuu pitkittäisesti putkimaiseen osaan (16) nähden ja on muotoiltu vastaamaan putkimaisen osan ääriviivaa (17, 18, 19).
  7. 7
    Magnetronikatodin sisältävä sputterointilaite, johon kuuluu päällystyskammio (10), josta kaasu voidaan poistaa, laitteeseen kiinnitetty sputterointikatodi (11) ei-tasomaisten alustojen (S) sputterointipäällystystä varten, katodin käsittäessä pyöritettävän pitkänomaisen putkimaisen osan (16), jossa on sputteroitavan 7991 7 päällystysaineen (20) kerros levitettynä sen ulkopinnalle ja jonka sisäpuolelle on kiinnitetty magneettilaite (55) ja lisäksi laite putkimaisen osan pyörittämiseksi sen pituusakselin ympäri, sekä laite päällystettävien alustojen siirtämiseksi putkimaisen osan suhteen suuntaan, joka on kohtisuorassa sen pituusakseliin nähden, tunnettu siitä, että putkimainen osa (16) on muotoiltu pitkittäissuunnassa siten, että se muodostaa ei-sylinterimäisen sputterointipinnan.
  8. 8
    Patenttivaatimuksen 7 mukainen magnetronikatodin sisältävä sputterointilaite, tunnettu siitä, että putkimainen osa (16) on muodoltaan olennaisesti tynnyrimäinen.
  9. 9
    Patenttivaatimuksen 7 mukainen magnetronikatodin sisältävä sputterointilaite, tunnettu siitä, että putkimaisella osalla (16) on ei-sylinterimäinen profiili.
  10. 10
    Patenttivaatimuksen 7 mukainen magnetronikatodin sisältävä sputterointilaite, tunnettu siitä, että putkimainen osa (16) vaihtelee läpimitaltaan sen pituussuunnassa.
  11. 11
    Patenttivaatimuksen 7 mukainen magnetronikatodin sisältävä sputterointilaite, tunnettu siitä, että magneettilaite (55) ulottuu putkimaisen osan (16) pituussuunnassa ja on ääriviivaltaan muotoiltu siten, että se vastaa putkimaisenosan ääriviivaa (17, 18, 19).
Independent claims11